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        相控陣技術(shù)在爆炸焊接鈦/鋼復(fù)合板檢測(cè)中的應(yīng)用

        2021-06-28 03:36:36樊科社吳江濤王禮營(yíng)
        鈦工業(yè)進(jìn)展 2021年2期
        關(guān)鍵詞:試板復(fù)合板晶片

        王 茹,樊科社,吳江濤,汪 洋,王禮營(yíng)

        (西安天力金屬?gòu)?fù)合材料股份有限公司,陜西 西安 710201)

        爆炸焊接鈦/鋼金屬?gòu)?fù)合板既有鈦的耐蝕性,又有普通鋼板作為結(jié)構(gòu)件的強(qiáng)度和塑性,是應(yīng)用最廣泛的爆炸焊接層狀金屬?gòu)?fù)合材料之一。在生產(chǎn)制造過(guò)程中,鈦/鋼復(fù)合板常見(jiàn)的結(jié)合界面缺陷有分層、邊部弱結(jié)合[1-3]。結(jié)合界面缺陷主要采用超聲方法進(jìn)行檢測(cè)。目前,鈦/鋼復(fù)合板超聲檢測(cè)方法與驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn),國(guó)標(biāo)執(zhí)行的是NB/T47013.3—2015《承壓設(shè)備無(wú)損檢測(cè) 第3部分:超聲檢測(cè)》,美標(biāo)執(zhí)行的是ASTM B898—2019《活性難熔金屬?gòu)?fù)合板技術(shù)規(guī)范》,且國(guó)內(nèi)、國(guó)外標(biāo)準(zhǔn)均規(guī)定采用的超聲檢測(cè)方法是常規(guī)的超聲脈沖回波法,其對(duì)于分層類缺陷較容易檢出,對(duì)于弱結(jié)合缺陷卻較難檢出。由于鈦/鋼復(fù)合板中鈦覆層厚度往往較薄,所以對(duì)弱結(jié)合的缺陷波形評(píng)判有一定的困難,對(duì)操作者的技能要求較高,需要非常高的波形變化評(píng)判經(jīng)驗(yàn)水平。后續(xù)對(duì)鈦/鋼復(fù)合板進(jìn)行鉆孔、焊接支撐件等加工過(guò)程中,弱結(jié)合部位會(huì)產(chǎn)生一定的質(zhì)量隱患,因此對(duì)需要進(jìn)行機(jī)加工部位存在的弱結(jié)合缺陷的有效檢出至關(guān)重要。目前,常規(guī)的超聲C掃方法雖然可以對(duì)結(jié)合界面波紋成像,但是需要水浸耦合,將整張復(fù)合板放置水中,操作受限,對(duì)板材有銹蝕污染,而且掃查方式是二維、逐點(diǎn)掃描[4],檢測(cè)效率低,難以滿足批量工業(yè)化生產(chǎn)需求。隨著國(guó)內(nèi)爆炸金屬?gòu)?fù)合板生產(chǎn)加工技術(shù)的快速發(fā)展,國(guó)外一些大型化工設(shè)備制造商也在國(guó)內(nèi)采購(gòu)爆炸金屬?gòu)?fù)合板,并提出較高的質(zhì)量要求。

        為了提高鈦/鋼復(fù)合板超聲檢測(cè)效率,滿足國(guó)外廠商的要求,西安天力金屬?gòu)?fù)合材料股份有限公司引進(jìn)了相控陣超聲檢測(cè)設(shè)備,這對(duì)于保障產(chǎn)品質(zhì)量、提升鈦/鋼復(fù)合板檢測(cè)水平具有重要意義。

