宋冠群

當(dāng)今世界，隨著各國(guó)企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)意識(shí)的不斷提高，在各個(gè)技術(shù)領(lǐng)域激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中，包括專利在內(nèi)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)的地位和作用日益重要，一些跨國(guó)企業(yè)十分重視專利挖掘和全球的布局規(guī)劃，往往會(huì)利用它作為有效武器，提升技術(shù)創(chuàng)新效率、保護(hù)自身利益、增強(qiáng)競(jìng)爭(zhēng)能力、穩(wěn)固自身市場(chǎng)份額。相比而言，我國(guó)大多數(shù)企業(yè)仍很缺乏主動(dòng)進(jìn)行專利挖掘的意識(shí)，在專利布局規(guī)劃工作上也尚處于起步階段，特別對(duì)于是中國(guó)首創(chuàng)的技術(shù)，如果僅在中國(guó)進(jìn)行了專利申請(qǐng)，并沒(méi)有進(jìn)入其他國(guó)家和地區(qū)，那么美國(guó)、歐洲等企業(yè)都可以免費(fèi)模仿使用，只要不進(jìn)入中國(guó)就不存在侵犯知識(shí)產(chǎn)權(quán)問(wèn)題。這樣的專利布局頗為遺憾，不僅使得中國(guó)權(quán)利人今后對(duì)該技術(shù)進(jìn)行產(chǎn)業(yè)化會(huì)受到國(guó)外競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的限制，而且對(duì)國(guó)內(nèi)其他企業(yè)的潛在影響將會(huì)更大①佑斌.從清華“天機(jī)芯”看我國(guó)高科技領(lǐng)域知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)的困境.(2019-08-04)[2020-07-10)].https://www.163.com/dy/article/ELOAE09P0511TCAU.html.。

一、專利挖掘與布局規(guī)劃的意義

目前國(guó)內(nèi)的大多數(shù)企業(yè)和科研機(jī)構(gòu)雖然已經(jīng)逐漸意識(shí)到了專利申請(qǐng)的重要性，但在實(shí)踐操作中往往缺乏主動(dòng)進(jìn)行專利挖掘和布局規(guī)劃的意識(shí)，只是在研發(fā)工作完成后，才基于技術(shù)人員提出的“技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)”，從孤立的技術(shù)點(diǎn)的角度出發(fā)，逐一轉(zhuǎn)化成專利申請(qǐng)?zhí)岚浮?/p>

這樣產(chǎn)生的專利申請(qǐng)?zhí)岚?，從專利申?qǐng)的角度來(lái)看，對(duì)現(xiàn)有技術(shù)缺乏足夠了解，也無(wú)法明確自身技術(shù)方案中真正的技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)，以保證創(chuàng)新方案的新穎性或創(chuàng)造性，因而不僅會(huì)影響到未來(lái)專利的授權(quán)，多數(shù)情況下還會(huì)影響未來(lái)專利申請(qǐng)所獲權(quán)利的保護(hù)范圍；從專利布局的角度來(lái)看，由于這些提案未經(jīng)過(guò)整體規(guī)劃，只是技術(shù)人員零散地提出，無(wú)法對(duì)產(chǎn)品或技術(shù)方案中的全部創(chuàng)新點(diǎn)進(jìn)行覆蓋，很難對(duì)整個(gè)產(chǎn)品或創(chuàng)新方案形成全面保護(hù)，也就很難為企業(yè)的專利戰(zhàn)略和技術(shù)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力提供有效支撐。

專利挖掘是指有意識(shí)地對(duì)創(chuàng)新性成果進(jìn)行創(chuàng)造性的剖析和甄選，進(jìn)而從最合理的權(quán)利保護(hù)角度確定用以申請(qǐng)專利的技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)和技術(shù)方案的過(guò)程②馬天旗.專利挖掘[M].北京：知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社,2016:2.。簡(jiǎn)而言之，專利挖掘是專利人員和技術(shù)人員主動(dòng)發(fā)現(xiàn)、挖掘出更多的可以或適合申請(qǐng)專利的技術(shù)點(diǎn)，由特定需求產(chǎn)生的創(chuàng)新點(diǎn)而形成專利申請(qǐng)的過(guò)程，是后續(xù)專利布局規(guī)劃工作的重要支撐。

