裴寶林,彭 松,曹 蓉,趙程遠(yuǎn)
(湖北航天化學(xué)動(dòng)力技術(shù)研究所,襄陽 441003)
溶劑是炸藥制備過程中的重要環(huán)境因素之一,對(duì)最終炸藥晶體的形貌、感度及爆轟性能等方面都會(huì)產(chǎn)生影響。在晶體生長過程中,晶體晶面與溶劑發(fā)生相互作用導(dǎo)致生長速率發(fā)生變化,從而使晶體產(chǎn)生區(qū)別于真空中晶體的外形[1]。晶習(xí)對(duì)共晶炸藥的性能具有重要影響,因此從實(shí)踐和理論角度研究晶體晶習(xí)具有重要意義[2]。陶俊分析了從丙酮中重結(jié)晶出來的HMX的晶形和感度特性,HMX的撞擊感度和摩擦感度相較于結(jié)晶前有所改善[3]。LEE計(jì)算了7-氨基-4,6-二硝基苯并氧化呋咱(ADNBF)與溶劑的相互作用和溶劑分子在晶面上可能的結(jié)合位點(diǎn)[4]。劉寧采用試驗(yàn)和計(jì)算模擬相結(jié)合的方法,分析了水/乙酸(H2O/AcOH)和H2O/乙醇(EtOH)兩種混合溶劑體系對(duì)3,4-二硝基呋咱基氧化呋咱(DNTF)晶體形貌及感度的影響[5]。結(jié)晶試驗(yàn)表明,所制備出的DNTF的晶形與模擬結(jié)果一致。感度測(cè)試結(jié)果表明,從H2O/AcOH中得到的炸藥安全性更高。曹蓉等[6]研究表明,在硝酸酯增塑GAP推進(jìn)劑中CL-20、HMX會(huì)相互結(jié)合形成共晶,導(dǎo)致推進(jìn)劑的力學(xué)、燃燒等性能嚴(yán)重劣化。發(fā)現(xiàn)了硝酸酯是CL-20、HMX發(fā)生共晶的必要因素,并推出了CL-20、HMX在推進(jìn)劑中形成共晶的過程為CL-20、HMX硝酸酯作用下溶解,溶劑狀態(tài)下的CL-20、HMX在分子間相互作用下相互結(jié)合形成共晶,生成的共晶從硝酸酯中析出推動(dòng)反應(yīng)向生成共晶方向移動(dòng)。
開展推進(jìn)劑中共晶研究可為解決實(shí)際問題提供理論和技術(shù)支持,然而推進(jìn)劑成分復(fù)雜,增塑劑、粘合劑、固化劑、添加劑等均有可能對(duì)共晶的形成造成影響,且高溫下純硝酸酯較危險(xiǎn)。因此,在硝酸酯增塑GAP粘合劑下開展CL-20、HMX共晶研究,一方面研究主體環(huán)境與推進(jìn)劑相似,一方面簡化體系,避免固化劑、添加劑等對(duì)共晶造成影響,一方面降低危險(xiǎn)性。
本文以硝酸酯增塑GAP粘合劑為溶劑,采用懸浮液法制備出CL-20/HMX共晶晶體,進(jìn)行XRD、SEM等測(cè)試,并以分子動(dòng)力學(xué)方法模擬得到共晶界面-硝酸酯模型。結(jié)合試驗(yàn)和計(jì)算探索硝酸酯增塑GAP粘合劑對(duì)CL-20/HMX共晶的影響,為含CL-20、HMX的硝酸酯增塑推進(jìn)劑研究提供理論基礎(chǔ)和試驗(yàn)支持。
1.1.1 試驗(yàn)用品
試驗(yàn)中所用原材料如表1所示。
表1 原材料
1.1.2 測(cè)試方法
X射線衍射儀:德國Bruker AXS公司型X射線衍射儀,Cu靶,波長0.154 6 nm,角度范圍5°~50°,不加單色器,掃面電壓40 kV,掃描電流40 mA,掃描速度0.03°/0.5 s。
環(huán)境掃描電鏡:美國FEI公司QUANTA650FEG型場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡。
高效液相色譜儀,美國Agilent Technologies公司6120/PS-0944型高效液相色譜分析儀。
