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        鍍液添加劑對鍍層內(nèi)應(yīng)力影響的研究

        2021-03-24 13:40:18張守華張友亮鄧志偉
        化工管理 2021年6期
        關(guān)鍵詞:光亮劑潤濕劑內(nèi)應(yīng)力

        張守華,張友亮,鄧志偉

        (1.安泰科技股份有限公司,北京 100083;2.安泰愛科科技有限公司,山東 淄博 255022)

        0 引言

        在電鍍過程中,由于金屬的結(jié)晶有一定變形或有異相滲入會產(chǎn)生一定的內(nèi)應(yīng)力,這種現(xiàn)象在鍍鎳過程中尤為明顯[1]。鍍層的內(nèi)應(yīng)力可分為兩類:一類是使鍍層本身體積有膨脹趨勢的應(yīng)力,稱為壓應(yīng)力;另一類是使鍍層體積有收縮趨勢的應(yīng)力,稱為拉應(yīng)力。鍍層的內(nèi)應(yīng)力在一定范圍內(nèi)使鍍層的耐蝕性降低,尤其在內(nèi)應(yīng)力突變的部位,容易產(chǎn)生應(yīng)力集中的腐蝕,當(dāng)內(nèi)應(yīng)力較大時,還會使鍍層出現(xiàn)起泡、開裂和局部脫落等現(xiàn)象,影響鍍層的結(jié)合強度[2-3]。在生產(chǎn)中,經(jīng)常由于鍍液溫度、pH值和添加劑等控制不當(dāng),使鍍層聚集了過高的內(nèi)應(yīng)力,進(jìn)而影響鍍層的外觀、耐蝕性和結(jié)合力。本文重點研究了瓦特鍍鎳溶液中不同添加劑對鎳層內(nèi)應(yīng)力的影響,為后續(xù)鍍液維護(hù)提供依據(jù),確保生產(chǎn)順利進(jìn)行。

        1 實驗部分

        1.1 實驗設(shè)備

        (1)DRZ-20D電阻爐;

        (2)實驗用電鍍電源(QJE,ps3005,0-30V,0-5A);

        (3)pH計(PHS-3E);

        (4)分析天平(實際分度值:0.1 mg)。

        1.2 基材

        實驗所采用的材料為H62黃銅基材,其主要成分為60.5~63.5%的銅,鋅余量。試樣規(guī)格100 mm×15 mm×0.1 mm,彈性模量為1.1×106 Kgf/cm2,單面密封膠密封。

        1.3 鍍鎳工藝流程及溶液配方

        條形片去除應(yīng)力→單面絕緣→除油、水洗→鍍鎳水洗、吹干→彎曲度測量→鍍層厚度測量→計算應(yīng)力值。

        鍍液的組成及工藝條件分別見表1。

        表1 鍍鎳溶液組成及工藝條件

        1.4 鍍層內(nèi)應(yīng)力測試

        采用條形陰極法,條形陰極為100 mm×15 mm×0.1 mm的銅片,在電阻爐中450 ℃保溫2 h去除銅片的加工應(yīng)力,單面密封膠密封,經(jīng)除油、水洗后,上端固定,下端為自由端,在一定條件下電鍍后,取出試片,水洗吹干,利用標(biāo)尺槽準(zhǔn)確測量試片的偏轉(zhuǎn)量,再利用分析天平得出電鍍前后的重量差,計算平均鍍厚,最后通過內(nèi)應(yīng)力計算公式計算內(nèi)應(yīng)力大小[4]。這種條形陰極法測得的內(nèi)應(yīng)力是一個半定量性質(zhì)的。表達(dá)公式如下[5]:

        式中:S為鍍層內(nèi)應(yīng)力(N/mm2);E為基體材料的彈性模數(shù)(Kgf/cm2);t為試片的厚度(mm);d為鍍層的平均厚度(mm);L為試片電鍍面的長度(mm);R為試片自由端偏轉(zhuǎn)量(mm)。

        平均鍍層厚度計算公式為:

        式中:d為鍍層的平均鍍厚(mm);m0為電鍍前試片的重量(g);m1為電鍍后試片的重量(g);p為試片鍍層金屬的密度(g/cm3);s為試片受鍍的表面積(mm2)。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 初級光亮劑(SB-71)對鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響