專利布局規(guī)劃，是指企業(yè)項(xiàng)目出于商業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的目的，基于企業(yè)的經(jīng)營(yíng)理念、戰(zhàn)略定位和創(chuàng)新體系，綜合考慮產(chǎn)業(yè)、市場(chǎng)、技術(shù)、法律等因素，輔以專利挖掘，在技術(shù)領(lǐng)域、專利申請(qǐng)地域、申請(qǐng)時(shí)間、申請(qǐng)類型和申請(qǐng)數(shù)量等方面，進(jìn)行針對(duì)性的、策略性和前瞻性的專利申請(qǐng)或以其他方式獲取專利的規(guī)劃和動(dòng)態(tài)部署過(guò)程，從而形成嚴(yán)密高效的專利保護(hù)網(wǎng)，實(shí)現(xiàn)專利價(jià)值和競(jìng)爭(zhēng)利益的最大化③馬天旗.專利布局[M].北京：知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社,2016:1.。

因此，對(duì)企業(yè)而言，需要通過(guò)專利挖掘和布局規(guī)劃工作，對(duì)專利的產(chǎn)生和獲取過(guò)程進(jìn)行有效管理，以期對(duì)企業(yè)的創(chuàng)新成果進(jìn)行全面、系統(tǒng)的專利保護(hù)，從而實(shí)現(xiàn)利益最大化。

二、專利挖掘與布局規(guī)劃的方法和思路

有效的專利挖掘和布局規(guī)劃工作，首先需要對(duì)現(xiàn)有技術(shù)情況進(jìn)行收集和分析，其次需要通過(guò)科學(xué)的專利挖掘方法，對(duì)技術(shù)方案中的技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)進(jìn)行全面的剖析和梳理，最后通過(guò)合理的技術(shù)層面、時(shí)間層面、地域?qū)用娴榷喾轿坏囊?guī)劃，站在企業(yè)經(jīng)營(yíng)戰(zhàn)略的高度，對(duì)創(chuàng)新成果以專利組合的形式，形成具有戰(zhàn)略和市場(chǎng)價(jià)值的專利布局。下文主要從技術(shù)角度，明確了專利人員、技術(shù)人員在專利挖掘和布局規(guī)劃工作中承擔(dān)的角色和職責(zé)。

如表1 所示，通常情況下，專利挖掘和布局規(guī)劃工作可大致分為三個(gè)主要的階段，各階段均需要企業(yè)內(nèi)部的技術(shù)人員、專利人員參與。其中，技術(shù)人員主要參與專利挖掘和布局規(guī)劃工作中的技術(shù)頭腦風(fēng)暴討論，決定了挖掘出的技術(shù)內(nèi)容的創(chuàng)新程度；專利人員通過(guò)對(duì)相關(guān)專利布局情況的了解，與技術(shù)人員溝通，制訂專利挖掘的方案，也從企業(yè)專利管理的角度向技術(shù)人員提供參考和建議。

表1 專利挖掘與布局規(guī)劃項(xiàng)目主要階段

下文將結(jié)合“某適航驗(yàn)證關(guān)鍵技術(shù)”專利挖掘與布局規(guī)劃項(xiàng)目的過(guò)程，對(duì)專利挖掘與布局規(guī)劃工作各階段的主要工作內(nèi)容和目標(biāo)進(jìn)行詳細(xì)闡述。

（一）項(xiàng)目啟動(dòng)階段

1.專利挖掘和布局規(guī)劃相關(guān)培訓(xùn)

技術(shù)人員是創(chuàng)新技術(shù)方案的來(lái)源，同時(shí)也是專利挖掘和布局規(guī)劃工作的重要參與者，專利人員除了日常向技術(shù)人員提供知識(shí)產(chǎn)權(quán)基礎(chǔ)培訓(xùn)外，還應(yīng)提供專利挖掘和布局規(guī)劃相關(guān)的培訓(xùn)和介紹，讓技術(shù)人員對(duì)專利挖掘和布局規(guī)劃工作的目的、方式和意義等基本知識(shí)有一定的了解，同時(shí)使技術(shù)人員逐步培養(yǎng)出專利挖掘和布局規(guī)劃的意識(shí)。

2.需求梳理和確認(rèn)

