劉文文

摘 要：本文對(duì)衛(wèi)生陶瓷生產(chǎn)工藝環(huán)節(jié)中的施釉工藝進(jìn)行了探討，結(jié)合實(shí)際生產(chǎn)，總結(jié)出了影響施釉操作的一系列因素，并提出了在施釉環(huán)節(jié)中出現(xiàn)的各個(gè)問(wèn)題的解決方法，切實(shí)提高了產(chǎn)品的質(zhì)量。因此也為后續(xù)衛(wèi)生陶瓷企業(yè)在提高施釉質(zhì)量方面提供了借鑒和幫助。

關(guān)鍵詞： 衛(wèi)生陶瓷; 施釉;釉面質(zhì)量

1 前 言

在衛(wèi)生陶瓷生產(chǎn)過(guò)程中，從注漿成型到產(chǎn)品入窯燒制要經(jīng)過(guò)干補(bǔ)、修坯、擦坯、半檢、管道施釉、刷氯化鎂溶液、噴釉、裝窯、出窯、分級(jí)入庫(kù)等一系列工藝過(guò)程。所涉及的工序比較繁多，如果對(duì)其中的某一項(xiàng)工序控制不當(dāng)，即會(huì)影響產(chǎn)品的質(zhì)量。

施釉工藝作為衛(wèi)生陶瓷生產(chǎn)環(huán)節(jié)中的一大工序，其操作不當(dāng)首先會(huì)影響到釉坯的質(zhì)量，進(jìn)而影響到燒后產(chǎn)品的質(zhì)量。因此，如何控制在施釉過(guò)程中出現(xiàn)的技術(shù)問(wèn)題，是衛(wèi)生陶瓷工廠都需要去考慮的。

2施釉缺陷種類(lèi)分析

2.1縮釉

縮釉缺陷的特征：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品經(jīng)窯爐燒成后，在產(chǎn)品表面表現(xiàn)出來(lái)局部沒(méi)有釉，可以看得到坯體的底部，而且坯體底部的露出面及周邊都比較光滑。

縮釉缺陷產(chǎn)生的部位：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品的彎角部位、洗凈面和手接觸的部位以及容易積釉的地方。

2.2釉粒

釉粒缺陷的特征：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品經(jīng)窯爐燒成后，在產(chǎn)品的釉面上粘附有泥粒、粉塵，而產(chǎn)品的表面有薄釉層覆蓋，摸起來(lái)有明顯的凸手感，一般只有牙簽頭狀的大小。

釉粒缺陷產(chǎn)生的部位：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品的各部位都會(huì)出現(xiàn)，常見(jiàn)于產(chǎn)品的座圈面和洗凈面。

2.3噴釉碰

噴釉碰缺陷的特征：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品經(jīng)窯爐燒成后，燒出的產(chǎn)品表面出現(xiàn)放射狀較大且明顯的裂紋。

噴釉碰缺陷產(chǎn)生的部位：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品的前端、腳部以及水箱口常見(jiàn)。

2.4釉不勻、厚薄釉

釉不勻和厚薄釉缺陷的特征：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品經(jīng)窯爐燒成后，產(chǎn)品的釉面出現(xiàn)不平整，厚度不一的現(xiàn)象，而且釉面呈現(xiàn)明顯的波浪狀或魚(yú)鱗狀。

釉不勻和厚薄釉缺陷產(chǎn)生的部位：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品的各部位都容易產(chǎn)生，但其平面位比較明顯。

2.5癡釉

癡釉缺陷的特征：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品經(jīng)窯爐燒成后，產(chǎn)品與產(chǎn)品、棚板、頂托等相互連接的地方因?yàn)橛杏远跓珊笳辰釉谝黄?，使其中一方受損。

癡釉缺陷產(chǎn)生的部位：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品的腳部、水箱蓋、口和需要放置頂托的位置處。

2.6商標(biāo)

