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        R6G量子產率對薄膜隨機激光器特性的影響

        2021-08-10 07:38:34華北電力大學數(shù)理系李松濤王靈旭
        電力設備管理 2021年7期

        華北電力大學數(shù)理系 李松濤 王靈旭 丁 娜 溫 馨 劉 洋 任 芝

        傳統(tǒng)激光器由泵浦源、諧振腔和增益介質三個必要部分組成,而隨機激光器是一種區(qū)別于傳統(tǒng)激光器的新型激光器,其基本原理是利用介質中顆粒的多重散射充當傳統(tǒng)諧振腔的功能,因而隨機激光器不含有傳統(tǒng)意義上的諧振腔,體積較傳統(tǒng)激光器大大減小[1]。自Letokhov首次報道隨機激光器開始,研究人員不斷開展隨機激光的理論和實驗研究。在隨機激光器的研究中,柔性薄膜型隨機激光器以其可穿戴、制備工藝簡單、重復利用率高等優(yōu)點,在誕生之初就備受關注。然而,作為激光增益介質的染料,其濃度對于柔性聚合物薄膜隨機激光器性能的影響不容忽視。

        1 制備柔性薄膜隨機激光器

        配置六種濃度不同的R6G乙醇溶液,濃度分別為1~6mg/ml,每種溶液分別與聚二甲基硅氧烷(PDMS)按照質量體積比1mg:1ml均勻混和,混和后的溶液在0.1MPa真空腔中靜置30min,去除乙醇后與固化劑按質量比為1:0.1進行配比,攪拌均勻后取適量液體旋涂在15×15×1mm3硅膠墊基底上,轉速2500rpm、旋涂30s、旋涂樣品在常溫下靜置10h,待PDMS固化后得到固態(tài)柔性薄膜隨機激光器。

        2 結果與討論

        R6G、PDMS和硅膠墊構成柔性薄膜型隨機激光器中,R6G分子分散在PDMS中,二者共同組成增益介質層,硅膠墊提供柔性襯底。R6G、PDMS的分子式結構如圖1(a)和(b)所示,圖1(c)是柔性薄膜型隨機激光器的照片(上)和剖面顯微鏡照片(下),h標明R6G和PDMS組成的增益介質層厚度;圖1(d)是增益介質層厚度h與R6G乙醇溶液濃度的關系,h的數(shù)值在64~69μm之間。

        本文采用均膠機旋涂方法制備增益介質層,旋涂的厚度h,根據(jù)Emslie的指數(shù)估算關系式h=kηβ/ωp,式中h為薄膜厚度,ω為角速度,η為溶液的粘度,參數(shù)k及指數(shù)ρ、β為擬合系數(shù),與旋涂液的物理性質、環(huán)境的溫度濕度、溶液與基底的作用等有關[2]。在制備薄膜隨機激光器的過程中,R6G分子分散在PDMS液體中,而PDMS的粘度不發(fā)生變化,因此制備得到的含有不同濃度R6G的增益介質層厚度基本相同。圖1(d)中實驗結果表明增益介質層厚度表現(xiàn)了較高的一致性,對后文研究起到積極作用。

        圖1 薄膜隨機激光組分和厚度

        為進一步研究薄膜隨機激光器的特性,本研究使用納秒激光器(PL DLS 8000)作為泵浦源,泵浦源波段選取為Nd:YAG倍頻后的532nm,脈沖寬度為10ns,重復頻率為10Hz,單脈沖最大輸出能量為10mJ,利用光纖光譜儀(Ocean Optics Maya 2000 Pro光譜儀)接收聚合物薄膜隨機激光器發(fā)射的隨機激光,探測角度無特殊說明均為45°。532nm處于R6G的吸收帶,因此柔性聚合物隨機激光器中的一部分基態(tài)電子在吸收了能量后,躍遷至于此能量相對應的較高能級達到激發(fā)態(tài),當處于較高能級上的粒子以另一種方式躍遷回基態(tài)的較低能級時、即電子跳回基態(tài),光子被釋放,此時在聚合物膜中由于散射作用(服從統(tǒng)計規(guī)律),這一束光被分散成多個,絕大多數(shù)的光子被散射至無數(shù)的散射顆粒所充當?shù)牡刃⑶唤Y構當中,光被放大,輻射出與吸收光子頻率、相位、偏振態(tài)以及傳播方向完全相同的光子,當增益大于損耗就產生了激光[3]。

        圖2(a、c、e)為不同濃度下(1mg/ml、4mg/ml、6mg/ml)的隨機激光隨泵浦功率密度的變化情況;(b、d、f)為不同泵浦功率密度下隨機激光半峰全寬和強度之間的變化情況。

        圖2 隨機激光特性

        圖2中(a)和(b)對應著R6G濃度為1mg/ml的柔性聚合物隨機激光器激光出射情況,當樣品受到532nm激光的光源泵浦時,隨著激發(fā)光能量的增加,在波長為565.97nm處出現(xiàn)隨機激光,其閾值約為14.86μJ/cm2。(c)和(d)對應著R6G濃度為4mg/ml的柔性聚合物隨機激光器激光出射情況,當樣品受到532nm激光的光源泵浦時,隨著激發(fā)光能量的增加,在波長為573.81nm處出現(xiàn)隨機激光,其閾值約為27.07μJ/cm2。(e)和(f)對應著R6G濃度為6mg/ml的柔性聚合物隨機激光器激光出射情況,當樣品受到532nm激光的光源泵浦時,隨著激發(fā)光能量的增加,在波長為583.43nm處出現(xiàn)隨機激光,其閾值約為39.60μJ/cm2。可見隨著濃度的增加閾值不斷提高,激發(fā)難度越來越大。

