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        羧基化石墨烯/殼聚糖復(fù)合皮革涂飾劑的制備與性能

        2021-06-18 01:35:50姚慶達(dá)梁永賢王小卓黃鑫婷張自盛左瑩
        皮革與化工 2021年3期
        關(guān)鍵詞:殼聚糖復(fù)合材料

        姚慶達(dá),梁永賢,王小卓,黃鑫婷,張自盛,左瑩*

        (1.福建省皮革綠色設(shè)計(jì)與制造重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,福建 晉江362271;2.興業(yè)皮革科技股份有限公司國(guó)家企業(yè)技術(shù)中心,福建晉江362261)

        甲殼素(Chitin)廣泛存在于節(jié)肢動(dòng)物的甲殼、真菌細(xì)胞膜、高等植物細(xì)胞壁中,是儲(chǔ)量?jī)H次于纖維素的第二大天然高分子[1]。甲殼素與纖維素化學(xué)結(jié)構(gòu)相似,區(qū)別在于甲殼素C2位上為乙酰氨基,纖維素為羥基。但甲殼素在水、有機(jī)溶劑中的溶解度極差,通常是對(duì)甲殼素的N-脫乙酰反應(yīng)產(chǎn)物殼聚糖(Chitosan,CS),即甲殼素C2位上部分乙酰氨基的氨基取代物[2],進(jìn)行相關(guān)研究?!狽H2在酸性條件下,可被質(zhì)子化形成—NH3+離子,使殼聚糖溶解在稀酸溶液中。因此與甲殼素相比,殼聚糖更易進(jìn)行溶液均相反應(yīng),通過(guò)修飾、活化、偶聯(lián)重復(fù)單元中的活性官能團(tuán),從而拓寬應(yīng)用范圍[3,4]。

        氧化石墨烯(Graphene oxide,GO)是一種具有—OH、—O—和—COOH多種活性含氧官能團(tuán)的二維片層材料。含氧官能團(tuán)提高了氧化石墨烯的分散性、親水性和相容性,促進(jìn)氧化石墨烯與高分子材料之間形成更強(qiáng)的界面相互作用,從而提高復(fù)合材料的綜合性能[5,6]。關(guān)于石墨烯改性殼聚糖的報(bào)道有很多,F(xiàn)ekry等[7]將氧化石墨烯與磷酸酯功能化殼聚糖復(fù)合,提升了復(fù)合材料的硬度,并賦予良好的耐腐蝕性能;Luna等[8]以戊二醛為交聯(lián)劑交聯(lián)石墨烯/殼聚糖復(fù)合材料,研究結(jié)果表明,復(fù)合材料物理機(jī)械性能得到了明顯提高,石墨烯特殊的片層結(jié)構(gòu)還可賦予復(fù)合材料一定的阻燃性能;團(tuán)隊(duì)在前期研究中,使用γ-氨丙基三乙氧基硅烷修飾石墨烯,功能化石墨烯與有機(jī)硅基質(zhì)相容性高,顯著提升了復(fù)合材料的分散性與穩(wěn)定性,石墨烯改性有機(jī)硅涂飾后成革物理機(jī)械性能和防水性能得到了顯著提升[9-13]。功能化石墨烯與高分子材料基體的相容性較氧化石墨烯更高,氧化石墨烯直接應(yīng)用于聚合物改性時(shí),常因片層間相互作用力過(guò)大出現(xiàn)團(tuán)聚。為了進(jìn)一步提升氧化石墨烯在殼聚糖基質(zhì)中的分散性,因此研究了羧基化石墨烯/殼聚糖涂飾劑的制備方法,即以氧化石墨烯為填料,溴乙酸為活化劑,殼聚糖為基質(zhì),通過(guò)溶液共混合成一種新型皮革涂飾劑,通過(guò)zeta電位、粒徑分布系數(shù)等指標(biāo)確定最佳合成工藝,并應(yīng)用于制革涂飾工段以提高成品革綜合性能。

        1 試驗(yàn)

        1.1 試驗(yàn)材料與儀器

        1.1.1 試驗(yàn)材料

        殼聚糖(CS):BR,脫乙酰度90%,上海展云化工有限公司;氧化石墨烯(GO):AR,廈門大學(xué)石墨烯工程與產(chǎn)業(yè)研究院;溴乙酸、鹽酸、氫氧化鈉:AR,羅恩試劑;坯革:興業(yè)皮革科技股份有限公司。