商標(biāo)缺陷的特征：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品經(jīng)窯爐燒成后，產(chǎn)品的商標(biāo)出現(xiàn)字跡模糊或者商標(biāo)不完整，以及商標(biāo)出現(xiàn)白點(diǎn)和空洞、商標(biāo)偏位、商標(biāo)傾斜和貼錯(cuò)商標(biāo)。

商標(biāo)缺陷產(chǎn)生的部位：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品需要貼商標(biāo)的位置。

2.7斑點(diǎn)

斑點(diǎn)缺陷的特征：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品經(jīng)窯爐燒成后，在產(chǎn)品的表面出現(xiàn)不同顏色（如黑色、綠色、黃色等）的雜物，呈點(diǎn)狀，有大有小。

斑點(diǎn)缺陷產(chǎn)生的部位：衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品的各個(gè)部位。

3施釉缺陷原因分析

3.1 縮釉

縮釉缺陷產(chǎn)生的原因：

（1）經(jīng)過(guò)半檢坯倉(cāng)處理后的坯體表面還存在雜質(zhì)（如毛巾、海綿渣等）。

（2）經(jīng)過(guò)半檢坯倉(cāng)處理后的坯體，特別是在管道或者彎角等死角部位還存在粉塵，施釉前坯體中存在的粉塵沒(méi)有處理干凈。

（3）施釉前進(jìn)行抹水時(shí)操作不當(dāng)，特別是坯體的尖角及彎角位置。

（4）施釉時(shí)，未抽測(cè)釉坯的噴釉厚度導(dǎo)致施釉后的釉層過(guò)厚;特別是在坯體的彎角部位和容易積釉的地方，施釉厚度一定要控制在合理范圍。

（5）施釉時(shí)所用的釉漿參數(shù)不合理。釉漿細(xì)度過(guò)細(xì)，釉面出現(xiàn)雞爪狀裂紋導(dǎo)致燒成后產(chǎn)品縮釉;釉漿保水時(shí)間太短，與坯體潤(rùn)濕不好，燒后產(chǎn)品縮釉。

（6）施釉后搬動(dòng)釉坯時(shí)，操作方法不當(dāng)導(dǎo)致?lián)p傷到釉層。

3.2 釉粒

釉粒缺陷產(chǎn)生的原因：

（1）坯體在施釉前的吹塵不干凈，導(dǎo)致坯體內(nèi)部殘留有泥粒而直接施釉。

（2）注漿成型后的坯體在開(kāi)孔時(shí)因治具或者操作原因?qū)е麻_(kāi)孔不規(guī)整，因此孔的邊緣存在有毛刺，施釉前沒(méi)有處理干凈就直接進(jìn)行施釉。

（3）坯體內(nèi)存在的毛刺或者其他異物在施釉完成后釉坯干燥的過(guò)程中因收縮等原因跌落至釉面，燒后產(chǎn)品表面呈現(xiàn)釉粒缺陷。

（4）坯體內(nèi)存在的毛刺或者其他異物在施釉完成后燒成過(guò)程中因收縮等原因跌落至釉面，燒后產(chǎn)品表面呈現(xiàn)釉粒缺陷。

3.3 噴釉碰

噴釉碰缺陷產(chǎn)生的原因：

（1）坯體在未施釉前的運(yùn)輸途中，在架車(chē)上振動(dòng)時(shí)產(chǎn)生了不易察覺(jué)的微裂紋。

（2）坯體在架車(chē)上用機(jī)械手上坯至施釉循環(huán)線的轉(zhuǎn)盤(pán)上時(shí)，因操作工使用機(jī)械手時(shí)力氣過(guò)大，使其到達(dá)轉(zhuǎn)盤(pán)上時(shí)坯體可能發(fā)生了不易察覺(jué)的微小破損。

（3）施釉完成后的釉坯在用機(jī)器手進(jìn)行下坯操作時(shí)，下坯工操作機(jī)器手不當(dāng)導(dǎo)致釉坯下坯至架車(chē)上時(shí)受到暗傷，查坯工并未發(fā)現(xiàn)。

