蔡 磊， 馬澤賢， 劉新寬， 朱建國(guó)， 雷雪松

( 1.盛利維爾(中國(guó))新材料技術(shù)有限公司， 江蘇 常州 213200; 2.上海理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院， 上海 200093)

1 概 述

鍍鎳工藝在電鍍生產(chǎn)中占據(jù)著重要地位，一般應(yīng)用于材料防護(hù)以及裝飾涂層[1]。金屬鎳本身塑性好同時(shí)抗腐蝕能力比較強(qiáng)，所以電鍍鎳工藝自誕生之日起備受青睞。但是在電鍍過(guò)程中，由于雜質(zhì)摻雜以及添加劑的引入，鍍層內(nèi)應(yīng)力的問(wèn)題一直是生產(chǎn)實(shí)踐關(guān)注的重要問(wèn)題。高應(yīng)力導(dǎo)致鍍層起皮、開(kāi)裂、與基體的結(jié)合能力下降[2]，嚴(yán)重影響鍍層的質(zhì)量，所以建立起一種完備的鍍層應(yīng)力測(cè)試方法對(duì)研究鍍層內(nèi)應(yīng)力問(wèn)題具有重要意義。

本文改良原來(lái)的單陰極片彎曲的方法，采用雙陽(yáng)極-陰極彎曲法測(cè)量。傳統(tǒng)的單陰極片彎曲法在測(cè)量應(yīng)力時(shí)，由于電鍍內(nèi)應(yīng)力在一定厚度內(nèi)并不會(huì)產(chǎn)生特別明顯的彎曲，這就使得測(cè)量時(shí)由于彎曲距離太短造成測(cè)量不精確[3]。新方法與單陰極片彎曲測(cè)應(yīng)力的辦法相比，新方法放大了試驗(yàn)片彎曲的距離，如圖1所示，使得微小的彎曲也可以被測(cè)量。

圖1 渡槽結(jié)構(gòu)示意圖

通過(guò)對(duì)生產(chǎn)線(xiàn)上不同周期的鍍液進(jìn)行采樣，用新方法進(jìn)行內(nèi)應(yīng)力檢測(cè)，同時(shí)與薄膜內(nèi)應(yīng)力測(cè)試儀測(cè)試數(shù)據(jù)作比較；再采用電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀對(duì)鍍液中元素進(jìn)行檢測(cè)，探究不同元素對(duì)鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響。

2 實(shí)驗(yàn)過(guò)程

2.1 實(shí)驗(yàn)材料與預(yù)處理

基材用黃銅片，試樣規(guī)格為100 mm×20 mm×0.2 mm，用線(xiàn)切割加工成如圖2樣式。加工好的黃銅片分開(kāi)兩腳處分別單面絕緣作為陰極彎曲試片。

圖2 試驗(yàn)片

試驗(yàn)前先采用堿洗液進(jìn)行堿性除油，堿洗時(shí)間1 min，堿洗溫度55 ℃；堿洗后用去離子水沖洗。之后用酸洗液進(jìn)行酸洗，酸洗時(shí)間為1 min，酸洗溫度為40 ℃；酸洗后用去離子水沖洗，烘干備用。試驗(yàn)片的酸洗和堿洗分別在超聲環(huán)境下進(jìn)行，以便徹底清除其表面油漬和氧化層。堿洗液配方如表1所示，酸洗液配方如表2所示。

表1 堿洗液配方/%

表2 酸洗液配方/%

2.2 電鍍鎳基礎(chǔ)鍍液

電鍍鎳采用氨基磺酸鎳基礎(chǔ)鍍液，成分如表3所示。

表3 基礎(chǔ)鍍液成分

2.3 應(yīng)力檢測(cè)計(jì)算

通過(guò)改良原來(lái)單陰極片彎曲的方法，在電鍍中采用兩個(gè)陽(yáng)極，陰極放在渡槽中間，試樣片兩腳分別單面絕緣，在電鍍過(guò)程中鍍層一面受內(nèi)應(yīng)力彎曲兩腳分叉(如圖2所示)。通過(guò)觀察鍍層面和絕緣面張開(kāi)方向，判斷內(nèi)應(yīng)力類(lèi)型。通過(guò)測(cè)量分叉距離，代入推導(dǎo)的公式計(jì)算應(yīng)力大小。

假設(shè)得到的鍍層是均勻連續(xù)的，即鍍層中的每一薄層都是受單向拉伸或壓縮。對(duì)基體而言，由胡克定律可知

σ=Eε

(1)

由于應(yīng)變與它到中性軸的距離成正比，即

(2)

式中ρ為曲率(mm)，E為彈性模量(GPa)。

在基板橫截面任意選取一微截面，截面上微內(nèi)力可以正交分解成三個(gè)內(nèi)力分量。以基板面為xoz平面，基板受鍍層施加的應(yīng)力方向?yàn)閥軸，同時(shí)垂直于xoz面。取微內(nèi)力處距xoz面距離為y，根據(jù)內(nèi)、外力平衡條件[4]

(3)