        1 相控陣超聲檢測(cè)基本原理

        常規(guī)超聲檢測(cè)多采用單晶探頭,超聲波聲束以一定發(fā)射角沿聲束軸線傳播。與此不同的是,超聲相控陣檢測(cè)的核心技術(shù)是基于惠更斯原理的相位控制。相控陣探頭由多個(gè)相互獨(dú)立的壓電晶片按照一定形狀排列而成,每個(gè)晶片均可視為超聲波源,通過(guò)電子系統(tǒng)控制各個(gè)晶片陣元,按一定延遲時(shí)間激發(fā)各個(gè)陣元,各個(gè)陣元的波陣面相互疊加,形成一個(gè)新的波陣面,可以達(dá)到改變聚焦特性、聲束偏轉(zhuǎn)、聲束位移等相控效果[5-8]。

        相控陣探頭由多個(gè)晶片按一定的規(guī)律分布排列,常用的是線陣列,通過(guò)軟件可以單獨(dú)控制每個(gè)晶片的激發(fā)時(shí)間,從而控制發(fā)射超聲波束的形狀和方向,實(shí)現(xiàn)超聲波束的掃描、偏轉(zhuǎn)、聚焦。相控陣的線性掃查,也叫電子掃描,相控陣探頭的晶片總數(shù)為N,晶片間距為d,一次激勵(lì)的晶片數(shù)量為A,如第1次激勵(lì)的晶片序列為1至A,第2次激勵(lì)的晶片序列為2至A+1,依次類推,第n次激勵(lì)晶片序列為n至A+n-1。由此可推導(dǎo)出,采用電子掃描時(shí)相控陣超聲波束總數(shù)為N-A+1,進(jìn)行1次掃查,相控陣探頭聲束有效覆蓋寬度為d(N-A+1)。常規(guī)超聲C掃需要通過(guò)單晶探頭做鋸齒形軌跡的二維掃查,相控陣C掃只需要做單軸直線掃查,因此,根據(jù)掃查原理和路徑,相控陣掃查方式的效率明顯提高很多,根據(jù)相控陣探頭移動(dòng)的距離L,則可計(jì)算出工件1次掃查的面積為dL(N-A+1)[9,10]。

        2 相控陣超聲檢測(cè)有效性分析

        實(shí)驗(yàn)設(shè)備為OmniScan X3相控陣探傷儀。探頭型號(hào)為10L128,與楔塊配合使用。將探頭和編碼器固定在手持掃查架上,構(gòu)成一套完整的相控陣C掃描快速成像檢測(cè)系統(tǒng)。采用直接接觸方式,以水作為耦合劑,壓緊探頭使其與板面耦合良好,移動(dòng)探頭,相控陣C掃圖像實(shí)時(shí)呈現(xiàn)。

        選取不同工藝爆炸焊接的1#、2#、3#鈦/鋼復(fù)合板試板為實(shí)驗(yàn)對(duì)象,復(fù)合板覆層、基層的材質(zhì)與厚度見(jiàn)表1。覆板材料均滿足ASME SB265《鈦及鈦合金條、薄板、板規(guī)范》要求,基板材料均滿足ASME SA516《中、低溫壓力容器用碳鋼板》要求。

        表1 鈦/鋼復(fù)合板材質(zhì)與和厚度

        圖1a為爆炸焊接鈦/鋼復(fù)合板1#試板的相控陣C掃描像。從圖1可以看出,界面波紋清晰直觀,波紋形貌整體連續(xù)均勻。對(duì)被檢區(qū)域鈦層與基層進(jìn)行機(jī)械分離處理,觀察界面真實(shí)形貌,如圖1b所示。對(duì)比圖1a與圖1b可以看出,界面的相控陣C掃描像與實(shí)物形貌高度吻合,相控陣C掃描像反映

        圖1 1#試板的界面相控陣C掃描像和鈦層機(jī)械分離后 的真實(shí)界面形貌Fig.1 Interface phased array C-scan image (a) and real interface morphology after mechanical separation (b) of titanium layer of 1# test plate