（4）施釉完成后的釉坯在運(yùn)輸、搬運(yùn)過(guò)程中，與其它物品發(fā)生碰撞和沖擊而使釉坯碰撞部位出現(xiàn)暗傷，在燒成的過(guò)程中受到收縮和熱應(yīng)力的作用而開(kāi)裂。

3.4 釉不勻、厚薄釉

釉不勻和厚薄釉缺陷產(chǎn)生的原因：

（1）施釉時(shí)使用的噴槍的槍口距離坯體太近，噴釉完成后釉坯表面出現(xiàn)嚴(yán)重的波紋現(xiàn)象。

（2）施釉時(shí)所使用的噴槍霧化效果不好（氣壓不夠或者吐釉量太大），導(dǎo)致施釉后釉坯的釉層偏薄。

（3）施釉時(shí)使用超過(guò)保質(zhì)期的釉漿（即使用變質(zhì)釉漿），導(dǎo)致施釉至坯體表面時(shí)，釉坯表面有明顯可見(jiàn)的流釉、積釉和滴釉現(xiàn)象。

（4）施釉完成后對(duì)釉坯進(jìn)行印釉時(shí)操作不當(dāng)，沒(méi)有對(duì)釉坯有流釉、積釉的地方用海綿進(jìn)行正確的印釉操作。

3.5 癡釉

癡釉缺陷產(chǎn)生的原因：

（1）坯體施釉完成后，對(duì)不需要有釉的地方的釉清理不徹底（如底部）。

（2）施釉時(shí)忘記給水箱蓋口搽氧化鋁。

（3）施釉時(shí)對(duì)水箱蓋口處的氧化鋁搽抹不到位，水箱口有釉導(dǎo)致燒后產(chǎn)品癡釉。

（4）施釉時(shí)搽氧化鋁時(shí)所使用的氧化鋁漿濃度不當(dāng)，濃度過(guò)小導(dǎo)致氧化鋁漿發(fā)生沉淀而成分不均勻，致使耐火度下降起不到該有的作用導(dǎo)致癡釉。

3.6 商標(biāo)

商標(biāo)缺陷產(chǎn)生的原因：

（1）商標(biāo)本身就模糊，產(chǎn)品燒成后商標(biāo)看不清。

（2）對(duì)產(chǎn)品應(yīng)該貼商標(biāo)的類(lèi)別不清晰，導(dǎo)致貼錯(cuò)商標(biāo)。

（3）粘貼商標(biāo)所使用的商標(biāo)膠水的濃度不當(dāng);濃度過(guò)小導(dǎo)致商標(biāo)粘貼不牢。

（4）施釉完成后對(duì)釉坯進(jìn)行粘貼商標(biāo)時(shí)，商標(biāo)粘貼偏位或者粘貼時(shí)不牢使得燒后商標(biāo)縮成一團(tuán)。

（5）粘貼商標(biāo)時(shí)膠水沒(méi)有擦均勻且沒(méi)有用刮刀來(lái)回把商標(biāo)內(nèi)面的氣泡刮走導(dǎo)致產(chǎn)品燒后爆標(biāo)。

3.7 斑點(diǎn)

斑點(diǎn)缺陷產(chǎn)生的原因：

（1）施釉完成后剩余的釉漿沒(méi)有及時(shí)蓋上桶蓋做好防護(hù)，導(dǎo)致雜質(zhì)進(jìn)入釉漿中，燒后產(chǎn)品表面出現(xiàn)斑點(diǎn)。

（2）施釉前的洗坯過(guò)程中帶入雜質(zhì)。洗坯時(shí)所使用的自來(lái)水中存在鐵銹、銅斑等雜質(zhì)，在洗坯的過(guò)程中，濕海綿將雜質(zhì)黏附于坯體表面，燒后產(chǎn)品表面出現(xiàn)斑點(diǎn)。

