徐 靜,王 超,伍 勇,吳秀麗,馬澤剛
(四川衛(wèi)生康復(fù)職業(yè)學(xué)院,四川 自貢 643000)
137Cs 作為生物學(xué)上最危險(xiǎn)的放射性核素之一,在自然界的本底值很低,隨著核工業(yè)的發(fā)展、核設(shè)施的運(yùn)行以及突發(fā)性核事故,尤其是切爾諾貝利核事故和日本福島核事故,導(dǎo)致Cs 在自然界的本底值不斷升高[1]。美國(guó)核能研究所(NEI)研究發(fā)現(xiàn),每年有2 000~2 300 t 的核廢物通過(guò)各種途徑釋放到環(huán)境,大量放射性核素Cs 累積在水體和土壤,極易通過(guò)農(nóng)作物和果蔬進(jìn)入食物鏈,不但對(duì)生態(tài)系統(tǒng)造成嚴(yán)重污染,還會(huì)對(duì)動(dòng)物和人類健康造成極大的潛在威脅[2,3]。因此 Cs 污染的生物效應(yīng)及其修復(fù)技術(shù)的研究一直是近年來(lái)的關(guān)注熱點(diǎn)。以往Cs 污染對(duì)植物影響的研究主要集中在植物生長(zhǎng)、種子萌發(fā)、生物量、抗氧化酶活性以及不同植物對(duì)Cs 的富集能力等方面[4-6],但Cs 對(duì)植物光合作用的影響鮮有報(bào)道。光合作用是生物界最基本的物質(zhì)和能量代謝過(guò)程之一,且對(duì)逆境脅迫非常敏感。筆者及實(shí)驗(yàn)室前期圍繞Cs 脅迫對(duì)植物光合作用的影響進(jìn)行了系列研究,結(jié)果表明外源高濃度CsCl 處理會(huì)抑制植物葉片的凈光合速率(Pn)、氣孔導(dǎo)度(Gs)、胞間 CO2濃度(Ci)以及蒸騰速率(Tr),與此同時(shí),葉綠素的合成、光合電子傳遞活性也會(huì)受到一定抑制,從而對(duì)植物光合作用造成顯著影響[7]。
快速葉綠素?zé)晒庹T導(dǎo)動(dòng)力學(xué)曲線是指暗適應(yīng)的植物部分組織突然暴露在可見(jiàn)光下,其熒光隨時(shí)間變化的曲線。JIP-測(cè)定(JIP-test)是以生物膜能量流動(dòng)為基礎(chǔ),針對(duì)快速葉綠素?zé)晒庹T導(dǎo)動(dòng)力學(xué)曲線建立的數(shù)據(jù)分析和處理方法,利用該方法可以獲得有關(guān)光系統(tǒng)Ⅱ(photosystem Ⅱ complex,PSII)的大量信息,從而了解環(huán)境因子影響下植物材料光合機(jī)構(gòu)的動(dòng)態(tài)變化情況[8]。另外,已有研究表明,植物對(duì)穩(wěn)定性銫和放射性銫同位素的吸收及其在體內(nèi)的積累有相同的特征[9]。因此,試驗(yàn)在前期研究基礎(chǔ)上,以菠菜(Spinacia oleraceaL.)為試驗(yàn)材料,用穩(wěn)定性銫同位素133Cs 代替放射性同位素137Cs,利用快速葉綠素?zé)晒庹T導(dǎo)動(dòng)力學(xué)分析,進(jìn)一步探究不同濃度Cs 處理對(duì)植物光合作用的影響機(jī)制,以期為揭示Cs 對(duì)植物生長(zhǎng)發(fā)育的影響以及Cs 污染的植物修復(fù)技術(shù)提供一定的參考。
試驗(yàn)以藜科植物菠菜作為供試材料,選取長(zhǎng)勢(shì)一致的健康菠菜幼苗,移栽至8 kg/盆石英砂中(盆高25 cm,直徑33 cm),每盆6 株。分別設(shè)置0、1、5、10、20 mmol/L 5 個(gè)CsCl 處理濃度。待菠菜幼苗長(zhǎng)到5 葉期時(shí),用含不同濃度 CsCl 的 Hoagland(pH 6.0)營(yíng)養(yǎng)液進(jìn)行處理,每天補(bǔ)充營(yíng)養(yǎng)液100 mL,處理15 d后進(jìn)行相關(guān)指標(biāo)的測(cè)定,每個(gè)處理5 次重復(fù)。