        1.1.2 試驗(yàn)儀器

        精密電子天平:KD-2100TEC,福州科迪電子技術(shù)有限公司;單層(真空)玻璃反應(yīng)器:F-2L,上海一科儀器有限公司;超聲波細(xì)胞粉碎機(jī):SCIENTZIID,寧波新芝生物科技股份有限公司;pH計(jì):PHS-3C,上海儀電科學(xué)儀器股份有限公司;傅里葉變換紅外光譜儀:Nicolet6700,美國(guó)熱電;納米粒度及電位分析儀:Nano ZS,馬爾文儀器(中國(guó))有限公司;Taber耐磨試驗(yàn)機(jī):GT-7012-T,高鐵檢測(cè)儀器有限公司;摩擦褪色試驗(yàn)機(jī):GT-7034-E2,高鐵檢測(cè)儀器有限公司。

        1.2 試驗(yàn)方法

        1.2.1 羧基化石墨烯的制備

        將100 mg氧化石墨烯、100 mL去離子水在超聲作用下混合均勻獲得氧化石墨烯懸浮液,其中超聲分散時(shí)間1 h;將懸浮液冷卻,加入1 g NaOH,繼續(xù)超聲30 min;而后加入2 g溴乙酸,超聲分散15 min后在室溫下反應(yīng)5 h得到混合溶液。將混合溶液離心、洗滌、抽濾、真空干燥后即可得到羧基化石墨烯。

        1.2.2 羧基化石墨烯/殼聚糖涂飾劑的制備

        將0.01 g羧基化石墨烯超聲波分散于100 mL 2%的殼聚糖溶液中,調(diào)節(jié)溶液pH值,在一定溫度下反應(yīng)一定時(shí)間,即可得到羧基化石墨烯/殼聚糖涂飾劑。

        1.2.3 羧基化石墨烯/殼聚糖涂飾劑的應(yīng)用

        調(diào)整羧基化石墨烯/殼聚糖涂飾劑的固含量至5%,采用噴涂的涂飾方法,涂覆量為20 g/sf2;涂飾操作流程依次為:待涂飾半成品坯革→噴涂上層涂飾劑→熨平→靜置→振蕩拉軟→熨平→成品革。其中熨平的溫度為130℃,壓力為30 kgf,振蕩拉軟強(qiáng)度為6級(jí)。

        1.3 測(cè)試方法

        1.3.1 粒徑分布系數(shù)和zeta電位測(cè)試

        將羧基化石墨烯/殼聚糖涂飾劑配制成電導(dǎo)率小于5 mS/cm的水溶液進(jìn)行測(cè)試,粒徑分布系數(shù)連續(xù)測(cè)試100次,zeta電位連續(xù)測(cè)試15次,當(dāng)數(shù)值穩(wěn)定時(shí)記錄測(cè)試結(jié)果。

        1.3.2 耐磨耗性能測(cè)試

        參照QB/T 2726-2005《皮革物理和機(jī)械試驗(yàn)?zāi)湍バ阅艿臏y(cè)定》。

        1.3.3 干/濕擦性能測(cè)試

        參照QB/T 2537-2001《皮革色牢度試驗(yàn)往復(fù)式摩擦色牢度》。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 羧基化石墨烯親核取代機(jī)理與表征

        氧化石墨烯是羥基、環(huán)氧基、羧基等活性含氧官能團(tuán)功能化石墨烯的衍生物,其中片層邊緣的氧化區(qū)域主要分布有羧基和羥基,片層中間則分布有環(huán)氧基和羥基[14]。環(huán)氧基的三元環(huán)結(jié)構(gòu)使C原子和O原子的軌道以彎曲鍵相互連接,不能正面充分重疊,因此分子結(jié)構(gòu)中張力極大,易與具有供電子效應(yīng)的親核試劑反應(yīng)。在質(zhì)子溶劑(如水)中,溴乙酸的親核性極強(qiáng),在堿性條件下,發(fā)生SN2反應(yīng),C—O鍵斷裂,親核試劑和環(huán)碳原子之間形成共價(jià)鍵。此外,羥基中的C—O鍵是經(jīng)典的極性共價(jià)鍵,由于O原子的電負(fù)性大于C,當(dāng)親核試劑進(jìn)攻正性碳時(shí),C—O鍵異裂,羥基被親核試劑取代,這便是環(huán)氧基和羥基發(fā)生親核取代反應(yīng)的機(jī)理[15],以環(huán)氧基為例,親核取代反應(yīng)如圖1所示。