        界面形貌的真實(shí)度較高,滿足對(duì)波紋走向和特征的判斷。需要說(shuō)明的是,機(jī)械分離去除覆層金屬過(guò)程中,難免會(huì)對(duì)復(fù)合界面造成機(jī)械損傷,例如鏟刀的痕跡,但這并不影響對(duì)波紋形貌的整體判斷。

        2#試板為通過(guò)特殊爆炸焊接工藝使其產(chǎn)生缺陷的鈦/鋼復(fù)合板。圖2a為2#試板相控陣C掃描像。從圖2a可以看出,界面波紋清晰直觀,大部分區(qū)域波紋整體連續(xù)均勻,還有部分區(qū)域呈白色,觀察不到波紋。對(duì)被檢區(qū)域鈦層與基層進(jìn)行機(jī)械分離處理,觀察界面真實(shí)形貌,如圖2b所示。對(duì)比圖2a與圖2b可以看出,在圖2a中觀察不到波紋的位置對(duì)應(yīng)圖2b真實(shí)界面也未見(jiàn)波紋,因此相控陣C掃描像反映該類型弱結(jié)合位置界面形貌的真實(shí)度較高,滿足對(duì)弱結(jié)合波紋特征的判斷。

        圖2 2#試板界面相控陣C掃描像和鈦層機(jī)械分離后 的真實(shí)界面形貌Fig.2 Interface phased array C-scan image (a) and real interface morphology after mechanical separation (b) of titanium layer of 2# test plate

        3#試板也是通過(guò)特殊爆炸焊接工藝使其產(chǎn)生缺陷的鈦/鋼復(fù)合板。圖3a為3#試板的相控陣C掃描像。從圖3a可以看出,界面波紋清晰直觀,大部分區(qū)域波紋整體連續(xù)均勻,但存在一段波紋斷續(xù)的區(qū)域。對(duì)被檢區(qū)域鈦層與基層進(jìn)行機(jī)械分離處理,觀察界面真實(shí)形貌,如圖3b所示。對(duì)比圖3a與圖3b,圖3a中波紋斷續(xù)的區(qū)域?qū)?yīng)圖3b真實(shí)界面的波紋也是斷續(xù)的,因此相控陣C掃描像反映該類型弱結(jié)合位置界面形貌的真實(shí)度也較高,滿足對(duì)弱結(jié)合波紋特征的判斷。

        圖3 3#試板界面相控陣C掃描像和鈦層機(jī)械分離后 的真實(shí)界面形貌Fig.3 Interface phased array C-scan image (a) and real interface morphology after mechanical separation (b) of titanium layer of 3# test plate

        基于1#、2#、3#試板的相控陣C掃查結(jié)果以及與真實(shí)結(jié)合界面形貌的對(duì)比,表明相控陣C掃成像方法在爆炸焊接鈦/鋼復(fù)合板界面波紋檢測(cè)上應(yīng)用是有效的,能夠清晰、直觀地判斷界面波紋的連續(xù)區(qū)域、無(wú)波紋區(qū)域和波紋斷續(xù)區(qū)域,且相控陣C掃結(jié)果與真實(shí)界面相比較吻合度較高,滿足對(duì)波紋連續(xù)性和波紋異常特征的有效判斷。此外,利用常規(guī)超聲檢測(cè)方法對(duì)于圖2、圖3中的弱結(jié)合位置進(jìn)行檢測(cè),發(fā)現(xiàn)其超聲反射波形與復(fù)合板結(jié)合完好區(qū)的超聲反射波形并無(wú)明顯差異,說(shuō)明常規(guī)超聲檢測(cè)方法難以發(fā)現(xiàn)該類弱結(jié)合區(qū)域。相控陣C掃檢測(cè)方法通過(guò)圖像直觀地顯示出弱結(jié)合特征,準(zhǔn)確可靠,是對(duì)復(fù)合板常規(guī)超聲檢測(cè)手段的有效補(bǔ)充。