參考 Strasser 等[10]的方法,葉片在測(cè)定前,先充分暗適應(yīng)20 min,然后暴露在飽和脈沖光下,用MPEA(Hansatech,英國(guó))測(cè)量菠菜葉片快速葉綠素?zé)晒庹T導(dǎo)動(dòng)力學(xué)曲線(O-J-I-P 曲線)。
獲得的O-J-I-P 曲線用JIP-test 進(jìn)行分析,需要用到 20 μs 時(shí)熒光(O 相,F(xiàn)o)、300 μs 時(shí)熒光(K 相)、2 ms時(shí)熒光(J相)、30 ms時(shí)熒光(I相)和最大熒光(P相,F(xiàn)M)。JIP-test分析所用的參數(shù)及其定義見(jiàn)表1。
表1 JIP-test分析所用的參數(shù)及其定義
將不同時(shí)間的熒光強(qiáng)度Ft標(biāo)準(zhǔn)化,標(biāo)準(zhǔn)化后的熒光強(qiáng)度用Vt表示,以Vt繪制O-J-I-P 標(biāo)準(zhǔn)曲線(圖1-A-1、1-B-1、1-C-1)。受 CsCl 不同處理濃度及不同處理時(shí)間的影響,菠菜葉片均呈現(xiàn)典型的葉綠素快速熒光動(dòng)力學(xué)曲線,形狀相似且到達(dá)P 點(diǎn)的時(shí)間差異不明顯。為了較為清晰地比較不同環(huán)境差異對(duì)菠菜葉片熒光信號(hào)強(qiáng)度的差異,以0 處理為對(duì)照,用其他與對(duì)照組標(biāo)準(zhǔn)化熒光差值(ΔVt)重新作圖(圖1-A-2、1-B-2、1-C-2)。結(jié)果表明,CsCl 處理后,菠菜葉片的J 點(diǎn)發(fā)生變化,1~5 mmol/L CsCl 處理菠菜幼苗 6、9 d 后,J 點(diǎn)降低,但當(dāng)處理濃度達(dá)到 10~20 mmol/L 時(shí),J 點(diǎn)顯著升高,同樣,CsCl 處理 12 d 后,J點(diǎn)均高于對(duì)照。
圖1 不同濃度CsCl處理菠菜葉片快速葉綠素?zé)晒鈩?dòng)力學(xué)曲線
圖2 顯示不同濃度CsCl 處理菠菜后,菠菜葉片J相相對(duì)可變熒光(Vj)、I 相相對(duì)可變熒光(Vi)、可變熒光Fk占FJ-Fo振幅的比例(Wk)、熒光誘導(dǎo)曲線的初始斜率(Mo)、標(biāo)準(zhǔn)化后的J-P 相和直線F=FM之間的面積(Sm)和從 2 ms 到tFm時(shí)間段內(nèi) QA氧化還原次數(shù)(N)的變化情況,從而推測(cè)CsCl 處理對(duì)菠菜葉片PSII 電子供/受體側(cè)性能的影響。隨CsCl 處理濃度和處理時(shí)間的增加,Vj和Wk值呈先上升后下降的趨勢(shì),Vi明顯下降。其中,Vj在處理濃度為1 mmol/L,處理6 d 時(shí)達(dá)最高值;Wk在處理濃度為10 mmol/L、處理時(shí)間12 d 時(shí)達(dá)最高值,較同期對(duì)照增加了33.94%。Mo值隨CsCl 處理濃度和處理時(shí)間的增加,呈現(xiàn)先略微下降后上升趨勢(shì),當(dāng)CsCl 處理濃度為0~5 mmol/L時(shí),Mo值變化不顯著,但當(dāng)處理時(shí)間較長(zhǎng),CsCl 處理抑制了從QA-往下的電子傳遞,此時(shí)QA被還原得最快,Mo值逐漸升高,并在20 mmol/L 達(dá)到最高。Sm在處理 6、9 d 后變化不顯著,但處理 12 d 后,Sm值均高于對(duì)照,且與同期對(duì)照相比,Sm分別升高了7.1%、24%、9.2%、17.8%。N值變化均不顯著。
