郝英澤
(黑龍江省慶達(dá)水利水電工程有限公司,哈爾濱 150080)
為保證基坑邊坡工程的穩(wěn)定,常需進(jìn)行降水工程和地基防滲措施。降水工程可降低坑外地下水位,保證土體開挖的穩(wěn)定性,避免造成坑內(nèi)外的地面不均勻沉降。同時為防止水向坑內(nèi)滲流造成坑內(nèi)外的水頭差,出現(xiàn)管涌、流沙現(xiàn)象等,需采取堵排防滲措施,包括側(cè)向隔水和封底隔水兩種,常見的側(cè)向隔水帷幕有地下連續(xù)墻、攪拌樁、板樁。當(dāng)坑底土層滲透性高,采用封底隔水帷幕,包括高壓旋噴樁、深層攪拌樁、壓漿止水帷幕等。在軟土地區(qū),可降低擋土樁的變形,形成的重力式結(jié)構(gòu)體可兼具隔水和擋土功能[1]。
當(dāng)滲透方向同物理坐標(biāo)時,滲流定解可近似為求解能量泛函的極值問題,其微分表達(dá)式為:
(1)
單元水頭插值函數(shù)為:
(2)
式中:Ni(ξ,η,ζ)為單元形函數(shù);Hi為水頭值;(ξ,η,ζ)為單元局部坐標(biāo)[2]。
轉(zhuǎn)換可得滲流場的幾何形式:
[K]{H}={F}
(3)
式中:K為滲透矩陣;{H}為水頭列陣。
主滲流方向單元u、v、w與整體坐標(biāo)系x,y,z關(guān)系式為:
(x,y,z)T=R{u,v,w}T
(4)
在局部坐標(biāo)系下的單元幾何矩陣為:
[B′]=[R][B]
(5)
則單元滲透矩陣表達(dá)為:
(6)
某高層建筑的基坑開挖深度16 m,寬度40 m。土質(zhì)為砂土與砂礫石等,土體力學(xué)參數(shù)天然狀態(tài):γ=19.5(kN/m3)、C=14.4kPa、Φ=27.2;飽和狀態(tài):γ=20.5(kN/m3)、C=12.24kPa、Φ=23.12。防滲設(shè)計中止水帷幕寬度為1 m,深度根據(jù)計算需要設(shè)定16m-30m依次遞加[3]?;幽P腿鐖D1所示。
圖1 基坑平面模型
定水頭邊界:AF、DC,隔水邊界:AB、BC,除定水頭邊界和隔水邊界,其余邊界均為變水頭邊界[4]。
文章對止水帷幕深度為16 m、18 m、20 m、22 m、24 m、26 m、28 m、30 m八種工況條件進(jìn)行計算分析,止水帷幕滲透系數(shù)為1.25×10-8m/s[5]?;拥臐B流通量計算結(jié)果見圖2。
(a) (b)
基坑滲流量和側(cè)壁關(guān)系對比結(jié)果如圖3所示,可知基坑滲流量最小值在距基坑側(cè)壁20m,最大值在距1.6 m處,分析是因止水帷幕側(cè)壁阻礙地下水流動,在1.6m處阻礙作用最為明顯,隨著帷幕深度的增加,滲流量不斷降低,阻滯作用逐漸平緩。
圖3 基坑滲流量和側(cè)壁關(guān)系曲線圖
基坑滲流速度隨帷幕深度的矢量變化如圖4所示。
(a)
(b)
(c)
(d)
(e)
(f)
(g)
(h)圖4 不同帷幕深度的滲流速度矢量圖
由圖可知,當(dāng)帷幕深度為16 m時,基坑外側(cè)滲流主要體現(xiàn)在坑腳處,該處的滲流速度明顯大于其他位置,此時的滲流速度為3.53×10-6m/s,隨著帷幕深度的增加,最大流速點不斷下移,當(dāng)帷幕深度達(dá)到一定值,此后滲流速度逐漸趨于平緩穩(wěn)定。
基于滲流分析有限元原理,根據(jù)實際基坑工程地質(zhì)資料,有限元計算不同帷幕深度的基坑滲流速度和滲流通量值,對比分析各深度的基坑滲流場變化規(guī)律。結(jié)果表明隨止水帷幕深度增加,基坑的滲流量與流速先升后降,達(dá)到一定值后,基坑外側(cè)地下水位逐漸平緩,各控制變量值趨于穩(wěn)定。