式中d為基板厚度(mm)；b為xoz面距中心軸的距離(mm)。

設(shè)鍍層任意橫截面上內(nèi)應(yīng)力為F(GPa)，鍍層厚度為Δl(mm)，Δl

(4)

由于彎曲時(shí)曲率半徑并不好測(cè)量，所以根據(jù)彎曲狀態(tài)下曲率與撓度關(guān)系[5]

(5)

式中 Δd為試樣片雙腳分開(kāi)距離的一半(mm)，l為鍍層長(zhǎng)度(mm)。

聯(lián)立以上各式，得到鍍層內(nèi)應(yīng)力公式為

(6)

2.4 性能表征

采用ICP8000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，檢測(cè)鍍液中元素含量。

采用薄膜內(nèi)應(yīng)力測(cè)試儀，測(cè)試真實(shí)的鍍層應(yīng)力結(jié)果。

3 結(jié)果與討論

分別用新配置的鍍液、生產(chǎn)線(xiàn)預(yù)鍍階段循環(huán)15天的鍍液以及處理后的鍍液分別進(jìn)行電鍍，計(jì)算內(nèi)應(yīng)力大小。結(jié)果如圖3，4所示。

圖3 改進(jìn)方法測(cè)試數(shù)據(jù)

圖4 薄膜內(nèi)應(yīng)力測(cè)試數(shù)據(jù)

對(duì)比新方法與薄膜內(nèi)應(yīng)力測(cè)試的數(shù)據(jù)，可以發(fā)現(xiàn)雖然在數(shù)據(jù)準(zhǔn)確度上相差較大，但是三者間應(yīng)力相對(duì)大小還是一致的。所以，新方法可以作為一種生產(chǎn)線(xiàn)上快速檢測(cè)應(yīng)力的半定量測(cè)試方法。

由圖3，4可知，三種鍍液都會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力。理論上氨基磺酸鎳體系鍍鎳是無(wú)應(yīng)力鍍鎳；但是由于在合成的過(guò)程中雜質(zhì)摻雜以及電鍍時(shí)采用空氣攪拌，空氣中雜質(zhì)隨氣流進(jìn)入鍍液，造成新鍍液也會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力。鍍液循環(huán)15天后，應(yīng)力值增加到新鍍液應(yīng)力值的4倍；對(duì)循環(huán)15天的鍍液進(jìn)行處理，采用活性碳濾芯吸附+電解處理，應(yīng)力有所下降，但依然比新鍍液要高，其值是新鍍液應(yīng)力值的2倍。循環(huán)15天的鍍液以及處理后的鍍液之所以會(huì)產(chǎn)生較大的內(nèi)應(yīng)力，是在電鍍的過(guò)程中雜質(zhì)的積累造成的。

圖5 不同周期鍍液Cu,Fe元素含量

圖6 不同周期鍍液Ca,Na元素含量

Cu和Fe是由基體以及Ni陽(yáng)極少量溶解進(jìn)去的；之后在電解處理時(shí)由于采用的不銹鋼電極，F(xiàn)e會(huì)繼續(xù)溶解進(jìn)去。Cu的析出電位要比Ni低，所以在陽(yáng)極優(yōu)先析出，而且還極容易與陽(yáng)極溶解下的S2-形成Cu2S夾雜在鍍層中[6]，夾雜會(huì)使Ni在結(jié)晶時(shí)晶格產(chǎn)生彎曲，同時(shí)位錯(cuò)增多，造成晶格常數(shù)增大，內(nèi)應(yīng)力增大[7]。Fe摻雜同樣對(duì)內(nèi)應(yīng)力的增大產(chǎn)生重要影響，唐徐情[8]等人研究表明，溶液中的Fe2+會(huì)使Ni的晶格常數(shù)增大，可能是Fe和Ni的共沉積使鍍層中摻入了比主體原子半徑更大的原子，同時(shí)Fe2+使Ni沿(111)晶面擇優(yōu)生長(zhǎng)，晶粒尺寸變小，內(nèi)應(yīng)力增大。

Ca和Na的摻雜，可能是循環(huán)水中的雜質(zhì)過(guò)多以及空氣中的微小含Ca顆粒物進(jìn)入鍍液，這也解釋了為什么處理后的鍍液中Na元素反而比循環(huán)15天的鍍液還要高。唐春華[9]通過(guò)大量生產(chǎn)實(shí)踐以及實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，Na+的摻雜使鍍層析氫加劇，pH值迅速升高，造成Fe和Ni形成氫氧化物堿式鹽夾雜在鍍層中，增大了鍍層的內(nèi)應(yīng)力；這也解釋了為何在生產(chǎn)線(xiàn)上一般不用氫氧化鈉而用在高溫高壓煮出的堿式碳酸鎳調(diào)高pH值的原因了。

圖7 不同周期鍍液中含量

4 結(jié)束語(yǔ)

(1)新配鍍液產(chǎn)生的鍍層內(nèi)應(yīng)力很小，之后伴隨著循環(huán)周期的增長(zhǎng)，內(nèi)應(yīng)力會(huì)顯著增加。對(duì)舊槽液進(jìn)行過(guò)濾處理，鍍層內(nèi)應(yīng)力有所下降。