需求梳理和確認(rèn)對(duì)于項(xiàng)目后續(xù)工作的開展至關(guān)重要。為確保專利挖掘和布局規(guī)劃工作的針對(duì)性，在開展項(xiàng)目工作前，技術(shù)人員需要向?qū)＠藛T提出初步需求，其中包括對(duì)需求內(nèi)容、產(chǎn)生的背景、期望目標(biāo)等信息的介紹。

在實(shí)踐操作中，可以通過(guò)表2 示例的項(xiàng)目需求表的形式展現(xiàn)。

表2 項(xiàng)目需求表示例

項(xiàng)目需求表是介紹項(xiàng)目來(lái)源、項(xiàng)目技術(shù)背景和項(xiàng)目需求的重要技術(shù)文件，也是技術(shù)人員向?qū)＠藛T傳遞信息的重要介質(zhì)。若該項(xiàng)目隸屬于系列項(xiàng)目，則前期項(xiàng)目成果也應(yīng)填入需求表，若技術(shù)人員對(duì)國(guó)內(nèi)外整體技術(shù)背景已做過(guò)初步調(diào)研，也應(yīng)將整體技術(shù)背景情況填寫入需求表，包括已有的參考文獻(xiàn)，也可填入表中，便于其他參與人員快速理解技術(shù)。

專利人員應(yīng)當(dāng)針對(duì)技術(shù)人員提出的初步需求進(jìn)行梳理，幫助技術(shù)人員對(duì)較為寬泛的需求進(jìn)行歸納提煉，并指導(dǎo)技術(shù)人員采用合適的專利挖掘和布局規(guī)劃方法。

3.技術(shù)交底

在完成需求梳理和確認(rèn)后，專利人員應(yīng)與技術(shù)人員進(jìn)行面對(duì)面的交流和溝通。

其中，由技術(shù)人員向?qū)＠藛T進(jìn)行技術(shù)交底，針對(duì)整體技術(shù)背景情況、已取得的研究成果和需要開展知識(shí)產(chǎn)權(quán)調(diào)研工作的技術(shù)點(diǎn)應(yīng)進(jìn)行詳細(xì)介紹，涉及具體技術(shù)內(nèi)容的部分應(yīng)配合圖示進(jìn)行說(shuō)明，對(duì)于技術(shù)內(nèi)容中存在籠統(tǒng)或不清楚之處，應(yīng)在技術(shù)交底過(guò)程中通過(guò)溝通協(xié)商加以明確。

由專利人員根據(jù)項(xiàng)目需求，向技術(shù)人員介紹項(xiàng)目后續(xù)的工作計(jì)劃和安排，必要時(shí)，也可對(duì)技術(shù)人員針對(duì)性的進(jìn)行專利挖掘和布局規(guī)劃相關(guān)的培訓(xùn)或介紹。

（二）專利挖掘階段

對(duì)企業(yè)而言，企業(yè)在研發(fā)過(guò)程中技術(shù)人員必然會(huì)面臨各種技術(shù)問(wèn)題，需要通過(guò)技術(shù)改進(jìn)等手段進(jìn)行解決，是企業(yè)產(chǎn)生專利可能性最大的場(chǎng)景。專利挖掘工作始于創(chuàng)新點(diǎn)的發(fā)掘。創(chuàng)新點(diǎn)最為集中的是企業(yè)自身研發(fā)項(xiàng)目，尤其對(duì)于創(chuàng)新型企業(yè)來(lái)講，項(xiàng)目研發(fā)就是發(fā)明創(chuàng)造及技術(shù)改進(jìn)的過(guò)程，會(huì)解決各種各樣的問(wèn)題，這些都是創(chuàng)新點(diǎn)的來(lái)源。另外，對(duì)于已經(jīng)公開的專利技術(shù)，企業(yè)可以利用這些資源來(lái)了解行業(yè)發(fā)展路線，識(shí)別專利保護(hù)區(qū)與空白點(diǎn)，進(jìn)而產(chǎn)生創(chuàng)新點(diǎn)。因此專利挖掘的類型可以分為以研發(fā)創(chuàng)新為基礎(chǔ)的專利挖掘和以現(xiàn)有專利為基礎(chǔ)的專利挖掘。