1.1.3 試驗(yàn)過程
分別取1.869 g CL-20、0.631 g HMX于玻璃杯中,加入0.045 g安定劑和10 g硝酸酯增塑GAP粘合劑,手動(dòng)攪拌3 min,將其配置成懸浮液。攪拌結(jié)束后將此懸浮液置于70 ℃恒溫箱中,靜置5 d。產(chǎn)物放入合適溶劑中,離心、洗滌、過濾、干燥,過100目篩得到樣品。
1.2.1 力場(chǎng)選擇
1.2.2 模型構(gòu)建
2.1.1 X射線衍射分析
圖1為CL-20、HMX及混合物的XRD圖。從圖1可看出,HMX特征峰位置在14.8°、16.2°、21.5°、23.2°、29.8°、32°處;CL-20特征峰在12.5°、26°、30.5°處;CL-20/HMX混合物的特征峰均為CL-20、HMX的特征峰,且沒有其他雜峰;混合物在26°~30°處峰強(qiáng)弱于CL-20、HMX可能是在制樣過程中產(chǎn)生了擇優(yōu)取向。
圖1 CL-20、HMX及混合物的XRD圖
圖2為樣品與共晶單晶[13]的XRD圖。從圖2可看出:(1)制備樣品的XRD圖中CL-20、HMX的特征峰消失,11°、11.5°、13.5°、16.5°、27.5°等處出現(xiàn)新的衍射峰,這些峰與XRD單晶衍射數(shù)據(jù)相同說明制備出了CL-20/HMX共晶;(2)11°、27.5°處衍射峰為共晶在(200)、(500)面的衍射峰,二者同屬于(100)晶面的次級(jí)衍射峰,11.5°、13.5°、16.5°處衍射峰分別為共晶在(011)、(111)、(102)面的衍射峰;(3)樣品特征峰強(qiáng)度11°>16.5°>13.5°而CL-20/HMX單晶在11°、13.5°、16.5°處特征峰強(qiáng)度依次增大,推測(cè)可能是溶劑影響了共晶各晶面的生長速率,導(dǎo)致共晶樣品各晶面衍射峰強(qiáng)度發(fā)生明顯變化。
(a)Sample
2.1.2 SEM測(cè)試分析
圖3展示了CL-20、HMX、樣品(篩前)、樣品(篩后)、CL-20/HMX共晶[13]的形貌。從圖3可看出:(1)原料CL-20呈紡錘體狀,HMX為無定形狀;(2)篩選后晶體形貌一致為平面板狀,較篩選前規(guī)整;(3)CL-20/HMX共晶的形貌為平面板狀。表明硝酸酯增塑GAP粘合劑下制備出了CL-20/HMX共晶。
(a)CL-20 (b)HMX
2.1.3 HPLC測(cè)試分析
CL-20/HMX共晶溶于丙酮溶劑中,做HPLC檢測(cè),結(jié)果如圖4所示:保留時(shí)間為3.3 min處為丙酮的色譜峰,4.6 min處為HMX色譜峰,9.3 min處為CL-20色譜峰,各峰間距較大且峰型完好,說明HPLC法可有效分離共晶組分并檢測(cè)其中CL-20和HMX的含量。HPLC測(cè)得共晶中組分:質(zhì)量百分比ωCL-20=71.8%、ωHMX=24.6%,摩爾比n(CL-20)︰n(HMX)=1.97≈2。說明共晶與單晶一致是摩爾比n(CL-20)︰n(HMX)為2︰1,硝酸酯增塑GAP粘合劑沒有改變共晶的組成。
圖4 CL-20/HMX共晶的HPLC測(cè)試結(jié)果圖
在硝酸酯增塑GAP粘合劑中采用懸浮液法制備
了共晶樣品,XRD分析表明樣品特征峰為(200)、(011)、(111)、(102)、(500),其中(200)、(500)是(100)晶面的次級(jí)衍射,可用(100)晶面模擬其與硝酸酯相互作用。HPLC分析表明,共晶組分摩爾比接近2︰1,這與前人以2︰1投料摩爾比得到組分摩爾比為2︰1共晶的結(jié)果一致[14-17],采用分子動(dòng)力學(xué)方法模擬得到硝酸酯溶劑在共晶主要晶面處的結(jié)合能和擴(kuò)散系數(shù),從能量和溶劑擴(kuò)散角度分析硝酸酯溶劑對(duì)共晶的影響。
