董光宇, 李 蔚, 袁 翠
( 1. 華東理工大學材料科學與工程學院,上海200237;2. 上海三思電子工程有限公司,上海200050)
隨著5G時代的到來,信息通訊技術得到高速發(fā)展,微波介質材料[1]也得到相應發(fā)展。Al2O3[2]作為一種微波介質材料[3-7]被廣泛應用于諧振器、陶瓷基板、衛(wèi)星通訊器件中[8-9],有關Al2O3陶瓷微波介電性能的研究也越來越多。Yuan等[10]研究了半透明多晶Al2O3陶瓷顯微結構和微波介電性能,在1800 ℃的H2氣氛中燒結4 h得到Q×f(Q為品質因數(shù),f為諧振頻率)值約為3×105GHz。Zhang等[11]研究了MgO/Nb2O5共摻雜對Al2O3陶瓷顯微結構和微波介電性能的影響,0.05%MgO-0.05%Nb2O5共摻雜樣品于1550 ℃下燒結4 h后其Q×f值為2.17×105GHz。
然而,由于環(huán)境保護、節(jié)能減排的要求,如何降低陶瓷材料的燒結溫度也受到人們的廣泛關注。Huang等[12]以納米Al2O3為原料,在1450 ℃下燒結4 h得到相對密度超過97%、Q×f值約為5×105GHz的Al2O3陶瓷。文獻[13-16]通過摻雜不同添加劑來降低Al2O3陶瓷的燒結溫度。近年來,CuO-TiO2-Nb2O5摻雜的樣品因為其降溫效果突出而引起了人們的重視。如Shigeno等[17]研究了CuO-TiO2-Nb2O5共摻雜對Al2O3陶瓷燒結性能和微波介電性能的影響,在Al2O3陶瓷中摻雜質量分數(shù)10%的CuO-TiO2-Nb2O5后在1000 ℃下燒結,得到密度約為3.9 g/cm3、Q×f值為9100 GHz的燒結樣品。Yang等[18]在樣品中摻雜質量分數(shù)5%的CuO-TiO2-Nb2O5(物質的量之比為4∶1∶2),在975 ℃下燒結2 h后,樣品密度為3.92 g/cm3,說明該復合添加劑大大降低了燒結溫度,然而由于CuO-TiO2-Nb2O5添加量較大,所得樣品的Q×f值卻只有7400 GHz。
本文在Al2O3陶瓷中摻入質量分數(shù)為1%的0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5(均為質量分數(shù),下同)復合添加劑,研究其對Al2O3陶瓷的低溫燒結情況、顯微結構以及微波介電性能的影響。
Al2O3粉體:純度>99.9%,比表面積2.383 m2/g,池州特乃博先進材料有限公司;CuO粉末,分析純,國藥集團化學試劑有限公司;TiO2粉末,分析純,國藥集團化學試劑有限公司;Nb2O5粉末,分析純,國藥集團化學試劑有限公司;去離子水,華東理工大學自制。球磨機:型號QQM/B,咸陽金紅通用機械有限公司。
(1) 采用阿基米德排水法測量樣品的密度。
(2) 采用X射線衍射(XRD)儀(德國Karlsruhe公司的Bruker D8 Advance型)分析樣品相組成:Cu靶Kα射線,工作電壓和電流分別為40 kV和40 mA,掃描步長為0.02,掃描范圍為10°~80°,掃描速率為6(°)/min。
(3) 采用Hakki-Coleman介電共振網絡法,網絡分析儀(E8362型, Agilent Technologies, Loveland, CO)測定微波介電性能,設備測試頻率范圍:2~20 GHz,本實驗樣品在室溫頻率10 GHz下測試。
(4) 采用掃描電子顯微鏡(SEM,日本Hitach公司TM-3030型)觀察樣品的顯微結構。
(5) 采用動態(tài)激光散射(DLS)儀(英國馬爾文儀器有限公司Malven Zetasizer Nano ZS型)測量粉體粒徑分布,測試溫度25 ℃±0.1 ℃。
以Al2O3粉體為原料,摻雜質量分數(shù)為1%的0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5復合添加劑作為粉料。以去離子水為介質,以氧化鋯為研磨球,按粉料、去離子水、研磨球質量比為1∶2∶3配比后,在轉速為45 r/min的球磨機上球磨12 h。球磨完畢后取出漿料,在80 ℃烘箱中干燥12 h。將干燥后的粉料研磨,加入適量黏結劑經過80目(180 μm)篩網過篩造粒,而后壓制成直徑約16 mm、高度約8 mm的圓柱形樣品。將樣品放入高溫試驗爐中,在不同溫度(1100 ~1250 ℃)下燒結5 h。待冷卻后取出得到樣品,進行后續(xù)的表征和性能測試。