在“某適航驗(yàn)證關(guān)鍵技術(shù)”專利挖掘與布局規(guī)劃項(xiàng)目中，根據(jù)項(xiàng)目啟動(dòng)階段與技術(shù)人員溝通的結(jié)果，該項(xiàng)目的技術(shù)主題目前已經(jīng)有初步確定的技術(shù)方案，其中部分技術(shù)分支是企業(yè)技術(shù)人員提出的創(chuàng)新點(diǎn)，但尚未開展深入研究，需要圍繞該創(chuàng)新點(diǎn)進(jìn)行專利挖掘。下文將主要針對(duì)基于研發(fā)創(chuàng)新的專利挖掘與布局規(guī)劃方式進(jìn)行詳細(xì)闡述。

1.基于研發(fā)創(chuàng)新的專利挖掘

在企業(yè)的專利挖掘工作中，基于創(chuàng)新點(diǎn)的挖掘是最為常見的專利挖掘類型之一。這種類型的專利挖掘需要通過(guò)對(duì)研發(fā)創(chuàng)新點(diǎn)的技術(shù)方案進(jìn)行分解，對(duì)其中可專利的創(chuàng)新方向進(jìn)行挖掘和梳理，包括創(chuàng)新點(diǎn)分解、現(xiàn)有技術(shù)調(diào)查和分析、創(chuàng)新點(diǎn)挖掘三個(gè)階段（如圖1所示），由專利人員和技術(shù)人員共同參與。

圖1 基于研發(fā)創(chuàng)新點(diǎn)的專利挖掘流程

（1）創(chuàng)新點(diǎn)分解

由于企業(yè)的研發(fā)項(xiàng)目具有復(fù)雜性的特點(diǎn)，那么基于研發(fā)創(chuàng)新的專利挖掘，要從技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目出發(fā)進(jìn)行技術(shù)分解（如圖2 所示），即按照項(xiàng)目需要達(dá)到的技術(shù)效果或技術(shù)構(gòu)架進(jìn)行逐級(jí)拆分，以達(dá)到梳理技術(shù)分支、把握技術(shù)要素、明確創(chuàng)新點(diǎn)的目的。

圖2 技術(shù)內(nèi)容分解表示例

例如，對(duì)于該項(xiàng)目中創(chuàng)新的“混合結(jié)構(gòu)葉片”，可以從結(jié)構(gòu)形式、連接方式、制造方法等等多個(gè)角度進(jìn)行分解。

（2）現(xiàn)有技術(shù)調(diào)查和分析

根據(jù)基礎(chǔ)創(chuàng)新點(diǎn)分解的結(jié)果，專利人員應(yīng)針對(duì)創(chuàng)新點(diǎn)相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域中的現(xiàn)有技術(shù)專利進(jìn)行全面的檢索和收集，專利人員應(yīng)制定檢索策略并與設(shè)計(jì)人員溝通確認(rèn)。

對(duì)于檢索命中的專利文獻(xiàn)，專利人員應(yīng)根據(jù)技術(shù)分解的結(jié)果逐一進(jìn)行篩選和分類，并分別通過(guò)定量和定性分析對(duì)現(xiàn)有技術(shù)專利的申請(qǐng)情況進(jìn)行分析，為后續(xù)的專利挖掘和布局規(guī)劃提供支持。

針對(duì)相關(guān)專利的非技術(shù)指標(biāo)進(jìn)行定量分析，包括：歷年專利申請(qǐng)量分析、專利地域布局分析、申請(qǐng)人分析等，幫助技術(shù)人員從宏觀角度了解相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域現(xiàn)有專利申請(qǐng)的總體發(fā)展現(xiàn)狀。

針對(duì)相關(guān)專利的技術(shù)分類結(jié)果進(jìn)行定性分析，通過(guò)技術(shù)熱點(diǎn)分析、技術(shù)重點(diǎn)分析、技術(shù)空白點(diǎn)分析、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手專利布局分析、技術(shù)發(fā)展路線分析等，幫助技術(shù)人員從技術(shù)細(xì)節(jié)的角度了解相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠暾?qǐng)的分布情況，也為后續(xù)的專利挖掘和布局規(guī)劃工作提供參考。

（3）創(chuàng)新點(diǎn)挖掘

專利人員應(yīng)和技術(shù)人員一同參加會(huì)議，進(jìn)行面對(duì)面的討論和溝通，在對(duì)現(xiàn)有技術(shù)專利布局進(jìn)行梳理的基礎(chǔ)上，沿創(chuàng)新點(diǎn)分解后形成的技術(shù)分支中的各技術(shù)要素逐一進(jìn)行技術(shù)分析和挖掘，尋找其中可能存在的創(chuàng)新點(diǎn)。