圖2 不同濃度 CsCl處理對(duì)菠菜葉片 Vj、Vi、Wk、Mo、Sm和 N 的影響
圖3 表示不同濃度CsCl 處理菠菜葉片后,單位反應(yīng)中心光合機(jī)構(gòu)比活性參數(shù)單位反應(yīng)中心吸收的能量(ABS/RC)、單位反應(yīng)中心熱耗散掉的能量(DIo/RC)、單位反應(yīng)中心捕獲的能量(TRo/RC)、單位反應(yīng)中心用于電子傳遞的能量(ETo/RC)的相對(duì)變化值。當(dāng)CsCl 處理濃度較低時(shí)(1~5 mmol/L),ABS/RC、DIo/RC、TRo/RC、ETo/RC值略有升高,隨 CsCl 處理時(shí)間的延長(zhǎng)以及處理濃度的增加,尤其是在較高濃度(10~20 mmol/L)處理下,PSII 反應(yīng)中心不斷降解和失活,且在20 mmol/L處理12 d時(shí)達(dá)最大值,ABS/RC、DIo/RC、TRo/RC、ETo/RC分別較對(duì)照組增加了39.73%、22.01%、26.64%、24.19%。
圖3 不同濃度CsCl處理對(duì)菠菜幼苗ABS/RC、DIo/RC、TRo/RC、ETo/RC 的影響
如圖 4 所示,CsCl 脅迫后,菠菜葉片 PSII 最大量子效率(φPo)呈先略微上升后下降趨勢(shì),且在1 mmol/L處理時(shí)達(dá)最高值,分別較對(duì)照組增加了1.67%(6 d)、1.56%(9 d)、1.07%(12 d),在 20 mmoml/L 處理時(shí)達(dá)最低值,分別較對(duì)照降低了3.63%(6 d)、3.62%(9 d)、3.77%(12 d)。φEo代表吸收的光量子將電子傳遞到電子傳遞鏈中QA-下游的其他電子受體的概率、Ψo代表捕獲的激子將電子傳遞到電子傳遞鏈中QA-下游的其他電子受體的概率也呈現(xiàn)類似趨勢(shì),低濃度脅迫并未引起菠菜葉片φEo、Ψo的顯著變化,但在10~20 mmol/L 處理濃度下φEo、Ψo顯著降低。以吸收光能為基礎(chǔ)的性能指數(shù)(PIABS)隨CsCl處理濃度及處理時(shí)間的升高,其值顯著下降,并在20 mmol/L 處理12 d時(shí)達(dá)最低值,較同期對(duì)照降低了33.11%。
圖4 不同濃度CsCl處理對(duì)菠菜幼苗φPo、φEo、Ψo和PIABS的影響
當(dāng)植物遭受外界環(huán)境脅迫時(shí),不能像動(dòng)物一樣移動(dòng)到更適宜的環(huán)境中去,因此,植物為了生存,必須能夠迅速識(shí)別外界刺激,并產(chǎn)生和傳遞信號(hào),通過(guò)激發(fā)自身的防御機(jī)制來(lái)應(yīng)對(duì)脅迫[11]。光合作用是植物將光能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能的過(guò)程,是植物對(duì)逆境最為敏感的生理過(guò)程之一。在光合機(jī)構(gòu)捕獲光能發(fā)生電子傳遞的同時(shí),還有一部分能量以熱和熒光的形式耗散,如果電子傳遞過(guò)程受到阻礙,熒光和熱耗散便會(huì)上升。快速葉綠素?zé)晒庹T導(dǎo)動(dòng)力學(xué)可以利用植物在逆境脅迫下發(fā)出的豐富的熒光信號(hào),來(lái)間接監(jiān)控植物葉片PSII 受損程度、受損部位及光合電子傳遞情況,為深入研究逆境脅迫對(duì)光合作用原初反應(yīng)的影響提供了有力而便捷的工具[10]。
