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        扇出型晶圓級封裝中圓片翹曲研究

        2021-05-06 06:34:02張振越夏鵬程王成遷蔣玉齊
        電子與封裝 2021年4期
        關(guān)鍵詞:圓片下層徑向

        張振越,夏鵬程,王成遷,蔣玉齊

        (1.中國電子科技集團(tuán)公司第58 研究所,江蘇無錫 214035;2.無錫中微高科電子有限公司,江蘇無錫 214035)

        1 引言

        隨著國內(nèi)外封裝技術(shù)的發(fā)展,電子封裝技術(shù)將不斷從質(zhì)量、成本和小型化等方面對產(chǎn)品制定新的更高的要求。扇出型晶圓級封裝技術(shù)是通過重構(gòu)圓片的方式將芯片I/O 端口引出,在重構(gòu)的封裝體上形成焊球或凸點終端陣列,其具有更高I/O 數(shù)、更小封裝尺寸、更好的散熱與電氣性能等優(yōu)勢。基于扇出型晶圓級封裝技術(shù)的3D 封裝,結(jié)合TSV 技術(shù)實現(xiàn)IC 集成封裝已成為先進(jìn)封裝發(fā)展的趨勢之一[1]。

        圓片翹曲是扇出型晶圓級封裝技術(shù)面臨的關(guān)鍵工藝挑戰(zhàn)之一。由于重構(gòu)圓片中芯片包封材料與芯片材料的熱膨脹系數(shù)失配,導(dǎo)致重構(gòu)圓片在溫度變化時會出現(xiàn)翹曲現(xiàn)象。翹曲的產(chǎn)生若不進(jìn)行合理的控制將會嚴(yán)重影響后續(xù)工藝的進(jìn)行。

        國內(nèi)外學(xué)者在研究晶圓翹曲的過程中,主要通過有限元仿真軟件進(jìn)行計算,并根據(jù)試驗結(jié)果對仿真模型與仿真方法進(jìn)行修正。Jia-Shen Lan 等人利用有限元仿真與試驗結(jié)合的方法,通過采用生死單元技術(shù)使得仿真與實測誤差在5%以內(nèi)[2]。CHE 等人利用有限元仿真分析方法從材料選擇、結(jié)構(gòu)設(shè)計與工藝優(yōu)化三方面研究翹曲問題,通過加入重力效應(yīng)得到更精確的仿真結(jié)果[3]。CHIU 等人在研究圓片翹曲過程中考慮了材料的粘彈性行為與化學(xué)收縮[4]。翹曲方面的理論計算研究主要發(fā)展在單顆扇出封裝電路或塑封電路中。多數(shù)學(xué)者采用多層板的板殼翹曲理論進(jìn)行推導(dǎo),從而計算單顆封裝電路的翹曲值[5-9]。

        翹曲方面的理論計算國內(nèi)外學(xué)者多采用經(jīng)典板橋區(qū)理論或應(yīng)變能法進(jìn)行推導(dǎo),本文采用彈性材料力學(xué)原理進(jìn)行理論推導(dǎo),提出了扇出型晶圓級封裝圓片翹曲計算的理論公式,同時針對3 種常見的工程實際問題給出計算模型的變換方式。

        2 扇出型晶圓級封裝中圓片翹曲理論模型

        將扇出型晶圓級封裝圓片采用雙層圓形板模型進(jìn)行分析,將芯片上方的圓片作為上層板,上層板由EMC 材料組成,下層板由芯片與EMC 共同組成,利用復(fù)合材料等效方法將下層板中的芯片與EMC 等效為一種新的材料,如圖1 所示。E1、E2分別為上層板與下層板的彈性模量;α1、α2分別為上層板與下層板的熱膨脹系數(shù);γ1、γ2分別為上層板與下層板的泊松比;h1、h2分別為上層板與下層板的厚度(即芯片的厚度)。

        作用在圓形板上的載荷,對于通過中心并垂直于圓板的軸是對稱分布的,則所有與板中心等距離點的撓度是相同的,因此只需要研究一個通過對稱軸的徑向截面撓度即為圓片的翹曲值。假設(shè)圓片的橫截面在初始狀態(tài)下是平面且垂直于軸線,彎曲過程中依然保持平面并與彎曲軸垂直[10]。

        圖1 晶圓級封裝圓片雙層圓形板模型

        由于α1>α2,在降溫過程中,上方圓片收縮量大于下方圓片收縮量,由于實際的圓片上下是牢固結(jié)合在一起的,故圓片必然會形成球面狀彎曲[11]。作用在上層板(EMC)上的力可以表示為橫向剪切力P1和彎矩M1,對于下層板上的力可以表示為橫向剪切力P2和彎矩M2。由于無其他外力作用,所有的力應(yīng)保持平衡,則有:

        由于上下層板固連在一起,上下層板在交界面處應(yīng)具有相同的曲率半徑,令圓片彎曲后的曲率半徑為ρ,為上層板的抗彎剛度,為下層板的抗彎剛度[12],則有:

        帶入式(2):

        另,降溫后晶圓發(fā)生翹曲,存在約束條件:上層板與下層板在接觸面處徑向方向的變化應(yīng)該相等。則有:

        將式(1)與式(5)帶入式(6),并化簡得:

        曲率半徑計算得到以后,即可計算圓片的翹曲值。如圖2 所示,圓片塑封冷卻后呈現(xiàn)凹型,其截面形狀即弧ACB,弧ACB 是半徑為ρ 的圓弧,即可得到:

        圖2 雙層圓形板的翹曲

        令晶圓級封裝圓片的直徑為l,DC 為所求圓片的翹曲值δ。由于晶圓級封裝圓片翹曲值遠(yuǎn)小于其直徑,可以認(rèn)為BD≈1/2。代入式(9)得:

        由于翹曲值δ 遠(yuǎn)小于圓片直徑與曲率半徑ρ,δ2項可以忽略。同時代入曲率半徑計算公式(8)得到晶圓級封裝圓片翹曲理論計算公式:

        下層板是芯片與EMC 的等效層,其材料參數(shù)為徑向線膨脹系數(shù)與彈性模量。視芯片為纖維材料,EMC 為基體,則圓片直徑X 方向材料不連續(xù),法向Y方向材料連續(xù),故其等效材料參數(shù)計算公式為[13]:

        式中L 為芯片在圓片徑向方向占比,如圖3 所示。

        圖3 下層板芯片徑向占比示意圖

        L 的計算方式有兩種:

        1)對于芯片長寬尺寸與PKG 長寬尺寸采用等比擴大方式的布局方案,令扇出比為μ,扇出比為單顆封裝面積與單顆芯片面積之比。

        扇出型晶圓級封裝工藝是以圓片形式的,而芯片尺寸都是正方形或長方形,為了保障各工序的進(jìn)行與芯片良率,在圓片最外側(cè)會有預(yù)留,則芯片在圓片徑向方向占比L 得到以下公式:

        2)存在另一部分封裝,由于設(shè)計的需要,芯片長寬尺寸與PKG 長寬尺寸并不是等比例的,這時候需要得到芯片數(shù)量與芯片尺寸才能計算L。

        式中,N 為芯片在直徑方向的布局?jǐn)?shù)量;L2為芯片尺寸。

        3 有限元仿真與測試驗證

        為了驗證上述公式,案例為某芯片進(jìn)行扇出型晶圓級封裝,降溫過程為從150 ℃到25 ℃,其結(jié)構(gòu)參數(shù)如表1 所示,材料參數(shù)如表2 所示。

        表1 某芯片扇出型晶圓級封裝結(jié)構(gòu)參數(shù)

        表2 某芯片扇出型晶圓級封裝材料參數(shù)

        將上述結(jié)構(gòu)與材料參數(shù)分別代入式(16)、(12)、(13)、(11),根據(jù)晶圓級封裝圓片翹曲理論計算公式,計算得到圓片翹曲值為2.1022 mm。

        采用有限元仿真ANSYS Workbench 軟件對某芯片晶圓級扇出圓片翹曲進(jìn)行模擬計算,由于整個模型具有對稱性,采用1/4 模型進(jìn)行結(jié)構(gòu)建模,如圖4 所示。

        圖4 某芯片扇出型晶圓級封裝結(jié)構(gòu)模型

        采用穩(wěn)態(tài)結(jié)構(gòu)模塊,參考溫度為150 ℃,對模型整體施加25 ℃溫度載荷,設(shè)置固定點約束為芯片位于圓心處的一點,1/4 模型在X=0 面與Y=0 面設(shè)置對稱邊界條件與位移約束。根據(jù)有限元仿真計算,圓片翹曲結(jié)果為2.1418 mm,翹曲變形如圖5 所示。

        圖5 某芯片扇出封裝仿真翹曲云圖

        采用Shadow moire 設(shè)備測量某芯片扇出型晶圓級封裝的圓片翹曲情況,得到測試結(jié)果如圖6 所示。

        圖6 Shadow moire 測試結(jié)果

        理論計算、仿真、測試的結(jié)果對比如表3 所示。由于扇出型晶圓級封裝工藝中劃片、裝片、塑封、后固化等存在工藝的誤差影響,同時實際生產(chǎn)中很難達(dá)到理想的邊界條件,故無論是理論計算還是有限元仿真與實測的誤差存在是必然的。

