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        Pt/α-Al2O3表面氫氣的吸附、解離和傳質(zhì)的計算*

        2021-02-25 07:52:26李建飛吳亞云付笑盈周仕學(xué)
        功能材料 2021年1期
        關(guān)鍵詞:傳質(zhì)溢流氫氣

        李建飛,吳亞云,付笑盈,王 冰,周仕學(xué)

        (山東科技大學(xué) 化學(xué)與生物工程學(xué)院,山東 青島 266590)

        0 引 言

        氫化反應(yīng)通常需要添加催化劑才能有效地進行。大多催化加氫機理涉及到氫氣解離傳質(zhì)過程[1-3]。吸附在催化劑上的氫氣分子會在活性位點發(fā)生解離然后傳質(zhì)到另一活性位點與被催化劑活化了的烯、炔進行加氫反應(yīng)[4-6]。氫的解離和傳質(zhì)過程在催化加氫中起著重要的作用。氫解多發(fā)生于貴金屬上,取決于貴金屬的性質(zhì)和狀態(tài),而氫的傳質(zhì)轉(zhuǎn)移過程則發(fā)生于載體的表面,與載體表面的性質(zhì)有著密切的關(guān)系[7]。

        許多研究氫的溢流和傳質(zhì)的方法都取得了一定的成果,Triwahyono等[8]研究了氫氣在MoO3和Pt/MoO3的吸附動力學(xué)。研究結(jié)果表明,MoO3很難解離和吸附氫,而Pt/MoO3吸附的氫能夠達到MoO3的200倍。原因在于氫氣在Pt原子上發(fā)生吸附、解離和溢流。Zhan等[9]用套層的ZIF-67@ZIF-8納米立方塊研究了氫的溢流和傳質(zhì)現(xiàn)象,通過調(diào)控不同厚度ZIF-8(0-50 nm)的殼層來直接探測氫傳質(zhì)的距離,他們不僅證明了氫的溢流傳質(zhì)距離,還為ZIF中的氫的溢流和傳質(zhì)提供了直接證據(jù)。Pt/Al2O3是工業(yè)中常用的加氫催化劑,研究其結(jié)構(gòu)以及與氫之間的相互作用對指導(dǎo)工業(yè)生產(chǎn)有重要作用。Li等[10]建立了Pt/γ-Al2O3異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)模型,并通過密度泛函理論(DFT)計算和分子動力學(xué)模擬(MD)進行了研究,結(jié)果表明,由于Pt和γ-Al2O3晶格失配,Pt原子與γ-Al2O3(1 1 0)載體之間的相互作用強度隨著Pt尺寸的減小而增加。Karim等[11]通過實驗結(jié)合理論計算比較了H在Pt/γ-Al2O3上和Pt/TiO2上的溢出傳質(zhì)效率,結(jié)果表明,與Pt/TiO2相比,γ-Al2O3上的H傳質(zhì)效率十分緩慢,該結(jié)論為探索多相催化提供了理論依據(jù)。Zhang等[12]研究了氫在α-Al2O3(0 0 0 1)/α-Cr2O3(0 0 0 1)界面上的吸附和相互作用,發(fā)現(xiàn)界面處的氫的滲透更有效。

        學(xué)者多研究Pt/γ-Al2O3,而忽略了Al2O3催化劑本身常含有一定比例的α-Al2O3以及高溫下Al2O3的晶相轉(zhuǎn)變。催化劑中的α-Al2O3與Pt、H2之間的復(fù)雜相互作用也是值得探究的問題。本文基于第一性原理,在考慮到計算量的前提下,以Pt單原子和Pt4團簇作為研究對象,探究了Pt與α-Al2O3之間的相互作用、Pt的不同狀態(tài)對H溢出的影響以及α-Al2O3表面H的傳質(zhì)。研究結(jié)果對探究氫氣在載體催化劑上的傳質(zhì)機理,設(shè)計和改良加氫催化劑有著重要的意義。

        1 計 算

        DFT計算是由CASTEP軟件包完成的(由深圳超算中心提供軟件包與計算)[13]。采用超軟贗勢[14],并通過廣義梯度近似(GGA)進行結(jié)構(gòu)優(yōu)化,采用PBE泛函進行電子關(guān)聯(lián)[15]。為保證計算精度,幾何優(yōu)化的能量收斂容差,最大外應(yīng)力和最大內(nèi)應(yīng)力分別為1×10-5eV / atm,0.3 eV/nm和0.05 GPa,最大位移為0.0001 nm。使用能量截斷為500 eV,使用Monkhorst-Packscheme方法[16],原胞k點數(shù)為3×3×2。計算均考慮自旋極化,涉及到表面計算的k點收斂性測試結(jié)果為2×2×1。