        圖1 氧化石墨烯與溴乙酸的親核取代反應(yīng)Fig.1 Nucleophilic substitution reaction of grapheneoxidewith bromoacetic acid

        圖2 氧化石墨烯(a)與羧基化石墨烯(b)的紅外光譜圖Fig.2 Infrared spectra:(a)grapheneoxideand(b)carboxylated graphene

        圖2 為氧化石墨烯(a)和羧基化石墨烯(b)的紅外光譜圖,對(duì)于氧化石墨烯而言,羧基和羥基中的—O—H的伸縮振動(dòng)峰出現(xiàn)在3480.9 cm-1;羧基中的—C=O伸縮振動(dòng)峰則出現(xiàn)在1722.1 cm-1;在1224.6 cm-1處的強(qiáng)烈吸收則是環(huán)氧基中—C—O—C—的伸縮振動(dòng)峰,說(shuō)明氧化石墨烯片層上存在著大量的羥基、羧基和環(huán)氧基[9]。與溴乙酸作用后,2923.5 cm-1和2852.2 cm-1出現(xiàn)了明顯的吸收,這是羧基化石墨烯結(jié)構(gòu)中—O—CH2—COOH的—CH2—吸收峰,1382.7 cm-1處則是—CH2—的彎曲振動(dòng)峰,說(shuō)明—O—CH2—COOH已成功接枝到氧化石墨烯片層上[16]。此外,1718.2 cm-1處的羰基吸收峰變得更寬,原有環(huán)氧基的—O—吸收峰基本消失,在1450~1250 cm-1處出現(xiàn)的醚鍵吸收峰也為氧化石墨烯成功的功能化修飾提供了依據(jù)。

        2.2 羧基化石墨烯/殼聚糖的影響因素分析

        在羧基化石墨烯/殼聚糖體系中,羧基化石墨烯片層上含有大量羧基,羧基在酸性體系下極易發(fā)生羰基質(zhì)子化,使羧基帶有更多的正電性,正電性羧基與氨基、羥基等強(qiáng)親核性官能團(tuán)相容性極高[17]。粒徑分布系數(shù)(PDI)是一個(gè)通過(guò)累距法計(jì)算粒徑分布圖得到的無(wú)量綱數(shù)值,可確定粒子的分散程度[18,19]。石墨烯對(duì)高分子基材的性能提升情況與其分散性有關(guān),分散性越好,復(fù)合材料綜合性能越強(qiáng)[12,13]。因此在保證zeta電位足夠大時(shí)(≥30 mV),盡可能降低粒徑分布系數(shù)。反應(yīng)溫度、反應(yīng)時(shí)間、pH值均會(huì)影響羧基化石墨烯與殼聚糖的相互作用。

        2.2.1 反應(yīng)溫度

        控制反應(yīng)時(shí)間為5 h,反應(yīng)pH值為3,探討不同反應(yīng)溫度對(duì)羧基化石墨烯/殼聚糖親核取代反應(yīng)的影響,結(jié)果如圖3所示。

        圖3 反應(yīng)溫度對(duì)羧基化石墨烯/殼聚糖復(fù)合材料性能的影響Fig.3 Effect of reaction temperatureon the properties of carboxylated graphene/chitosan composite