（3）施釉時(shí)對(duì)坯體吹塵所用的壓縮空氣中混有鐵銹等雜質(zhì)，在進(jìn)行吹塵時(shí)將雜質(zhì)帶入坯體，燒后產(chǎn)品表面出現(xiàn)斑點(diǎn)。

（4）施釉時(shí)使用的噴槍沒(méi)有清洗干凈就繼續(xù)噴釉，導(dǎo)致帶入雜質(zhì)于釉坯表面，燒后產(chǎn)品表面出現(xiàn)斑點(diǎn)。

（5）施釉完成后的釉坯在存放過(guò)程中有外部的雜質(zhì)跌落至釉面，后期清理不干凈就裝入窯爐中進(jìn)行燒成，導(dǎo)致產(chǎn)品出現(xiàn)斑點(diǎn)。

4 施釉缺陷解決方法

4.1 縮釉

（1）施釉工序處的吹塵工對(duì)坯體吹塵完成后進(jìn)行檢查，一定要確保坯體內(nèi)的粉塵全部被吹出，保證坯體內(nèi)各個(gè)部位都能夠上釉;特別要注意坯體的水箱及管道分水孔等死角位置，觀察粉塵吹出情況。

（2）施釉工序處的抹水工對(duì)坯體進(jìn)行抹水時(shí)要對(duì)各個(gè)部位都抹水到位，如見(jiàn)到坯體表面的明顯異物需及時(shí)清理，確保施釉前的坯體絕對(duì)干凈;且特別注意坯體的尖角及彎角部位，避免因抹水不好導(dǎo)致縮釉。

（3）施釉車(chē)間每天在開(kāi)始噴釉時(shí)，調(diào)好噴槍的氣壓等參數(shù)后需要對(duì)釉坯進(jìn)行厚度的測(cè)量，以便及時(shí)做出調(diào)整，保證釉坯施釉厚度一致。

（4）保證釉漿參數(shù)合理。制定施釉時(shí)所需的釉漿參數(shù)后交至提供釉漿的車(chē)間，嚴(yán)格要求其保證釉漿參數(shù)的穩(wěn)定性（如細(xì)度及保水時(shí)間適當(dāng)、穩(wěn)定）。

（5）搬動(dòng)釉坯時(shí)，要使釉坯與手接觸的地方是面接觸，不是點(diǎn)接觸，從而減少釉面受損。

4.2 釉粒

（1）坯體在施釉前按照工藝要求從上至下從里至外地進(jìn)行吹塵，確保泥坯內(nèi)部無(wú)殘留的泥粒后再施釉。

（2）注漿完成后對(duì)坯體進(jìn)行開(kāi)孔操作時(shí)，先確認(rèn)開(kāi)孔用治具是否正確，然后依照工藝要求對(duì)坯體進(jìn)行開(kāi)孔，并清理干凈開(kāi)孔部位，確保無(wú)毛刺等雜物。

（3）坯體在施釉完成后，查坯工應(yīng)認(rèn)真檢查釉坯易產(chǎn)生釉粒缺陷的重點(diǎn)部位，確保無(wú)異物，如有異物則做好標(biāo)識(shí)，在裝燒前將其處理干凈。

4.3 噴釉碰

（1）施釉前對(duì)坯體在架車(chē)上的運(yùn)輸過(guò)程中確保其震動(dòng)小，在搬運(yùn)釉坯時(shí)輕拿輕放，注意不要與其它產(chǎn)品發(fā)生摩擦碰撞。

（2）施釉完成后盡量減少對(duì)釉坯的震動(dòng)。

（3）施釉完成后對(duì)釉坯進(jìn)行下坯操作時(shí)，嚴(yán)格按照工藝要點(diǎn)操作，避免釉坯出現(xiàn)暗傷等不易察覺(jué)的現(xiàn)象。