圖1是Al2O3粉體的XRD衍射圖,可以看出原料僅為單一的剛玉相(JCPDS file No.10-0173),并未發(fā)現(xiàn)其他物相;圖2是Al2O3粉體的SEM圖,可以看出原料顆粒團聚在一起呈不規(guī)則形貌;圖3是Al2O3粉體粒徑分布圖,可見Al2O3原料總體粒徑分布范圍在300~4000 nm,主要集中分布在1500~2000 nm。
圖1 Al2O3粉體XRD衍射圖Fig. 1 XRD patterns of the Al2O3 powder
圖2 Al2O3粉體的SEM圖Fig. 2 SEM image of the Al2O3 powder
圖3 Al2O3粉體粒徑分布圖Fig. 3 Particle size distribution diagram of the Al2O3 powder
圖4所示是0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5共摻雜樣品和未摻雜樣品在不同燒結溫度的密度曲線。從圖中可以看到,0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5共摻雜樣品的密度隨著燒結溫度的升高而不斷增加,當燒結溫度為1100 ℃時,材料密度為3.638 g/cm3;當燒結溫度為1150 ℃時,材料密度達3.822 g/cm3(相對密度96.0%);當溫度繼續(xù)升高到1200 ℃,樣品密度已經高達3.920 g/cm3(相對密度98.5%);進一步提高燒結溫度到1250 ℃,樣品密度繼續(xù)小幅升高到3.924 g/cm3(相對密度98.6%)。與之相比,未摻雜復合添加劑的樣品在1250 ℃時燒結密度僅只有2.400 g/cm3。這一結果表明:摻雜0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5可以有效地降低Al2O3陶瓷的燒結溫度。燒結溫度降低的原因可能有兩點:一是Al2O3、CuO、TiO2、Nb2O5在燒結過程中可形成低共熔相,產生的液相有利于燒結過程進行[19-21];二是Ti4+、Cu2+和Nb5+都可固溶在Al2O3晶格中,形成空位并使晶格產生畸變,從而使燒結活性提高。此外,Ti4+、Cu2+和Nb5+彼此之間起到電荷補償作用,會進一步增加固溶度[19-21],促進Al2O3陶瓷燒結。
圖4 不同Al2O3陶瓷樣品在不同燒結溫度下的密度曲線Fig. 4 Density curve of the different Al2O3 ceramic samples at different sintering temperatures
圖5是0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5共摻雜Al2O3陶瓷樣品在不同燒結溫度下的XRD衍射圖。比較圖5和圖1可以看出不同燒結溫度下主晶相都呈現(xiàn)出剛玉相(JCPDS file No.10-0173)特征,但在31°左右可以觀察到一個很小的衍射鋒,通過與標準圖譜對比分析,推測是0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5摻雜過程中形成的某種雜相。
圖5 0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5共摻雜Al2O3陶瓷樣品在不同燒結溫度下的XRD衍射圖Fig. 5 XRD patterns of the 0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5 codoped Al2O3 samples at different sintering temperatures
圖6是未摻雜Al2O3陶瓷樣品在1250 ℃燒結溫度下的SEM圖,可觀察到大量連通的大氣孔,晶粒較小。未摻雜的Al2O3樣品無法在此低溫下燒結致密。
圖6 未摻雜Al2O3陶瓷樣品在1 250 ℃燒結溫度下的SEM圖Fig. 6 SEM images of undoped Al2O3 samples sintered at 1 250 ℃