        為研究初級光亮劑對鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響,實驗鍍液的工藝參數(shù)Jk為2.0 A/dm2,pH值為4.2,t為20 min,利用條形陰極法測試鍍液SB-71的含量為0.5 mL/L、1.0 mL/L、1.5 mL/L、2.0 mL/L、2.5 mL/L、3.0 mL/L、3.5 mL/L、4.0 mL/L和4.5 mL/L時,鍍層的內(nèi)應(yīng)力,結(jié)果如圖1所示。

        圖1 初級光亮劑(SB-71)對鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響

        由圖1可知,鍍鎳溶液不加任何添加劑時,有較高的拉應(yīng)力(約116 N/mm2);初級光亮劑(SB-71)對鍍鎳層的內(nèi)應(yīng)力影響明顯,表現(xiàn)為較強的壓應(yīng)力,隨著SB-71的不斷增加,鍍層內(nèi)應(yīng)力逐漸降低;當(dāng)其含量為3 mL/L時,內(nèi)應(yīng)力幾乎為零;當(dāng)其含量大于3 mL/L時,隨著添加劑的增加,鍍層表現(xiàn)的壓應(yīng)力逐漸增大。

        2.2 次級光亮劑(SB-72)對鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響

        為研究次級光亮劑對鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響,實驗鍍液的工藝參數(shù)Jk為2.0 A/dm2,pH值為4.2,t為20 min,利用條形陰極法測試鍍液SB-72的含量為0.5 mL/L、1.0 mL/L、1.5 mL/L、2.0 mL/L和2.5 mL/L時,鍍層的內(nèi)應(yīng)力,結(jié)果如圖2所示。

        圖2 次級光亮劑(SB-72)對鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響

        由圖2可知,鍍鎳溶液不加任何添加劑時,有較高的拉應(yīng)力(約116 N/mm2);次級光亮劑(SB-72)對鍍鎳層的內(nèi)應(yīng)力影響明顯,表現(xiàn)為較強的拉應(yīng)力,隨著SB-72的不斷增加,鍍層內(nèi)應(yīng)力逐漸降增大,當(dāng)其含量為2.0 mL/L時,內(nèi)應(yīng)力增加遲緩;實際生產(chǎn)中需控制次級光亮劑(SB-72)的補加量。

        2.3 潤濕劑(NS-AP)對鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響

        為研究潤濕劑對鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響,實驗鍍液的工藝參數(shù)Jk為2.0 A/dm2,pH值為4.2,t為20 min,利用條形陰極法測試鍍液NS-AP的含量為0.2 mL/L、0.5 mL/L、0.8 mL/L、1.0 mL/L和1.5 mL/L時,鍍層的內(nèi)應(yīng)力,結(jié)果如圖3所示。

        圖3 潤濕劑(NS-AP)對鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響

        由圖3可知,鍍鎳溶液不加任何添加劑時,有較高的拉應(yīng)力(約116 N/mm2);潤濕劑(NS-AP)對鍍鎳層的內(nèi)應(yīng)力影響不明顯,表現(xiàn)為較弱的壓應(yīng)力,隨著NS-AP的不斷增加,鍍層內(nèi)應(yīng)力逐漸降低;當(dāng)其含量為1.5 mL/L時,內(nèi)應(yīng)力降低遲緩。

        綜上,結(jié)合三種添加劑對鍍層內(nèi)應(yīng)力的影響,實驗鍍液的工藝參數(shù)Jk為2.0 A/dm2,pH值為4.2,t為20 min,利用條形陰極法測試鍍液三種添加劑的含量比例(初級光亮劑∶次級光亮劑∶潤濕劑)為1∶1∶0.8時,鍍層的內(nèi)應(yīng)力最小,接近于零。

        3 結(jié)語

        瓦特鍍鎳溶液在工藝參數(shù)Jk為2.0 A/dm2,pH值為4.2時:

        (1)無添加任何添加劑,鍍鎳層的內(nèi)應(yīng)力表現(xiàn)為拉應(yīng)力;

        (2)初級光亮劑(SB-71)和潤濕劑(NS-AP)均表現(xiàn)為壓應(yīng)力,次級光亮劑(SB-72)表現(xiàn)為較強的拉應(yīng)力;

        (3)幾種添加劑的合理搭配(初級光亮劑∶次級光亮劑∶潤濕劑=1∶1∶0.8)可以使鍍層的內(nèi)應(yīng)力變小,甚至可以趨近于零。

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