賀文蘭
(安徽文達信息工程學(xué)院,安徽 合肥 231201)
CrCl3和HfCl4、Se粉、二氧化鈦、油胺、正己烷、異丙醇、TiCl4、N719染料、異硫腈酸胍和4-叔丁基吡啶、I2、LiI、1-丁基-3-甲基咪唑碘,乙腈,臺式分散機、X射線衍射儀、透射電鏡、氙燈等。
取2mmolCrCl3和4mmolSe粉,將兩類材料摻入油胺(要求在試驗前便持續(xù)通氮氣10min)中,在氮氣環(huán)境中,予以充分的攪拌,待其達到均勻狀態(tài)后轉(zhuǎn)至三口圓底燒瓶,提升溫度至280℃,予以4h的反應(yīng)。此后,采取降溫措施,全程溫度降幅以5℃·min-1較為合適,直至恢復(fù)至室溫狀態(tài)為止,向其中加入正己烷洗滌并采取離心處理措施,由此制得黑色固體,將該制品轉(zhuǎn)至真空干燥箱內(nèi)過夜,全程保持50℃恒溫的狀態(tài)。
收集固體后,轉(zhuǎn)至管式爐中,再進一步向該處通入氮氣,在450℃的高溫環(huán)境中煅燒3h,最后再降溫,得到滿足試驗所需的樣品。
按照前述方法制得硒化物后,首先,從中選取200mg,將該部分樣品與4g鋯珠混合,待兩者具有一定的均勻性后,摻入4mL異丙醇,通過此材料的應(yīng)用,可起到分散的作用;其次,啟用分散機,利用該裝置持續(xù)4h的球磨分散處理;最后,利用噴筆將催化劑漿料噴涂至FTO導(dǎo)電玻璃上,將經(jīng)過處理后的整體樣品轉(zhuǎn)至管式爐中,考慮到燒結(jié)作業(yè)對于環(huán)境的要求,向其中通入氮氣,在該條件下持續(xù)30min的燒結(jié)處理,隨后使其自然冷卻。經(jīng)前述流程后,可制得硒化物對電極。
以X射線儀為主要裝置,加以掃描,確定晶型結(jié)構(gòu);關(guān)于材料的表面形貌分析,采用的是現(xiàn)階段業(yè)內(nèi)較為主流的掃描電鏡和投射電鏡,將兩類裝置聯(lián)合應(yīng)用??讖椒植寄M選用的是(BJH)模型。循環(huán)伏安實驗環(huán)節(jié),根據(jù)操作要求,適配的是三室電解池,具體類型及用量為:0.1mol/LLiClO4,10mmol/LLiI,和1mmol/LI2。根據(jù)交流阻抗實驗的基本要求,制定硬件設(shè)施布設(shè)方案,即對稱電極連接電化學(xué)工作站,確定實驗結(jié)果后,依托于Z-view軟件加以擬合,以便做針對性的分析。立足于DSCs器件的運行特性,并全方位考慮光電性能測試的作業(yè)需求,合理選用光源形式,即采用的是氙燈,在確定具體的實驗數(shù)據(jù)后,用軟件記錄并分析[1]。
經(jīng)XRD表征后,準確掌握晶相結(jié)構(gòu),據(jù)此進一步確定XRD圖譜,具體內(nèi)容,如下頁圖1所示。結(jié)合圖1(a)的相關(guān)內(nèi)容展開分析,衍射峰分別對應(yīng)特定的晶面,同時與單斜結(jié)構(gòu)Cr5.6Se8標準卡片相對應(yīng)。進一步對圖1(b)的該對應(yīng)關(guān)系展開分析,明確樣品結(jié)構(gòu)特點,即為單斜結(jié)構(gòu)HfSe3。
圖1 硒化物的XRD圖譜
形貌表征,如下頁圖2所示。結(jié)合圖2a的相關(guān)內(nèi)容展開分析,Cr5.6Se8由短納米組成,同時,有部分納米顆粒的形態(tài)呈不規(guī)則狀,且長度達到100nm以上。納米纖維在特性的空間組合下,構(gòu)成三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),在異相催化期間,有助于提高電子的傳輸效率。對于HfSe3,則含有較為豐富的不規(guī)則納米顆粒,但局部依然摻雜著納米片,具體如圖2d所示,得益于較大的納米粒子,有助于構(gòu)筑寬度適宜的孔道,此時可較為高效地提高電解質(zhì)的滲透效率。
對于圖2b、e,其均為透射電鏡照片;對于圖2c、f,晶格間距為0.214nm對應(yīng)于Cr5.6Se8(311)晶面。HfSe3具有不規(guī)則的結(jié)構(gòu)特點,共存在三類晶格間距,即0.291nm、0.262nm和0.211nm。
圖2 硒化物樣品的形貌表征圖
