申請(專利)號：CN202211093253.9

公開(公告)日：2022-10-11

申請(專權(quán))人：拓荊科技(上海)有限公司

摘要：本發(fā)明涉及一種閥門，以及一種氣相沉積設(shè)備。所述閥門安裝于反應(yīng)腔體的上蓋板的上表面，并包括進(jìn)氣口、第一出氣口及第二出氣口。所述進(jìn)氣口經(jīng)由進(jìn)氣管道連接氣源。所述第一出氣口經(jīng)由第一出氣管道連接排氣通道。所述第二出氣口經(jīng)由所述上蓋板連通到其下方的氣相沉積反應(yīng)腔體。通過采用該結(jié)構(gòu)，所述閥門能夠快速切換反應(yīng)氣體的流向，以滿足高精度控制薄膜厚度的實時性需求和穩(wěn)定性需求。