2.2.1 力場(chǎng)
CL-20/HMX共晶模型及共晶單晶的計(jì)算和實(shí)驗(yàn)參數(shù)列于表2。由表2可看出,三個(gè)力場(chǎng)下所得共晶的α參數(shù)相對(duì)誤差均在5%左右,相差不大;CVFF力場(chǎng)模擬下共晶的密度值相對(duì)誤差則超過10%,遠(yuǎn)大于COMPASS力場(chǎng)下的密度值;PCFF力場(chǎng)模擬下共晶的γ值相對(duì)誤差約為COMPASS力場(chǎng)下的8倍,相差較大,且共晶的β值(14.16%)與密度值(11.89%)的相對(duì)誤差均超過了10%,遠(yuǎn)大于COMPASS力場(chǎng)下的β值和密度值相對(duì)誤差。說明COMPASS力場(chǎng)的精度相對(duì)較高,更適用于CL-20/HMX共晶模型的MD模擬。
表2 固化參數(shù)對(duì)推進(jìn)劑力學(xué)性能的影響
2.2.2 溶劑擴(kuò)散能力分析
晶體生長過程可分為溶質(zhì)擴(kuò)散、表面反應(yīng)、表面?zhèn)鳠崛齻€(gè)步驟。在70 ℃、不攪拌、硝酸酯增塑粘合劑中,溶質(zhì)擴(kuò)散對(duì)CL-20/HMX共晶的生長有重要影響。溶質(zhì)隨著溶劑的擴(kuò)散而擴(kuò)散,因此用溶劑的擴(kuò)散能力反應(yīng)溶質(zhì)的擴(kuò)散能力。溶劑的擴(kuò)散能力可由擴(kuò)散系數(shù)D進(jìn)行評(píng)估,擴(kuò)散能力越大,溶劑與晶面相互作用越弱,晶面趨于自由生長。根據(jù)愛因斯坦方程,D可用式(1)表示:
(1)
式中ri為第i個(gè)粒子的位置矢量,尖括號(hào)表示系綜平均。
通過NVT-MD模擬分析了共晶面上四個(gè)設(shè)定溫度下硝酸酯分子的均方位移(MSD),并繪制在圖5中。計(jì)算曲線斜率得到硝酸酯在共晶晶面上擴(kuò)散系數(shù)D:(111)面0.29;(102)面0.53;(100)面0.067;(011)面0.66。各晶面擴(kuò)散系數(shù)由大到小順序?yàn)?011)>(102)>(111)>(100)。
圖5 不同晶面處硝酸酯的MSD圖
上述結(jié)果說明,硝酸酯分子在晶面(011)、(102)面上較容易擴(kuò)散,在(100)、(111)面上不容易擴(kuò)散。表明溶劑抑制了(100)、(111)晶面的生長。
2.2.3 相互作用分析
結(jié)合能Eint、晶面面積Shkl和單位面積結(jié)合能Ea,int按式(2)~式(4)進(jìn)行處理:
Eint=-(Etol-Esurf-Esolv)
(2)
(3)
Shkl=a·b·sin(π·γ/180)
(4)
將不同晶面-硝酸酯模型的晶面面積、單位面積結(jié)合能列于表3中??煽闯?,晶面不同,共晶晶面-硝酸酯模型的單位面積結(jié)合能也不同。(100)晶面的單位面積結(jié)合能最大,說明硝酸酯分子與(100)晶面相互作用最強(qiáng),使得溶質(zhì)分子很難進(jìn)入(100)表面,從而抑制了(100)晶面的生長。(011)晶面與溶劑相互作用較強(qiáng),(102)、(111)晶面與溶劑相互作用相差不大。根據(jù)結(jié)合能分析,溶劑中共晶晶面-溶劑單位面積結(jié)合能強(qiáng)弱順序?yàn)?100)>(011)>(102)≈(011)。