典型的快速葉綠素?zé)晒庹T導(dǎo)動(dòng)力學(xué)曲線有OJ-I-P 等相,曲線特征位點(diǎn)的變化較為直觀地表明PSII反應(yīng)中心原初光化學(xué)反應(yīng)的變化,其中J相反映QA-瞬間最大積累量,研究表明,J 相上升代表PSII 受體側(cè)QA到QB間的電子傳遞受阻[12]。本試驗(yàn)結(jié)果顯示,不同濃度 CsCl 處理菠菜葉片 6、9、12 d 后,J 相發(fā)生變化。1~5 mmol/L CsCl 處理菠菜葉片 6、9 d 后,J相略微降低,推測(cè)此時(shí)PSII 受體側(cè)沒(méi)有受到過(guò)多傷害,機(jī)體可以通過(guò)調(diào)節(jié)QA到QB間的電子傳遞能力來(lái)適應(yīng)環(huán)境變化,但當(dāng)CsCl 處理濃度增加或處理時(shí)間延長(zhǎng)后,J 相顯著上升,說(shuō)明此時(shí)CsCl 處理可能抑制了QA到QB間的電子傳遞過(guò)程,PSII受體側(cè)受到損傷。
在光合機(jī)構(gòu)中,天線色素吸收的光能被轉(zhuǎn)化為激發(fā)能,再傳遞到兩個(gè)光系統(tǒng)的反應(yīng)中心,進(jìn)而推動(dòng)原初光化學(xué)反應(yīng),被激發(fā)的電子被移交給原初電子受體QA,生成QA-。2 ms 時(shí)熒光(J 相)、30 ms 時(shí)熒光(I 相)分別顯示了2 ms 和30 ms 時(shí)QA-的第一次瞬時(shí)最大積累,因此Vj和Vi可以反映葉片中QA和QA-的比例。研究表明,外界脅迫會(huì)在一定程度上導(dǎo)致QA/QA-的氧化還原勢(shì)上調(diào)。本試驗(yàn)結(jié)果顯示,不同CsCl處理濃度下,Vj隨濃度的增加,呈現(xiàn)先上升后下降的趨勢(shì),Vi呈明顯下降趨勢(shì),說(shuō)明較高CsCl處理濃度下會(huì)導(dǎo)致QA/QA-的氧化還原勢(shì)上調(diào)。Wk代表可變熒光Fk占Fj-Fo振幅的比例,Wk數(shù)值的大小會(huì)受到PSII 供體側(cè)和受體側(cè)傷害程度的共同影響[13]。Strasser等[14]認(rèn)為K 點(diǎn)是由于 PSII 供體側(cè)放氧復(fù)合體(OEC)流向PSII反應(yīng)中心的電子與PSII反應(yīng)中心流向受體側(cè)的電子的不平衡造成的。若單純是OEC 受傷,次級(jí)電子供體酪氨酸殘基的電子仍能流向PSII反應(yīng)中心,進(jìn)而流向受體側(cè),此時(shí)Wk值升高,但當(dāng)PSII 供體側(cè)和受體側(cè)同時(shí)受到傷害,會(huì)使得PSII 供體側(cè)流向PSII 反應(yīng)中心的電子減少,與此同時(shí),PSII 反應(yīng)中心流向受體側(cè)的電子也減少,因此,Wk值的大小可以反映OEC 相對(duì)于受體側(cè)的限制程度,Wk值越大,表明供體側(cè)限制越大。本試驗(yàn)結(jié)果表明,經(jīng)CsCl 脅迫,隨處理濃度和處理時(shí)間的增加,菠菜葉片的Wk呈現(xiàn)先上升后下降趨勢(shì),但總體高于對(duì)照。推測(cè)較短時(shí)間內(nèi)較低濃度CsCl 處理會(huì)導(dǎo)致菠菜PSII 供體側(cè)OEC 受到一定損傷,且傷害程度大于受體側(cè),但隨處理濃度和處理時(shí)間的增加,PSII 受體側(cè)受到損傷,這與快速葉綠素?zé)晒鈩?dòng)力學(xué)曲線中J 相在較高濃度處理下顯著上升的結(jié)論一致。Mo代表QA被還原的相對(duì)速率,菠菜葉片經(jīng)CsCl 脅迫后,Mo同樣呈現(xiàn)先上升后下降的趨勢(shì),當(dāng)處理時(shí)間較長(zhǎng),CsCl 處理抑制了從QA-往下的電子傳遞,此時(shí)QA被還原得最快,Mo值最高。