        對于相同R6G濃度的隨機激光器,隨著泵浦能量密度的增強,激光強度不斷增大且半峰全寬不斷變窄,而隨著濃度的增加閾值越來越高,激發(fā)越來越困難。圖2(a、c、e)左側展示的是形同R6G濃度的樣品在不同泵浦能量密度下的激發(fā)情況,(b、d、f)右側展示的是泵浦能量密度與半峰全寬(FWHM)的線性關系(紅色線條表示的是泵浦能量密度和出射光的強度之間的關系;黑色線條表示的是泵浦能量密度與出射波長的半峰全寬之間的關系),交點處藍色箭頭處即為隨機激光器的閾值。

        圖3(a)為旋涂機不同轉速下對不同濃度的隨機激光薄膜厚度進行的表征(b)六個濃度泵浦激光發(fā)射光譜組合圖,從左到右六個濃度依次為1~6mg/ml,選取三個具有代表性的泵浦能量密度合并到一個圖中,“由低到高”對應的泵浦能量分別為11.33μJ/cm2、20.71μJ/cm2、37.54μJ/cm2,箭頭所指示的為整體走向趨勢。(c)是用MATLAB擬合的波長與濃度變化曲線。如圖3(a)所示,對不同樣品分別給予相同的泵浦能量,發(fā)現(xiàn)隨著濃度的增加出射光波長不斷紅移,且紅移的速度呈現(xiàn)先快后慢的趨勢,濃度過高發(fā)生淬滅,光強度逐漸減弱,光強與波長的變化呈指數(shù)趨勢衰退。

        圖3 增益介質濃度與光譜的關系

        出射光波長與強度的關系表示如圖3(b),選取11.33 μJ/cm2、20.71 μJ/cm2、37.54 μJ/cm2三個具有代表性的泵浦能量密度合并到一個圖中,藍色箭頭所指示的為整體走向趨勢。在考慮薄膜厚度、激發(fā)光功率密度的前提下,對出射光強度和波長的關系描述如圖3(c)所示,隨著濃度的升高,波長逐漸紅移,強度逐漸減弱,泵浦能量密度越高這種趨勢越明顯。

        為探究濃度的變化對波長造成的影響,將波長和濃度的變化擬合到一張圖中并得出曲線如圖3(c),橫坐標為波長、縱坐標為濃度,通過泵浦不同濃度條件下的樣品所測得的出射隨機激光,用得到的多組數(shù)據(jù)可看出變化的趨勢是先快后緩,符合正弦曲線的特征。將原始數(shù)據(jù)導入MATLAB,得到了數(shù)據(jù)的擬合曲線方程ρ=αsin(ωλ+β),ρ為R6g的濃度,λ為出射光波長,α、β、ω為擬合系數(shù),α=6.397、β=0.6246、ω=0.3862,取值范圍分別為(4.501,8.292)、(0.3609,0.8883)、(0.1731,0.5992),方差SSE=0.09704,均方根RMSE=0.1798,確定系數(shù)R-square=0.9945,這足以說明擬合效果很好,符合數(shù)據(jù)的變化規(guī)律,在實驗所選用的濃度范圍內可用此方程估算其出射激光的波長,這對以后的實驗有很好的指導作用。

        熒光量子效率定義為φf=PhotonEm/PhotonAbs,式中[PhotonEm]為愛因斯坦發(fā)射光子數(shù),PhotonAbs為愛因斯坦吸收光子數(shù),根據(jù)Beer定律光密度D=εcl,強度為I的泵浦光激發(fā)樣品熒光強度∫f(ν)dν表示為∫f(ν)dν=AIφf(1-e-εcl)。

        本文計算了不同濃度條件下的聚合物激光器量子產率,圖4(a)是六個濃度隨機激光器的的消光光譜,其中黑色線條表示硅膠墊基底的消光光譜,紅色線條表示只有PDMS有機化合物的消光光譜。(b)是濃度和激光量子效率之間的變化曲線,右上角為不同濃度的隨機激光器的光密度D的走勢圖。

        圖4 消光特性和量子效率與濃度的關系

        3 結語

        本文討論了R6G濃度對柔性聚合物薄膜隨機激光器出射光波長、強度、半峰寬、閾值及模式特性的影響并得出結論:在厚度一定的前提下,泵浦光能量密度一定的情況下,隨著濃度的增加波長逐漸紅移,且紅移的速度先快后慢,當濃度過高發(fā)生淬滅會再次藍移回來;出射光強度越來越?。话敕迦珜捲絹碓綄捛仪€越來越不光滑,向著多模的趨勢發(fā)展;閾值不斷提高激發(fā)越來越困難;在不考慮超高濃度藍移回來的情況下,波長與強度呈指數(shù)趨勢衰退;激光量子產率越來越低。

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