BET表征結(jié)果,如圖3所示。結(jié)合圖中內(nèi)容展開分析,在圖3(a)中,著重考慮的是壓力,將目光集中在0.45—1.0的壓力值區(qū)間內(nèi),根據(jù)該部分的圖像可以得知,其存在吸附滯后環(huán),意味著兩種硒化物存在介孔結(jié)構(gòu),在該結(jié)構(gòu)特性下,可以有效打通I3-吸附渠道(無阻礙),并且也有利于物質(zhì)的便捷化傳輸。Cr5.6Se8的BET表面積和總孔隙率為68.42m2·g-1和0.20cm3·g-1,但HfSe3則分別下降至23.17m2·g-1和0.08cm3·g-1。通過對結(jié)構(gòu)特點的分析可以得知,Cr5.6Se8雖然有大孔徑但數(shù)量明顯偏少,由此,加大電解液的傳輸難度;HfSe3的孔徑分布較寬。干擾因素較多,例如,表面積和孔徑分布的差異性則較為典型,隨之對催化劑的性能帶來影響,具體體現(xiàn)在“對I3-/I-體系的吸附效果”這一層面,即吸附情況有所變化,并且該影響機制具有進一步的傳遞,例如,催化性能和電化學(xué)性能的改變。
圖3 硒化物在77K時的N2吸脫附曲線
3.4.1 循環(huán)伏安表征
在I3-/I-體系下,塑造可滿足試驗與分析要求的電解液環(huán)境,由此探討各類材料對電極的循環(huán)伏安特性,做系統(tǒng)性的對比分析,具體內(nèi)容,如圖4所示。結(jié)合圖4內(nèi)容展開分析,較之于Pt電極而言,兩種硒化物的CV曲線均與之具有高度的相似性,從而說明兩者的催化活性較為良好。
圖4 循環(huán)伏安曲線
根據(jù)三種電極各自的特性可以得知,有0.2—0.5V和0.7—0.9V兩處氧化還原峰值,但各自有所區(qū)別:對于低電位而言,其氧化還原峰對應(yīng)的是I3-/I-之間,其特點在于會對電極的催化性能帶來較明顯的影響。
表征電極催化性能的參數(shù)有兩類:一是還原峰電流,其關(guān)鍵意義在于可作為電極催化反應(yīng)速率的關(guān)鍵判斷依據(jù);二是Epp,即電極發(fā)生氧化還原反應(yīng)后的可逆性。就HfSe3而言,在低電位的條件下,還原峰電流較高(相比于Pt電極而言),但就理論層面而言兩項指標應(yīng)當具有一致性,由此可見,I3-在HfSe3電極處更易被還原。而對于Cr5.6Se8電極,可以發(fā)現(xiàn)其還原峰電流以及電位均更低,從而可以得知的是,該類電極的催化活性遜色于Pt電極[2]。
3.4.2 交流阻抗表征
DSCs對電極催化性能分析中,可選方法較多,此處采用的是準確度較高、便捷性較好、適用性較強的交流阻抗技術(shù)。依托于該項技術(shù),確定硒化物和Pt電極對I3-/I-氧化還原的情況,具體內(nèi)容,如圖5所示。
圖5 硒化物和Pt電極對I3-/I-氧化還原
結(jié)合圖5中內(nèi)容展開分析,對于各曲線而言,其顯著的共同特點在于均包含兩個半圓。在左側(cè)高頻區(qū)域中,存在一系列與橫坐標軸相交的點,其反映的是對稱電池的串聯(lián)電阻(Rs),此處的電阻值并非單一值,而是基于多項電阻值共同組合而成,例如,電機的電阻、基底FTO的電阻等。進一步分析右側(cè)半圓,則是判斷能斯特擴散阻抗(ZN)的關(guān)鍵依據(jù)。總體來看,硒化物對電極的Rs值普遍偏大。HfSe3和Cr5.6Se8的RS值分別為7.81Ω·cm2、7.78Ω·cm2,可以發(fā)現(xiàn)兩者的該值具有高度接近的特點,進而說明兩類硒化物的導(dǎo)電性具有較為顯著的相似性。但就對I3-還原反應(yīng)的催化性能而言,則以HfSe3電極更為突出。Cr5.6Se8和HfSe3的該值分別為107.2μF和66.8μF。從擴散阻抗的角度來看,HfSe3的該值低于Cr5.6Se8電極,相比于Pt電極而言,兩者高度接近,從而可以判斷的是:I3-在HfSe3電極中的擴散系數(shù)較大。隨著對電極材料導(dǎo)電性的變化,對應(yīng)DSCs的光電性能也將隨之發(fā)生改變,即后者在很大程度上取決于前者。
3.4.3 Tafel