Sm代表標(biāo)準(zhǔn)化后的J-P 相和直線F=FM之間的面積,它反映了從2 ms 到tFm時(shí)間內(nèi)QA下游的電子受體庫(kù)的大小,也就是關(guān)閉所有反應(yīng)中心需要的能量。N代表從2 ms 到tFm時(shí)間內(nèi)QA的氧化還原次數(shù)。從QA-傳遞走的電子比例越高,Sm的值就越大。本次試驗(yàn)結(jié)果表明,隨CsCl 處理時(shí)間的延長(zhǎng),Sm值逐漸升高,此時(shí),菠菜葉片從QA-傳遞走的電子較多,PSII受體側(cè)的電子傳遞能力增強(qiáng)。
當(dāng)機(jī)體受到外界脅迫時(shí),部分反應(yīng)中心失活,失活的反應(yīng)中心天線捕獲的光能被傳遞到有活性的反應(yīng)中心上,因此有活性的反應(yīng)中心比活性會(huì)升高。本研究中,當(dāng) CsCl 處理濃度較低時(shí)(1~5 mmol/L),ABS/RC、DIo/RC、TRo/RC、ETo/RC參數(shù)值略有升高,隨CsCl 處理時(shí)間的延長(zhǎng)以及處理濃度的增加,PSII 反應(yīng)中心不斷降解和失活,剩余的有活性的反應(yīng)中心的比活性參數(shù)大幅度升高,說(shuō)明外界脅迫導(dǎo)致菠菜葉片PSII 反應(yīng)中心遭到不同程度損傷,反應(yīng)中心部分失活,從而增加剩余反應(yīng)中心的激發(fā)壓。
φPo、φEo、Ψo隨著 CsCl 處理濃度的增加,呈現(xiàn)先上升后下降趨勢(shì)。結(jié)果表明,低濃度脅迫下,菠菜通過(guò)調(diào)節(jié)受體側(cè)QA傳遞電子的能力,即有活性的反應(yīng)中心的開(kāi)放程度升高,促使PSII光合活性增大,從而適應(yīng)外界環(huán)境的變化,但當(dāng)處理濃度增加,φPo、φEo、Ψo下降,說(shuō)明此時(shí)光和機(jī)構(gòu)被逐漸破壞。PIABS是JIP-test 的參數(shù)中對(duì)環(huán)境變化最為敏感的參數(shù)之一,它可以反映植物利用光能的綜合性能,常作為了解整個(gè)原初光化學(xué)反應(yīng)對(duì)外界環(huán)境變化的響應(yīng)依據(jù)[15]。本研究中,PIABS顯著下降,也說(shuō)明 CsCl 脅迫導(dǎo)致菠菜葉片原初光化學(xué)反應(yīng)受到一定傷害,從而影響光合作用。
綜上所述,利用快速葉綠素?zé)晒鈩?dòng)力學(xué)參數(shù)分析,可以直觀表現(xiàn)CsCl 脅迫對(duì)菠菜光合作用原初反應(yīng)的影響。CsCl脅迫下,菠菜葉片的OJIP 曲線、PSII供/受體側(cè)性能參數(shù)、反應(yīng)中心、PSII 量子產(chǎn)量等均受到一定影響,且高濃度處理影響較為明顯。1~5 mmol/L 較低CsCl 濃度處理雖然抑制了菠菜PSII 反應(yīng)中心供體側(cè)到反應(yīng)中心的電子傳遞過(guò)程,但影響不顯著,可能是菠菜通過(guò)調(diào)節(jié)光合機(jī)構(gòu)對(duì)光能的捕獲和轉(zhuǎn)化效率來(lái)緩解傷害,從而來(lái)適應(yīng)環(huán)境變化,這也是植物應(yīng)對(duì)外界環(huán)境脅迫的一種自我保護(hù)機(jī)制,但高濃度CsCl 處理則會(huì)導(dǎo)致菠菜葉片PSII 受體側(cè)同樣受到傷害、QA/QA-的氧化還原勢(shì)上調(diào)以及反應(yīng)中心部分失活。