        表3 理論計算-仿真-測試結(jié)果對比

        從表3 可以看出,仿真得到翹曲值與理論計算得到的翹曲值非常接近。從誤差精度看,有限元仿真與理論計算誤差都在10%以內(nèi),這是工程上能夠接受的誤差范圍。這也進(jìn)一步驗證了雙層圓形板彎曲理論的假設(shè)與數(shù)學(xué)模型能夠應(yīng)用于解釋扇出型晶圓級封裝中圓片的翹曲問題。

        4 扇出型晶圓級封裝圓片翹曲公式的工程應(yīng)用

        根據(jù)式(11)~(16)可以很明顯地發(fā)現(xiàn)影響扇出型晶圓級封裝圓片翹曲的因素為圓片尺寸(l)、溫度變化范圍(t-t0)、芯片與EMC 的材料參數(shù)(E1、ESI、α1、αSI、γ1、γSI)、芯片徑向占比(L)、芯片厚度(h2)、EMC 厚度(h1)。關(guān)于材料參數(shù)對圓片翹曲的影響,多名學(xué)者已經(jīng)通過有限元仿真與參數(shù)化分析技術(shù)進(jìn)行了較為詳細(xì)的研究。圓片尺寸(l)、溫度變化范圍(t-t0)由設(shè)備能力與工藝決定。

        實際工程應(yīng)用時,由于方案的設(shè)計或產(chǎn)品外形尺寸要求,往往出現(xiàn)以下3 種情況。

        1)芯片厚度(h2)已定,需要優(yōu)選滿足工藝能力的最佳芯片扇出方案。

        對式(11)進(jìn)行變化:

        圖7 芯片徑向占比對圓片翹曲的影響關(guān)系

        圖7 以芯片厚度為0.3 mm 為例,得到h 與L 對扇出型晶圓級封裝圓片翹曲的影響關(guān)系,根據(jù)設(shè)計要求與工藝能力,在圖7 中能夠?qū) 與h 進(jìn)行選型??梢姡诤穸确较?,芯片的厚度占比越大,翹曲度也越低。同時,在相同硅片厚度比的情況下,芯片的徑向占比越大(芯片尺寸不變的情況下,意味著扇出比越小),圓片的翹曲度也越大。

        2)封裝厚度(h1+h2)已定,需要優(yōu)選滿足工藝能力的最佳芯片扇出方案。

        對式(11)進(jìn)行變化:

        圖8 芯片徑向占比對圓片翹曲的影響關(guān)系

        圖8 以封裝厚度為0.7 mm 為例,得到h 與L 對扇出型晶圓級封裝圓片翹曲的影響關(guān)系,根據(jù)設(shè)計要求與工藝能力,在圖8 中能夠?qū) 與h 進(jìn)行選型。

        3)芯片扇出比(μ)已定,需要優(yōu)選滿足工藝能力的最佳芯片扇出方案。

        利用式(15)計算得到芯片徑向占比(L),代入式(17)得到圓片翹曲值。

        圖9 芯片厚度對圓片翹曲的影響關(guān)系

        圖9 以芯片扇出比1.2 為例,得到h2與L 對扇出型晶圓級封裝圓片翹曲的影響關(guān)系,根據(jù)設(shè)計要求與工藝能力,在圖9 中能夠?qū) 與h 進(jìn)行選型。

        利用扇出型晶圓級封裝圓片翹曲計算公式不僅能夠針對不同產(chǎn)品快速預(yù)測晶圓的翹曲情況,對于扇出型晶圓級封裝的設(shè)計初期常見的3 個實際工程問題,根據(jù)封裝廠工藝能力與設(shè)計能力要求,選擇常用的扇出比、芯片厚度與封裝厚度,利用扇出型晶圓級封裝圓片翹曲的計算公式,能夠更好地完善封裝廠扇出型晶圓級封裝設(shè)計規(guī)則。

        5 結(jié)論

        本文基于雙層圓形板彎曲理論與復(fù)合材料等效方法,提出扇出型晶圓級封裝圓片翹曲理論解析表達(dá)式。通過一個實際晶圓級封裝案例進(jìn)行理論求解、有限元仿真與測試。結(jié)果顯示有限元仿真結(jié)果與理論計算結(jié)果極為接近,同時與測試結(jié)果誤差在10%以內(nèi)。

        利用該翹曲數(shù)學(xué)模型,針對常見的3 類工程實際問題,給出了翹曲數(shù)學(xué)模型的變換方法與應(yīng)用。本文提出的扇出型晶圓級封裝翹曲模型不僅能夠快速預(yù)測翹曲,而且對于晶圓級封裝產(chǎn)品的設(shè)計具有一定的指導(dǎo)意義,通過該翹曲模型能夠進(jìn)一步完善扇出型晶圓級封裝設(shè)計規(guī)則,更好地預(yù)測與控制圓片的翹曲。

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