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        工藝條件對線路板化學(xué)鍍鈀的影響分析

        2021-09-14 07:58:30*劉
        當(dāng)代化工研究 2021年17期
        關(guān)鍵詞:工藝實驗分析

        *劉 賀

        (肇慶國華電子有限公司 廣東 526040)

        在電子產(chǎn)業(yè)運行及發(fā)展中,為了更好的解決互聯(lián)延遲所引發(fā)的危機,通過鍍鈀工藝的使用,獲得最佳鍍液配方以及工藝條件,有效增強鍍層的粘結(jié)力,同時也可以提高其耐腐蝕性及焊性目的。在以往的工藝產(chǎn)業(yè)中,通常將銅作為連接工藝,這種工藝形式雖然被廣泛運用在電子產(chǎn)品的導(dǎo)線及接觸端,但是,在空氣條件下容易發(fā)生銅氧化的問題,從而影響導(dǎo)電性能。因此,在工藝產(chǎn)業(yè)運行及發(fā)展中,根據(jù)化學(xué)鍍的工藝特點,在具體的使用中,存在著成本低以及設(shè)備簡單的優(yōu)勢,將其運用在復(fù)雜的導(dǎo)電以及非導(dǎo)電表面沉積中可以發(fā)揮其優(yōu)勢,提高工藝研究及技術(shù)使用的效率。研究中,分析工藝條件對線路板化學(xué)鍍鈀的影響,結(jié)果如下。

        1.技術(shù)背景

        在線路板化學(xué)鍍鈀問題研究中,電子基板在設(shè)計中,存在著獨立性的布線分布模式,通過銅電極、銅布線的科學(xué)使用,可以形成鍍鎳膜工藝,以增強化學(xué)鍍鎳工藝的使用效果,滿足工業(yè)產(chǎn)業(yè)的運行及穩(wěn)步發(fā)展需求。而且,在鍍鎳膜/鍍金工藝中,為了避免腐蝕擴散問題的出現(xiàn),需要形成3μm的鍍鎳膜,增強線路板實驗操作的穩(wěn)定性,滿足工業(yè)產(chǎn)業(yè)的運行及電子元件的配比及時延需求,推動行業(yè)的穩(wěn)步發(fā)展。伴隨電子信息技術(shù)的產(chǎn)業(yè)運行及穩(wěn)步發(fā)展,通過致密化工藝產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,在線路板設(shè)置的過程中,應(yīng)該將線路、空間進行處理,并將其控制在合理的范圍內(nèi),保證布線與鎳異常沉淀的有效性,提高電路系統(tǒng)的使用效果。整個過程中,需要減少化學(xué)鍍鎳的處理效果,一定要避免布線沉降不合理問題的出現(xiàn),為電子產(chǎn)業(yè)的運行及持續(xù)發(fā)展提供參考[1]。

        結(jié)合化學(xué)鎳鈀金表面的處理特點,其工藝優(yōu)勢如下:第一,通過化學(xué)鍍靶工藝的引入,可以利用鈀層阻擋優(yōu)勢,避免鎳擴散及遷移問題的出現(xiàn),實現(xiàn)阻擋鎳及浸金溶液的充分接觸,有效避免化學(xué)鎳金表面工藝出現(xiàn)黑盤的問題,充分滿足工藝產(chǎn)業(yè)的運行及持續(xù)發(fā)展需求。第二,在化學(xué)鍍鈀完全溶解的情況下,在合金接口上會出現(xiàn)高鱗片層,之后在鍍鈀溶解之后會增強鎳合的整體效果,提高焊點的可靠性,充分滿足電子產(chǎn)業(yè)的運行及持續(xù)發(fā)展需求。第三,根據(jù)化學(xué)鍍靶工藝的特點,在實際的工藝選擇中,通過耐磨性、大金線性能的分析,可以提高連接的穩(wěn)定性,降低電路板表面的處理成本,提高電子產(chǎn)業(yè)的經(jīng)濟運行效益。