        從圖3中可以發(fā)現(xiàn),隨著溫度的增大,zeta電位不斷降低。這是因?yàn)闇囟鹊奶岣哂欣谠鰪?qiáng)殼聚糖分子鏈的自由運(yùn)動(dòng),羥基、氨基親核官能團(tuán)與質(zhì)子化羧基碰撞幾率增加。溫度的上升還有助于打開(kāi)羧基中的碳氧π鍵,形成四面體中間物,并促進(jìn)分子內(nèi)水分子的離去,以氨基和羧基的親核反應(yīng)為例,其機(jī)理如圖4所示[15]。溫度的提高減少了體系中氨基和羧基的含量,但zeta電位受氨基的影響較大,因此zeta電位下降。隨著溫度從30℃提升至60℃,zeta電位僅降低了12.5%,但粒徑分布系數(shù)卻急劇提高了107%,這是因?yàn)闇囟忍岣呒觿×唆然?殼聚糖的分子內(nèi)及分子間交聯(lián),復(fù)合材料粒徑增大,但是這種交聯(lián)并不是均勻的,體系中同時(shí)存在大分子和小分子復(fù)合材料,粒徑分布范圍變得更寬,粒徑分布系數(shù)增大[20]??偟膩?lái)說(shuō),溫度的改變對(duì)粒徑分布系數(shù)的影響更大,故選擇反應(yīng)溫度為30℃為最佳反應(yīng)溫度。

        圖4 氨基和羧基的親核反應(yīng)機(jī)理Fig.4 The nucleophilic reaction mechanism of amino and carboxyl

        2.2.2 反應(yīng)時(shí)間

        當(dāng)反應(yīng)溫度為30℃,反應(yīng)pH值為3時(shí),探討不同反應(yīng)時(shí)間對(duì)羧基化石墨烯/殼聚糖復(fù)合材料性能的影響,結(jié)果如圖5所示。

        圖5 反應(yīng)時(shí)間對(duì)羧基化石墨烯/殼聚糖復(fù)合材料性能的影響Fig.5 Effect of reaction timeon the properties of carboxylated graphene/chitosan composite

        反應(yīng)時(shí)間從0.5 h上升至5 h時(shí),zeta電位和粒徑分布系數(shù)急劇下降,而反應(yīng)時(shí)間從5 h增加至10 h,時(shí)間延長(zhǎng)了1倍,但是zeta電位和粒徑分布系數(shù)卻只下降了0.3 mV和0.009,說(shuō)明5 h后體系已基本穩(wěn)定。在反應(yīng)初期,殼聚糖通過(guò)大分子鏈上的—OH、—NH2和—NHCOCH3形成分子內(nèi)和分子間氫鍵[21],與羧基化石墨烯相互作用力極弱,粒徑分布系數(shù)曲線表明,此時(shí)體系內(nèi)有一個(gè)約6000 d·nm的殼聚糖峰和約2000 d·nm的羧基化石墨烯峰。隨著反應(yīng)時(shí)間的延長(zhǎng),氨基、羥基與羧基的結(jié)合增多,兩個(gè)強(qiáng)度峰合并,粒徑分布系數(shù)下降。氨基與羧基的締合也降低了zeta電位。為了促進(jìn)反應(yīng)的進(jìn)行,同時(shí)降低能耗,最佳的反應(yīng)時(shí)間為5 h。

        2.2.3 pH值

        圖6為不同pH值下,羧基化石墨烯/殼聚糖的zeta電位和粒徑分布系數(shù)的測(cè)試結(jié)果,其中反應(yīng)溫度為30℃,反應(yīng)時(shí)間為5 h。

        圖6 pH值對(duì)羧基化石墨烯/殼聚糖復(fù)合材料性能的影響Fig.6 Effect of pH value on the propertiesof carboxylated graphene/chitosan composite

        從圖6中可以發(fā)現(xiàn),隨著酸性的增強(qiáng),zeta電位先上升后下降,粒徑分布系數(shù)則是先下降后上升。這是因?yàn)閜H值對(duì)羧基化石墨烯/殼聚糖的影響較為復(fù)雜,一是pH值的降低促進(jìn)了殼聚糖分子鏈上—NH2的質(zhì)子化,二是提升了羧基化石墨烯片層上—COOH的質(zhì)子化,三是加劇了殼聚糖分子的自交聯(lián)反應(yīng)[22,23]。從結(jié)果上看當(dāng)pH值從5調(diào)整至3時(shí),此時(shí)主要是氨基的質(zhì)子化占主導(dǎo)作用,殼聚糖分散性提升,zeta電位增大,粒徑分布系數(shù)減小。當(dāng)pH值從3降低至1時(shí),此時(shí)則是殼聚糖的分子內(nèi)、分子間交聯(lián)占主導(dǎo)作用,氨基、羥基、乙酰氨基交聯(lián),zeta電位下降。粒徑分布系數(shù)測(cè)試結(jié)果也表明,當(dāng)pH值為1時(shí),體系在6000 d·nm處出現(xiàn)一個(gè)明顯的峰,粒徑分布系數(shù)增大。總的來(lái)看,pH值對(duì)羧基質(zhì)子化影響較小,這是因?yàn)轸然?、氨基、羥基的親核反應(yīng)速率與水分子有關(guān),而pH值的改變對(duì)水分子的運(yùn)動(dòng)影響較小[15,24]。為了盡可能提升復(fù)合材料的分散性,故選擇pH值為3進(jìn)行后續(xù)試驗(yàn)。