（4）施釉完成后對(duì)釉坯進(jìn)行儲(chǔ)存時(shí)在架車(chē)之間保留足夠的間隙。

4.4 釉不勻、厚薄釉

（1）施釉時(shí)調(diào)整好噴槍的槍口與坯體的距離以及角度，確保施釉完成后的釉坯表面光滑，無(wú)明顯的波紋現(xiàn)象。

（2）施釉前調(diào)整好設(shè)備，確保施釉時(shí)氣壓足夠，噴槍吐釉量適當(dāng)，在施釉時(shí)走槍速度均勻，確保噴出來(lái)的釉厚均勻一致。

（3）嚴(yán)禁使用超過(guò)使用期限的釉漿，如發(fā)現(xiàn)釉漿有變質(zhì)情況，第一時(shí)間將釉漿退回釉漿制作部門(mén)，重新加新的釉漿進(jìn)行施釉。

（4）施釉完成后對(duì)釉坯進(jìn)行印釉操作時(shí)，處理釉坯的流釉、滴釉及積釉時(shí)盡量用海綿去吸余釉而不是去抹釉。

4.5 癡釉

（1）施釉完成后對(duì)坯體不需要施釉的表面將其徹底擦抹干凈。

（2）施釉時(shí)對(duì)水箱口搽氧化鋁時(shí)要按照工藝要求進(jìn)行搽抹，如對(duì)水箱口正面兩個(gè)角要留1-2cm余釉避免產(chǎn)品露白現(xiàn)象產(chǎn)生。

（3）搽氧化鋁所使用的氧化鋁漿要確保一定的濃度，搽抹完成后及時(shí)對(duì)釉坯底腳的余釉清理干凈。

4.6 商標(biāo)

（1）使用商標(biāo)前對(duì)其進(jìn)行檢查，發(fā)現(xiàn)字跡不清或者破損的直接扔掉不使用。

（2）粘貼商標(biāo)前和粘貼完商標(biāo)后對(duì)釉坯仔細(xì)檢查。一是確保不貼錯(cuò)產(chǎn)品的商標(biāo)，二是及時(shí)發(fā)現(xiàn)商標(biāo)粘貼的位置是否正確及粘貼是否牢固。

（3）粘貼完商標(biāo)后及時(shí)擦均勻并用刮刀來(lái)回將商標(biāo)內(nèi)面的氣泡刮出。

（4）粘貼商標(biāo)時(shí)，先檢查所用的膠水濃度是否適合粘貼，如果發(fā)現(xiàn)膠水粘度不夠，則及時(shí)更換符合要求的膠水進(jìn)行使用。

4.7 斑點(diǎn)

（1）施釉完成后剩余的釉漿及時(shí)蓋上桶蓋做好防護(hù)，避免雜質(zhì)掉入。

（2）施釉時(shí)洗坯用的自來(lái)水經(jīng)過(guò)過(guò)濾器后再在出水口處包上一層325目的尼龍篩網(wǎng)用于過(guò)濾水中的雜質(zhì)。

（3）施釉時(shí)吹塵所用的壓縮空氣裝上過(guò)濾器，將雜質(zhì)過(guò)濾掉再使用。

（4）施釉時(shí)每次換釉后都將噴槍清洗干凈，避免噴槍中有雜質(zhì)帶入釉坯表面。

（5）施釉完成后的釉坯儲(chǔ)存區(qū)需要處于封閉狀態(tài)（即門(mén)窗關(guān)閉），減少來(lái)自外部的污染，同時(shí)加強(qiáng)對(duì)入窯產(chǎn)品的吸塵。

5結(jié)語(yǔ)

本文就關(guān)于衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品的施釉環(huán)節(jié)中所遇到的一些技術(shù)問(wèn)題做出了相關(guān)的研究，總結(jié)了生產(chǎn)中可能引起噴釉缺陷的種種原因，并提出了切實(shí)可行的解決方法，有效提高衛(wèi)生陶瓷產(chǎn)品燒后的優(yōu)等率。