表3 不同晶面-硝酸酯模型晶面面積、單位面積結(jié)合能
2.2.4 溶劑-晶面界面
由于不同晶面的表面化學(xué)和結(jié)構(gòu)一般都不相同,溶劑在每個(gè)晶面的吸附行為都比較復(fù)雜。圖6展示出了MD模擬平衡后硝酸酯分子與(011)、(102)、(111)和(100)晶面之間的表面結(jié)構(gòu)。通常,溶劑分子對(duì)晶面的吸附能力越強(qiáng),其對(duì)晶體的生長影響越大。但當(dāng)共晶單元的生長方向垂直于晶面方向時(shí),溶劑和晶面之間的相互作用不僅取決于原子間相互作用,還與溶劑和晶面之間幾何結(jié)構(gòu)有關(guān)。由圖6可知,(100)呈平面型較光滑,(011)面、(102)面呈鋸齒型、(111)面呈階梯型較粗糙。參數(shù)S即溶劑可接觸面積與晶面表面積之比可用來描述表面特性,溶劑可接觸面積可以通過計(jì)算康諾利表面(Connolly surface)獲得[18-19]。CL-20/HMX晶面-硝酸酯界面模型的S值見表4。由表4可知,(100)晶面的S值最小,(102)、(011)、(111)晶面的S值相近。說明(100)晶面較光滑,(102)、(011)、(111)晶面較粗糙。
(a)100 (b)102
表4 CL-20/HMX-硝酸酯模型晶面面積、可接觸面積、S
通過圖5得知,硝酸酯分子在各晶面擴(kuò)散能力由大到小順序?yàn)?011)>(102)>(111)>(100)。表明(011)面生長最快、(100)面生長最慢。由表3、表4可知,(102)面與硝酸酯的相互作用強(qiáng)與(111)面且(102)面更粗糙,表明晶面與硝酸酯的實(shí)際相互作用更大。只有移去溶劑分子,共晶才能生長。因此,(102)晶面實(shí)際生長速率弱于(111),這與圖2中XRD測(cè)試結(jié)果一致。
(1)采用懸浮液法在硝酸酯增塑GAP粘合劑中制備出了CL-20/HMX共晶,SEM分析表明共晶呈平面板狀不同于CL-20、HMX形貌;HPLC分析表明共晶中組分摩爾比nCL-20∶nHMX=1.97≈2;XRD分析表明共晶各衍射峰位置與單晶一致,說明制備出了CL-20/HMX共晶。硝酸酯增塑GAP粘合劑中共晶在各晶面處衍射峰強(qiáng)弱由大到小為(100)、(102)、(111)、(011),不同于單晶測(cè)試中衍射峰強(qiáng)弱順序。
(2)采用MD方法研究了硝酸酯對(duì)CL-20/HMX共晶的影響,結(jié)合能分析表明,(100)晶面與硝酸酯相互作用最強(qiáng),(102)、(111)、(011)晶面與硝酸酯相互作用強(qiáng)度相近;溶劑擴(kuò)散分析表明,硝酸酯在晶面上的擴(kuò)散能力順序?yàn)?011)>(102)>(111)>(100);界面分析表明,(100)、(102)面呈平面型較光滑,(011)面呈鋸齒型、(111)面呈階梯型較粗糙。
(3)計(jì)算結(jié)果較好解釋了試驗(yàn)結(jié)果的成因:(100)晶面較光滑、硝酸酯擴(kuò)散能力弱、相互作用強(qiáng),導(dǎo)致(100)晶面生長緩慢成為重要的形態(tài)學(xué)晶面,在XRD中表現(xiàn)為(200)、(500)兩個(gè)次級(jí)衍射峰;(111)、(102)、(011)晶面受相互作用、擴(kuò)散能力、界面狀態(tài)的綜合影響生長速度由小到大為(102)、(111)、(011),在XRD中表現(xiàn)為衍射峰強(qiáng)度依次減小。