針對(duì)具體的技術(shù)要素，在挖掘過(guò)程中可以應(yīng)用一些挖掘工具，例如：頭腦風(fēng)暴法、TRIZ 理論等。其中頭腦風(fēng)暴法可用于解決任何技術(shù)問(wèn)題，但主要依賴參與者的技術(shù)支持儲(chǔ)備、技術(shù)經(jīng)驗(yàn)積累以及思維能力，屬于相對(duì)依賴主觀因素的挖掘方法。而TRIZ 理論是基于知識(shí)的方法論，本質(zhì)上是通過(guò)從專利數(shù)據(jù)中整理出的對(duì)于特定問(wèn)題的解決方式來(lái)啟發(fā)解決問(wèn)題的創(chuàng)新方法。

除前述技術(shù)分解獲得的技術(shù)分支和技術(shù)要素外，專利挖掘工作還可以結(jié)合企業(yè)未來(lái)產(chǎn)品在產(chǎn)業(yè)中的定位，基于目標(biāo)創(chuàng)新點(diǎn)，向關(guān)聯(lián)的技術(shù)方向進(jìn)行適當(dāng)延伸，也即對(duì)已有技術(shù)方案的配套技術(shù)、外圍技術(shù)、接續(xù)技術(shù)等進(jìn)行拓展，如產(chǎn)品的配套設(shè)計(jì)方法、核心產(chǎn)品的外圍產(chǎn)品、生產(chǎn)工藝中的前序或后續(xù)工藝等。

同樣，創(chuàng)新點(diǎn)挖掘過(guò)程中還可借鑒其他相關(guān)技術(shù)方案中的專利布局，將其他相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的特定技術(shù)引入本技術(shù)領(lǐng)域，進(jìn)行創(chuàng)新性結(jié)合，形成新的可創(chuàng)新方向。

2.專利挖掘成果梳理

專利人員和技術(shù)人員應(yīng)一同對(duì)專利挖掘成果進(jìn)行梳理，包括對(duì)背景技術(shù)、創(chuàng)新技術(shù)內(nèi)容相較于現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別點(diǎn)或改進(jìn)點(diǎn)、所解決的技術(shù)問(wèn)題、實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果、實(shí)現(xiàn)方式及替代方式等等。其中，實(shí)現(xiàn)的技術(shù)效果應(yīng)考慮兩方面，即應(yīng)用該方案對(duì)于最終產(chǎn)品所產(chǎn)生的改進(jìn)技術(shù)效果和所產(chǎn)生的其他技術(shù)效果。

專利挖掘的成果可以通過(guò)表格的形式進(jìn)行歸納梳理，直觀地展示創(chuàng)新點(diǎn)的技術(shù)內(nèi)容，以便專利人員開展后續(xù)的專利布局規(guī)劃工作，同時(shí)便于技術(shù)人員進(jìn)一步從技術(shù)可行性角度篩選可創(chuàng)新方向，作為后續(xù)進(jìn)一步研發(fā)的基礎(chǔ)。

（三）專利布局規(guī)劃階段

專利布局規(guī)劃能夠幫助企業(yè)對(duì)產(chǎn)品開發(fā)中的技術(shù)成果，特別是優(yōu)勢(shì)技術(shù)進(jìn)行合理有效的專利部署，從短期來(lái)看，能夠?yàn)榧磳⑸鲜械漠a(chǎn)品提供保護(hù)，從長(zhǎng)期來(lái)看，在形成一定數(shù)量規(guī)模的專利組合后，能夠幫助企業(yè)支撐起健康穩(wěn)定的商業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略和產(chǎn)品規(guī)劃路線。

在本階段中，專利人員對(duì)創(chuàng)新點(diǎn)梳理成果的專利性進(jìn)行評(píng)估，在此基礎(chǔ)上，協(xié)同技術(shù)人員一起，從技術(shù)、優(yōu)先級(jí)、時(shí)間、空間等角度對(duì)后續(xù)的專利布局進(jìn)行規(guī)劃，并整理專利布局建議清單。

表3 是本項(xiàng)目專利布局建議的要點(diǎn)示例，以清晰明了的形式呈現(xiàn)專利布局規(guī)劃成果，以便企業(yè)后續(xù)專利布局規(guī)劃工作的落實(shí)。