        2.3 羧基化石墨烯/殼聚糖應(yīng)用分析

        將羧基化石墨烯/殼聚糖應(yīng)用于制革涂飾工段,并使用未改性的殼聚糖進(jìn)行對(duì)比,以未涂飾坯革為空白組,測(cè)試結(jié)果如表1所示。

        表1 物理機(jī)械性能測(cè)試結(jié)果Tab.1 Test result of physical mechanical properties

        殼聚糖具有優(yōu)異的成膜性與成纖性,經(jīng)涂飾后,耐磨耗和耐干擦性能均有一定的提升。但是由于所應(yīng)用的殼聚糖脫乙?;潭容^高(≥90%),具有較好的水溶性和吸濕性,相關(guān)研究表明,甲殼素的吸濕率可達(dá)400%~500%,殼聚糖的吸濕率較甲殼素更高[25],因此殼聚糖涂層耐濕擦較差。石墨烯特殊的πnn結(jié)構(gòu)使石墨烯具有極強(qiáng)的物理機(jī)械性能,以高效填料引入后,復(fù)合涂層的物理機(jī)械性能得到了大幅提升,石墨烯片層分散并貫穿于殼聚糖鏈間,片層邊緣和中央的羧基與殼聚糖鏈段上的羥基、氨基相互交聯(lián),提升了涂層的物理機(jī)械性能[26]。此外,石墨烯具有良好的導(dǎo)熱性能,可將涂層受外力作用時(shí)產(chǎn)生的熱均勻地向四周分散,避免熱量積累對(duì)局部造成的損壞[27]。因此,復(fù)合涂層耐磨耗可提升至4級(jí),耐干擦可提升至5級(jí)。羧基化石墨烯在殼聚糖基質(zhì)中還可認(rèn)為是“交聯(lián)劑”,可促進(jìn)殼聚糖分子形成致密的交聯(lián)結(jié)構(gòu),在一定程度上更好地阻止水分子向涂層內(nèi)部的滲透和侵蝕[28],加之石墨烯片層中央的共軛疏水結(jié)構(gòu)[29],復(fù)合涂層的耐濕擦能力較殼聚糖涂層有了明顯提升,從2-3級(jí)提升至4-5級(jí)。

        3 結(jié)論

        采用溶液共混法制備了分散性好的羧基化石墨烯/殼聚糖復(fù)合材料,通過(guò)紅外光譜表征確定羧基化石墨烯改性機(jī)理與基本結(jié)構(gòu),并優(yōu)化復(fù)合材料合成路線,應(yīng)用于皮革涂飾后測(cè)試涂層的耐磨耗、耐干/濕擦性能,得出以下結(jié)論:

        (1)通過(guò)溴乙酸與石墨烯片層的環(huán)氧基的親核取代反應(yīng)成功制備了羧基化石墨烯,紅外光譜分析結(jié)果表明—CH2—COOH已成功地接枝到氧化石墨烯片層上。

        (2)羧基化石墨烯/殼聚糖最佳制備條件為:反應(yīng)溫度為30℃、反應(yīng)時(shí)間為5 h,pH值控制為3。此時(shí)羧基化石墨烯/殼聚糖的zeta電位為60.8 mV,粒徑分布系數(shù)為0.179。

        (3)羧基化石墨烯/殼聚糖能有效提升成品革物理機(jī)械性能,耐磨耗可從3級(jí)提升至4級(jí),耐干擦可從3-4級(jí)提升至5級(jí),耐濕擦可從3-4級(jí)提升至4-5級(jí)。

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