        2.實驗分析

        在鍍靶層性能分析的過程中,對實驗結(jié)果的影響因素較多,如,工藝條件下溫度、pH值等都會對化學(xué)鍍靶的結(jié)果造成影響,因此,在具體的實驗分析中,需要根據(jù)這些影響因素,對化學(xué)鍍靶的各項影響因素進行分析,以便確定出最佳的工藝方案。

        (1)實驗材料

        在實驗的過程中,采用了5×5cm的銅基線路板作為測試片。

        化學(xué)鍍鎳液配方主要包括:120mL/L的HDQ-209M化學(xué)鎳鍍液、45mL/L的HDQ-209A化學(xué)鎳鍍液、3mL/L的HDQ-209D化學(xué)鎳鍍液?;瘜W(xué)鍍鎳工藝分析中,實驗標(biāo)準(zhǔn)如下:第一,鍍液pH=4.7;第二,化學(xué)鍍溫度84℃;第三,化學(xué)鍍時間25min。

        化學(xué)鍍鈀液配方:0.005mol/L的硫酸四氨鈀(Pd(NH3)4SO4)、0.01mol/L的還原劑次磷酸鈉(NaH2PO2·H2O)、0.1mol/L絡(luò)合劑有機胺A、甘氨酸0.08mol/L、穩(wěn)定劑B 0.3mol/L、穩(wěn)定劑C 1ppm[2]。

        (2)實驗性能測試

        ①沉積速率測試

        在沉積速率測試的過程中,根據(jù)以往的實驗經(jīng)驗,選擇牛津X-Strata920膜厚測試儀。實驗過程中要對線路板的正反面進行測量,最終確定鍍層的厚度,并測量鍍層厚度的平均值。

        ②綁定測試

        在綁定測試的過程中,實驗中需要選擇ASM-EG60全自動焊線機,之后根據(jù)實驗的特點基本需求,進行鎳鈀金鍍綁定性能的檢測分析。綁定測試的實驗要求如下:第一,鍵合溫度需要設(shè)置為170℃,金線直徑為0.015mm;第二,使用DAGE4000推拉力測試儀對線路板進行拉力實驗,將拉線速度控制在20mil/s。

        ③鍍液穩(wěn)定性測試

        在鍍液穩(wěn)定性測試的過程中,應(yīng)該將溫度控制在50℃,pH為7.2的條件下,利用慧彩HH-1數(shù)顯恒溫水浴鍋持續(xù)加熱化學(xué)鍍鈀液,實驗人員要認(rèn)真記錄鍍液或是杯臂上的金屬鈀時間,為之后的穩(wěn)定性測試提供參考。

        3.結(jié)果結(jié)論

        (1)溫度的影響

        第一,溫度對鍍速度的影響。在pH值為7.2時,化學(xué)鍍鈀的沉積速度與溫度存在著曲線變化,也就是說,在溫度影響下,沉積率與溫度呈現(xiàn)出正比狀態(tài)。如,在45-60℃條件下的沉積率與溫度分析中,其計算方法如公式(1)[3]。式中的ν(μm/min)是沉積速率,θ(℃)是溫度。在溫度升高的情況下,沉積速率逐漸增加,同時可以提高離子的運動速率,增強鈀沉積的整體速率。

        第二,溫度對膜層表面的影響。根據(jù)化學(xué)鍍鈀實驗的的情況,鍍穩(wěn)溫度對Pd膜的顆粒生長、致密度等存在關(guān)聯(lián),當(dāng)施鍍溫度為40℃時,Pd膜的顆粒尺寸較小,整個膜的致密度也就越差。在溫度不斷增長的情況下,當(dāng)溫度達到了70℃時,鍍層的溫度越高,Pd膜的邊界粘連情況越模糊,而且,相關(guān)的顆粒逐漸發(fā)生融合狀態(tài),而且沒有不飽滿及鍍層破損的問題。對于這種情況,主要是由于施鍍過程中,液體揮發(fā)現(xiàn)象逐漸增強,而且,液體中含有較多的氣泡,導(dǎo)致膜層與合金融合度不高,從而影響循環(huán)使用效果[4]。