表3 專利布局建議要點(diǎn)示例

1.專利性評(píng)估

對(duì)于挖掘出的創(chuàng)新點(diǎn)，應(yīng)由專利人員進(jìn)行創(chuàng)新性評(píng)估。通過(guò)評(píng)估可以判斷其授權(quán)前景，并為申請(qǐng)類型確定、專利組合策劃、申請(qǐng)的重要程度以及個(gè)案的權(quán)利要求布局打下良好基礎(chǔ)。

創(chuàng)新性評(píng)估能對(duì)創(chuàng)新點(diǎn)進(jìn)行重新確認(rèn)，從而及時(shí)調(diào)整或者補(bǔ)充相關(guān)的創(chuàng)新點(diǎn)，同時(shí)，根據(jù)創(chuàng)新的評(píng)估結(jié)果，確定重點(diǎn)開展布局的專利組合，并對(duì)組合中的各個(gè)專利的權(quán)利要求進(jìn)行布局。

2.布局規(guī)劃

實(shí)施專利布局規(guī)劃時(shí)，應(yīng)考慮技術(shù)要素、權(quán)利要素、產(chǎn)品要素、價(jià)值要素、時(shí)間要素和地域要素，對(duì)于這些基本要素的選擇、使用和綜合是實(shí)現(xiàn)各種專利布局規(guī)劃意圖的基本手段和措施。

（1）技術(shù)布局規(guī)劃

專利布局要圍繞技術(shù)的延續(xù)、發(fā)展以及不同技術(shù)之間的關(guān)聯(lián)支撐關(guān)系，綜合分析在技術(shù)上具有關(guān)聯(lián)性的創(chuàng)新點(diǎn)，制定能夠最大限度保護(hù)自身技術(shù)的專利布局策略：針對(duì)涉及核心技術(shù)的創(chuàng)新點(diǎn)，可采用搶先申請(qǐng)策略；針對(duì)涉及外圍技術(shù)的創(chuàng)新點(diǎn)，可采用迷惑申請(qǐng)策略，綜合起來(lái)對(duì)核心技術(shù)形成專利網(wǎng)保護(hù)。從競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手研發(fā)方向的角度出發(fā)，還可采用專利圍墻型布局策略，利用系列專利形成對(duì)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手研發(fā)的阻礙。

單獨(dú)分析各創(chuàng)新點(diǎn)技術(shù)內(nèi)容，基于專利性評(píng)估結(jié)果，重新分析梳理各創(chuàng)新點(diǎn)的專利保護(hù)點(diǎn)，確定專利申請(qǐng)的核心內(nèi)容，對(duì)創(chuàng)新方案最終申請(qǐng)的保護(hù)主題、申請(qǐng)類型和獨(dú)立權(quán)利要求保護(hù)范圍形成初步規(guī)劃，合理劃分必要技術(shù)特征和附加技術(shù)特征，對(duì)從屬權(quán)利要求的技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行初步構(gòu)思，對(duì)可申請(qǐng)的權(quán)項(xiàng)數(shù)進(jìn)行規(guī)劃。

（2）優(yōu)先級(jí)布局規(guī)劃

優(yōu)先級(jí)是創(chuàng)新點(diǎn)申請(qǐng)優(yōu)先順序的指標(biāo)，評(píng)估優(yōu)先級(jí)時(shí)，應(yīng)將創(chuàng)新點(diǎn)的易觀察度、易模仿度、商業(yè)價(jià)值等因素納入考量。其中，易觀察度是指該創(chuàng)新點(diǎn)涉及的結(jié)構(gòu)或方法是否易被觀察到，易模仿度是指創(chuàng)新點(diǎn)涉及的結(jié)構(gòu)或方法是否易被他人模仿，商業(yè)價(jià)值是指與產(chǎn)品賣點(diǎn)的關(guān)聯(lián)性，若創(chuàng)新點(diǎn)的易觀察度、易模仿度和商業(yè)價(jià)值都較高，則應(yīng)當(dāng)優(yōu)先考慮申請(qǐng)，以降低其被侵權(quán)的風(fēng)險(xiǎn)。