為形成更為全面、更為深刻的認識,此部分則采取Tafel極化表征的方法。根據(jù)該方法的基本分析思路,選取三種對稱電池(各自分別由不同的對電極組裝而成),在測試條件一致的前提下確定相應(yīng)的Tafel極化曲線,具體內(nèi)容,如圖6所示。對于整個Tafel曲線而言,可以將該曲線細分為三個區(qū)域,用于做針對性的分析,即極化區(qū)、Tafel區(qū)和極限擴散區(qū),各自的指導(dǎo)意義不同。結(jié)合圖中內(nèi)容展開分析,可以對電流密度的規(guī)律形成更為深入的認識,即該指標的對數(shù)是電位U的函數(shù)。具體至低電位的條件中,可以發(fā)現(xiàn)此時HfSe3的斜率較大,但對于交換電流密度這一指標而言,則具有偏小的特點。在式(1)中,則表征的是J0(交換電流密度)與Rct(電極的穿荷電阻)的關(guān)聯(lián)特性,可以發(fā)現(xiàn),其具有“J0與Rct成反比”的特點,根據(jù)此關(guān)系,可以得知HfSe3具有更為良好的催化活性。
圖6 塔菲爾極化曲線
式中:R—氣體常數(shù),T—絕對溫度,n—電子轉(zhuǎn)移數(shù),F(xiàn)—法拉第常數(shù),Rct—電極的傳荷電阻。
U>0.2V時則被視為高電位,在該狀態(tài)下,圍繞極限擴散電流密度展開對比分析,發(fā)現(xiàn)HfSe3超過Cr5.6Se8,同時,該值與Pt電極僅存在微小的差距。根據(jù)這一關(guān)系可以判斷的是,I3-的擴散系數(shù)較大,但對于Cr5.6Se8而言,則表現(xiàn)出極限擴散電流較小的特點。
Cr5.6Se8和HfSe3對電極DSCs的J-V曲線,如圖7所示??梢园l(fā)現(xiàn),無論何種硒化物對電極DSCs,均具有超過Pt對電極開路電壓的特點。此現(xiàn)象的出現(xiàn),認為與硒化物對電極的Rs值較高有關(guān)。開路電壓VOC的產(chǎn)生,與光陽極TiO2的平帶電位和I3-/I-的氧化還原電位存在差異有關(guān),由此進一步提出疑問,即為何會出現(xiàn)該差異。分析發(fā)現(xiàn),I3-/I-的氧化還原電位差異化是關(guān)鍵的主導(dǎo)因素,進一步剖析,發(fā)現(xiàn)此現(xiàn)象的出現(xiàn)與電極催化活性的差異有關(guān),對于硒化物而言其VOC值較高,因此,催化活性較強,在該特性下,將會迫使I3-/I-的氧化還原電位較原狀態(tài)而言發(fā)生變化,即存在正移的情況。
從結(jié)構(gòu)的角度來看,對于HfSe3和Cr5.6Se8而言,各自的單斜晶體結(jié)構(gòu)呈現(xiàn)出高度相似性的特征,在此關(guān)系下,進一步?jīng)Q定了VOC值的特點,即兩者的VOC值高度相似,并且該影響機制將進一步作用于電解液中I3-/I-的氧化還原電位,即形成連鎖作用。硒化物對電極DSCs的顯著特征在于其具有較小的短路電流,而此方面的結(jié)果也與EIS測試結(jié)果相同。得益于較高的催化活性,HfSe3表現(xiàn)出較為顯著的填充因子較高的狀態(tài)特征,在該條件下,所創(chuàng)造的能量轉(zhuǎn)換效率也較高。能量轉(zhuǎn)換效率方面,HfSe3和Cr5.6Se8分別為7.52%和7.27%,兩者無明顯的差異,相較于Pt電極DCSs而言(該值為7.91%),也幾乎處于持平的狀態(tài)[3]。
圖7 光電流——光電壓特性曲線
綜上所述,在本文的分析工作中,主要提出兩種較為典型的硒化物,即Cr5.6Se8和HfSe3,將兩類樣品視為對電極,在此基礎(chǔ)上將各自分別應(yīng)用于DSCs體系中,對其性能特征展開探討。
根據(jù)對合成硒化物的分析可知,其表現(xiàn)為介孔結(jié)構(gòu),此類結(jié)構(gòu)的特點在于內(nèi)部“通達性”較好,例如,在I3-吸附時具有較高的效率,以及在物質(zhì)的傳輸過程中具有順暢性,全過程中物質(zhì)的流通效率均較高。
在I3-/I-電對的還原反應(yīng)中,兩類材料均有較為突出的催化活性,能量轉(zhuǎn)換效率較高,將此方面的特性與基于濺射Pt電極的DSCs對比分析后發(fā)現(xiàn),其僅存在微小的差距。
經(jīng)過本次分析,對硒化物陰極催化材料應(yīng)用特性形成初步的認識,希望所提的內(nèi)容可以作為同仁的參考,進而在后續(xù)可更為深入地做出探究,在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上實現(xiàn)持續(xù)性的突破,切實提高此類材料的應(yīng)用水平。