        3 應(yīng) 用

        某化工項(xiàng)目用鈦/鋼復(fù)合板的覆層材質(zhì)為SB265 Gr1,厚度3.3~4.6 mm,基層材質(zhì)為SA516 Gr70,厚度66~72 mm,單張面積為23~30 m2。該批化工項(xiàng)目用鈦/鋼復(fù)合板產(chǎn)品執(zhí)行的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)為ASTM B898—2019《活性難熔金屬?gòu)?fù)合板技術(shù)規(guī)范》,交貨狀態(tài)為退火態(tài)。項(xiàng)目驗(yàn)收主要指標(biāo)為:① 滿足標(biāo)準(zhǔn)ASTM B898—2019,A級(jí),結(jié)合面積大于99%,單個(gè)未結(jié)合區(qū)域長(zhǎng)度小于25 mm;② 結(jié)合界面抗剪切強(qiáng)度≥180 MPa;③ 結(jié)合界面波紋整體連續(xù)均勻。對(duì)于第3項(xiàng),要求采用相控陣C掃描超聲成像方法進(jìn)行檢測(cè)。圖4為采用相控陣C掃描超聲成像方法對(duì)復(fù)合板進(jìn)行檢測(cè),其邊部和中部的界面掃描結(jié)果。從圖4可以看出,爆炸波紋整體連續(xù)均勻,反映出鈦/鋼復(fù)合板覆層與基層結(jié)合較好。

        圖4 化工用復(fù)合板邊部和中部界面相控陣C掃描像Fig.4 Interface phased array C-scan images at the edge (a) and middle (b) of clad plate for a chemical project

        按照ASTM B898—2019標(biāo)準(zhǔn),在復(fù)合板邊部不同位置取樣18件進(jìn)行剪切性能測(cè)試,結(jié)果見(jiàn)表2。從表2可見(jiàn),剪切數(shù)值均在200 MPa以上,說(shuō)明復(fù)合板邊部結(jié)合強(qiáng)度較高。一般來(lái)說(shuō),復(fù)合板邊部位置是爆炸焊接相對(duì)薄弱的區(qū)域[11,12],根據(jù)板材內(nèi)部的波紋整體連續(xù)均勻的形貌特征,可以推斷復(fù)合板中部的結(jié)合強(qiáng)度也較高,并且優(yōu)于復(fù)合板邊部。

        表2 鈦/鋼復(fù)合板抗剪切強(qiáng)度

        該化工項(xiàng)目是國(guó)內(nèi)首個(gè)應(yīng)用相控陣C掃成像檢測(cè)方法進(jìn)行鈦/鋼復(fù)合板檢測(cè)的項(xiàng)目,并得到客戶的高度認(rèn)可。實(shí)踐證明,相控陣C掃成像檢測(cè)方法操作簡(jiǎn)單便捷,檢測(cè)效率高,界面波紋成像直觀。同時(shí),也驗(yàn)證了相控陣C掃檢測(cè)方法是目前鈦/鋼復(fù)合板工業(yè)化檢測(cè)的好方法。

        4 結(jié) 論

        (1)相控陣C掃成像方法可用于爆炸焊接鈦/鋼復(fù)合板界面波紋檢測(cè),能夠清晰、直觀地判斷界面波紋的連續(xù)區(qū)域、無(wú)波紋區(qū)域和波紋斷續(xù)區(qū)域,且相控陣C掃結(jié)果與真實(shí)界面相比較吻合度較高,滿足對(duì)波紋連續(xù)性和波紋異常特征的有效判斷。

        (2)相控陣C掃成像檢測(cè)方法首次在國(guó)內(nèi)某化工項(xiàng)目用鈦/鋼復(fù)合板檢測(cè)上應(yīng)用,并得到客戶的高度認(rèn)可。相控陣C掃成像檢測(cè)方法操作簡(jiǎn)單便捷,檢測(cè)效率高,界面波紋成像直觀。

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