（3）時(shí)間布局規(guī)劃

基于專利的時(shí)限特點(diǎn)和技術(shù)產(chǎn)業(yè)的時(shí)間演進(jìn)特點(diǎn)，專利布局時(shí)應(yīng)對(duì)時(shí)間結(jié)構(gòu)進(jìn)行合理設(shè)計(jì)?？紤]到目前世界上主要的國(guó)家普遍都實(shí)行先申請(qǐng)?jiān)瓌t，及時(shí)申請(qǐng)專利非常重要。但是，申請(qǐng)專利的時(shí)間并不是越早越好，過(guò)早申請(qǐng)也會(huì)存在一些缺陷。在企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新成果尚未成熟時(shí)申請(qǐng)專利可能會(huì)影響專利權(quán)的獲得。專利申請(qǐng)最佳時(shí)機(jī)，應(yīng)當(dāng)根據(jù)特定技術(shù)成果的具體情況，充分考慮競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手目前的狀況，特別是研究相同發(fā)明創(chuàng)造的可能。

時(shí)間布局的規(guī)劃因素應(yīng)包括內(nèi)部研發(fā)進(jìn)度和生產(chǎn)進(jìn)度、外部技術(shù)周期和產(chǎn)品周期，還應(yīng)包括專利申請(qǐng)過(guò)程中的各類時(shí)間節(jié)點(diǎn)和寬限期等因素，在此基礎(chǔ)上綜合規(guī)劃專利申請(qǐng)?zhí)峤粫r(shí)限，能實(shí)現(xiàn)對(duì)產(chǎn)品的最大保護(hù)期限，還可以達(dá)到隱藏自身研發(fā)動(dòng)向、迷惑競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的效果。

（4）空間布局規(guī)劃

專利的保護(hù)具有地域性，這決定了從空間角度對(duì)專利布局進(jìn)行規(guī)劃的重要性。“產(chǎn)品出口，專利先行”是多年來(lái)我國(guó)企業(yè)在對(duì)外貿(mào)易中得出的經(jīng)驗(yàn)與教訓(xùn)，然而由于專利申請(qǐng)和維護(hù)的成本，專利布局的地域并不是多多益善，選擇在哪些國(guó)家申請(qǐng)專利，從根本上說(shuō)取決于占領(lǐng)市場(chǎng)的需要。

為了平衡專利申請(qǐng)成本和專利保護(hù)效果，地域布局應(yīng)主要從商業(yè)角度出發(fā)進(jìn)行評(píng)估，在市場(chǎng)人員、法務(wù)人員和經(jīng)營(yíng)管理人員的共同參與下，綜合考慮產(chǎn)品出口意向、產(chǎn)品市場(chǎng)分布等商業(yè)因素、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手地域分布情況及業(yè)內(nèi)訴訟多發(fā)地情況，從專利申請(qǐng)地區(qū)角度為創(chuàng)新點(diǎn)專利布局提出建議。

易于被競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手模仿的創(chuàng)新點(diǎn)，可在主要生產(chǎn)國(guó)和市場(chǎng)國(guó)進(jìn)行專利布局，從而保護(hù)本公司產(chǎn)品在生產(chǎn)和銷售過(guò)程中不受侵害，確保企業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)力；而對(duì)于比較重要且相對(duì)較難被模仿的創(chuàng)新點(diǎn)，可在競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手所在地進(jìn)行布局，形成技術(shù)儲(chǔ)備性布局，以對(duì)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的研發(fā)進(jìn)行限制，也可在未來(lái)可能的商業(yè)博弈中增加己方的籌碼。

三、結(jié)語(yǔ)

綜上所述，本文結(jié)合“某適航驗(yàn)證關(guān)鍵技術(shù)”專利挖掘與布局規(guī)劃項(xiàng)目的過(guò)程，對(duì)專利規(guī)劃工作各階段的主要工作內(nèi)容和目標(biāo)進(jìn)行詳細(xì)闡述，明確了專利人員、技術(shù)人員在過(guò)程中承擔(dān)的角色和責(zé)任，在整個(gè)專利挖掘和布局規(guī)劃過(guò)程中相輔相成、缺一不可，只有通力配合、緊密合作，才能確保企業(yè)技術(shù)研發(fā)中的技術(shù)創(chuàng)新能夠被有效的轉(zhuǎn)化為專利布局，使專利布局在今后的技術(shù)研發(fā)和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中為企業(yè)真正起到保駕護(hù)航的作用，提高企業(yè)的核心競(jìng)爭(zhēng)力。