圖7是0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5共摻雜Al2O3陶瓷樣品在不同燒結溫度下的背散射SEM圖。從圖7可以看出,隨著燒結溫度的升高,樣品的顯微結構出現(xiàn)了明顯的變化。當燒結溫度為1100 ℃時(圖7(a)),樣品中有較多氣孔存在;當燒結溫度升高到1150 ℃時(圖7(b)),氣孔明顯減少;當溫度繼續(xù)升高時(圖7(c)、7(d)),氣孔數(shù)也進一步減少。這一變化與圖4所示的密度變化吻合。另外,當燒結溫度較低(1100 ℃)時,所獲材料的晶粒尺寸較小,分布較均勻;當燒結溫度升高到1150 ℃時,晶粒依然保持均勻,但尺寸有所增大;而當燒結溫度升高到1200 ℃時,晶粒開始明顯長大,甚至出現(xiàn)了異常長大晶粒;隨著燒結溫度進一步升至1250 ℃時,晶粒異常長大現(xiàn)象已經十分明顯。從圖7中還可以觀察到顆粒之間存在少量白色物質,結合圖5進行分析,這應該是復合添加劑在燒結過程中所產生的雜相物質。值得注意的是,這種白色物質在低溫下的SEM圖中并不明顯,說明隨著溫度的升高這些物質會發(fā)生聚集或增多。
圖7 0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5共摻雜Al2O3陶瓷樣品在不同燒結溫度下的SEM圖Fig. 7 SEM images of the 0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5 co-doped Al2O3 samples at different sintering temperatures
圖8所示是0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5共摻雜Al2O3陶瓷樣品在不同燒結溫度下的介電常數(shù)(εr)和Q×f值變化曲線。從圖8可以看出,隨著燒結溫度上升介電常數(shù)隨之增大。當燒結溫度從1100 ℃升高至1150 ℃時,介電常數(shù)從8.90左右提高到9.55;當燒結溫度從1200 ℃升高到1250 ℃時,介電常數(shù)從9.85增加到9.99。對比圖8和圖4可以看到,介電常數(shù)和燒結密度的變化趨勢相似。這一現(xiàn)象與很多已有的研究結果相似[11,18],因為密度越高,氣孔越少(氣孔的介電常數(shù)=1),材料的介電常數(shù)也越高[12,19]。由圖8還可以看出,Q×f值隨著溫度上升呈現(xiàn)出先增大后減小的趨勢。當燒結溫度從1100 ℃升高至1150 ℃時,Q×f值從11000 GHz左右迅速提升至64632 GHz,顯然這種變化與材料密度的提高相關[8,12]。隨著燒結溫度進一步升高,Q×f值反而略有下降,這與燒結密度及介電常數(shù)的變化趨勢并不一致,其原因可以從以下幾個方面解釋:有研究表明[11,22-25],當陶瓷相對密度高于95%時,孔隙率對Q×f值影響有限。在本研究中,樣品在溫度高于1150 ℃時燒結相對密度≥96.0%。所以,存在孔隙率外的其他因素導致Q×f值減小。又有研究者[26-27]發(fā)現(xiàn),當晶粒異常長大因而均勻性變差時,會導致Q×f值減小。由圖7(c)和圖7(d)可知,晶粒在1200 ℃時異常長大,在1250 ℃時更加顯著,因而可能導致Q×f值有所減小。此外,在圖7中觀察到隨著燒結溫度升高,晶界處其他相白色物質含量也略有增加或聚集,這也可能是Q×f值減小的原因之一[28-30]。
圖8 0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5共摻雜Al2O3陶瓷樣品在不同燒結溫度下的介電常數(shù)和Q×f值Fig. 8 Dielectric constant and Q×f value of the 0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5 co-doped Al2O3 samples at different sintering temperatures
(1) 摻雜質量分數(shù)1%的0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5可有效降低Al2O3陶瓷的燒結溫度。當燒結溫度高于1150 ℃時,可獲得較高的相對密度(≥96.0%)。但更高的燒結溫度下會導致晶粒異常長大和雜相物質增加或聚集。
(2) 質量分數(shù)1%的0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5共摻雜Al2O3陶瓷的介電常數(shù)隨著燒結溫度的升高而增大,Q×f值則隨著溫度的上升先增大后減小。在1150 ℃燒結的質量分數(shù)1%的0.4%CuO-0.5%TiO2-0.1%Nb2O5摻雜Al2O3陶瓷可以獲得最佳的微波介電性能,介電常數(shù)為9.55,Q×f值為64632 GHz。