        (2)穩(wěn)定劑對鍍液的影響

        在鍍液穩(wěn)定性分析的過程中,與化學(xué)鍍鎳的流程一致,同樣的熱力學(xué)不穩(wěn)定體系中,會不可避免的產(chǎn)生微小、具有催化的活性微粒,之后進行自催化反應(yīng),整個過程中鍍液會將金屬鈀析出,通過加入不飽和有機酸(含有碳碳雙鍵)可以改善鍍液的穩(wěn)定性。需要注意的是,不同穩(wěn)定劑化學(xué)鍍鈀液的穩(wěn)定性存在差異,如表1所示。根據(jù)表1結(jié)果可以發(fā)現(xiàn),在沒有添加穩(wěn)定劑的情況下,鍍液在520℃的環(huán)境下持續(xù)加熱40min時,會出現(xiàn)嚴(yán)重析出的情況;在添加了0.3mol·L-1的不飽和有機酸B時,鍍液的穩(wěn)定性也會提高[5]。

        表1 不同穩(wěn)定劑化學(xué)鍍鈀液的穩(wěn)定性

        (3)pH值的影響

        化學(xué)鍍靶實驗中,化學(xué)鍍鈀與pH的影響分析中,結(jié)果如下:第一,當(dāng)pH值在6-8的范圍內(nèi)時,變化速率逐漸明顯,而且沉降速率也得到了明顯提升,從0.009μm/min提升到了0.01μm/min。在鍍液的pH值增加的情況下,鍍液中的OH-數(shù)量增多,而且會鈀離子發(fā)生還原反應(yīng),降低的H+的數(shù)量,在這種情況下,生態(tài)原子氫生長速度增加,鈀沉降率也會不斷提升。第二,在溫度為50℃的情況下,不同pH值下得到的鈀層表面存在差異,在鍍層表面大部分結(jié)晶細(xì)致的情況下,沒有缺陷變化,但是,在局部存在著少量微孔問題[6]。

        (4)鍍液性能的影響

        在實驗分析的過程中,通過優(yōu)質(zhì)實驗方案的使用,可以提高鍍液、鍍層的分析效果。第一,鍍液壽命分析中,需要選擇最優(yōu)的鍍液配比,將pH值設(shè)定為7.2,將溫度控制在50℃,之后進行鍍液壽命實驗檢測。在實際的檢測過程中發(fā)現(xiàn),在化學(xué)鍍液在4MTO的情況下區(qū)域穩(wěn)定狀態(tài),這種實驗條件下,之后少量鈀析出,滿足工業(yè)生產(chǎn)中鍍速在0.008~0.013μm/min范圍需求。第二,在鍍層性能分析的過程中,在實驗的過程中,通過最優(yōu)配方的設(shè)定,可以保證實驗鍍層表面的干凈、整潔,而且無明顯缺陷問題。但是需要注意的是,按照化學(xué)鍍鎳/鈀/金工藝流程的實驗方法,在進行金線鍵測試的過程中,鎳層、鈀層和金層的厚度分別為3~4μm、0.12~0.20μm和0.025~0.050μm,也就是說,在斷裂層的實驗分析中,鎳鈀金鍍層具有良好的金線鍵合能力[7]。

        4.結(jié)束語

        總而言之,在實驗的分析中可以得到以下結(jié)論:

        (1)溫度在40-50℃的范圍內(nèi),化學(xué)鍍靶的表面呈現(xiàn)出完整、無缺陷的狀態(tài)。

        (2)在鍍液的pH值在6.0-7.8的范圍內(nèi),鍍層的表面呈現(xiàn)出完整的狀態(tài),同時對鍍層的腐蝕性較低。

        (3)最佳工藝條件下,鈀層性能良好,而且可以減少鍍金中對鎳層造成的影響,同時,這種情況下具有耐腐蝕工藝良好的優(yōu)勢,可以被運用在線路板鎳鈀金的工藝生產(chǎn)中。

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