        經(jīng)過DFT計算,其幾何優(yōu)化結(jié)構(gòu)如圖1所示。α-Al2O3(0 0 0 1)的晶格參數(shù)為0.961×0.961×1.262 nm,結(jié)構(gòu)模型采用2.0 nm真空層的(2×2×1)超胞減少鄰近的原子團簇之間的相互作用,避免由周期性邊界條件引起的晶面間的相互作用。α-Al2O3(0 0 0 1)表面是最穩(wěn)定的表面,最外面的表層有3個不同的終端面[17]。為了滿足電荷中性、化學(xué)計量平衡和零偶極矩,表面應(yīng)終止在鋁原子單層[18]。在這項研究中,α-Al2O3的底部4層被固定,上面9層被弛豫。

        圖1 α-Al2O3 (0 0 0 1)的模擬結(jié)構(gòu)(Al-1表示第一層的Al原子,Al-2表示第二層的Al原子,Al-3表示第三層的Al原子)Fig 1 Simulation structure of α-Al2O3 (0 0 0 1) (Al-1 represents the Al atoms in the first layer, Al-2 represents the Al atoms in the second layer, and Al-3 represents the Al atoms in the third layer)

        將H2分子放到1.0×1.0×1.0 nm的盒子里進行幾何結(jié)構(gòu)優(yōu)化,其結(jié)構(gòu)優(yōu)化沒有任何約束,截斷能為260 eV,k點數(shù)為1×1×1,其余參數(shù)和α-Al2O3結(jié)構(gòu)優(yōu)化參數(shù)保持一致。Pt4團簇的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)為正四面體,將Pt4團簇放到1.5×1.5×1.5 nm的盒子里進行幾何結(jié)構(gòu)優(yōu)化,截斷能為500 eV,k點數(shù)為1×1×1,其余參數(shù)和α-Al2O3結(jié)構(gòu)優(yōu)化參數(shù)保持一致。

        Pt原子和Pt4團簇在α-Al2O3(0 0 0 1)表面的吸附能Ead(Pt)是通過以下公式來計算[10]:

        Ead(Pt)=EPt(Pt4)/α-Al2O3-Eα-Al2O3-EPt(Pt4)

        其中EPt(Pt4)/α-Al2O3表示Pt(Pt4)/ α-Al2O3體系的總能量;Eα-Al2O3表示α-Al2O3體系的總能量;EPt(Pt4)表示Pt單原子或Pt4團簇的總能量

        2 結(jié)果與討論

        2.1 Pt原子和Pt4團簇在α-Al2O3(0 0 0 1)表面的吸附

        經(jīng)過幾何優(yōu)化后,Pt原子和Pt4團簇在α-Al2O3(0 0 0 1)表面的穩(wěn)定吸附構(gòu)型如圖2所示。在清潔的α-Al2O3(0 0 0 1)表面,我們嘗試計算了Pt原子和Pt4團簇在α-Al2O3(0 0 0 1)表面所有可能的吸附構(gòu)型。最穩(wěn)定的構(gòu)型是Pt原子在Al-3原子上方相鄰兩個O原子的橋位上與兩個O成鍵,Pt4正四面體團簇的3個Pt原子分別在Al-2原子上方相鄰3個O原子的頂位上成鍵。Pt-O的鍵長在0.22 nm左右(圖2(b)),Pt單原子和Pt4團簇吸附在表面的吸附能分別為-2.48和-3.16 eV。這一過程發(fā)生電荷的轉(zhuǎn)移,這是一個穩(wěn)定的化學(xué)吸附過程。

        圖2 幾何優(yōu)化后的Pt(Pt4)/α-Al2O3Fig 2 Geometrically optimized Pt (Pt4)/ α-Al2O3

        2.2 H2在Pt/α-Al2O3表面的吸附

        H2分子在金屬Pt表面的吸附和解離是一個無能壘的主動過程。在α-Al2O3表面的O橋位上,單原子Pt有很高的活性,能夠吸附解離一個H2分子形成PtH2。這期間發(fā)生了電荷轉(zhuǎn)移,Pt失去電子,H得電子,形成Pt-H鍵,鍵長為0.1556、0.1565 nm(圖3)。我們再次在距離Pt原子0.2 nm的位置添加一個H2分子,優(yōu)化后的H2分子會被排斥開0.3 nm以上,說明此時的Pt原子對H2分子不吸附或為極弱的物理吸附,Pt原子喪失了催化能力。Pt4團簇能吸附解離多個H2分子,吸附1個H2分子時,Pt-H鍵的鍵長為0.1577、0.1574 nm,對比Pt單原子上的Pt-H鍵,鍵長稍微增加,鍵能會有所減弱。Pt4團簇吸附的H2分子越多,溢流能壘越低,當(dāng)氫氣的覆蓋度十分低時,Pt4團簇吸附解離1個H2分子,此時有最大的溢流能壘。

        圖3 幾何優(yōu)化后的2H/Pt(Pt4)/α-Al2O3Fig 3 Geometrically optimized 2H /Pt(Pt4)/α-Al2O3

        采用單點能計算Band structure、DOS(PDOS)、Electron density difference和Population analysis分析。α-Al2O3到Pt/α-Al2O3再到2H/Pt/α-Al2O3的能帶經(jīng)歷了0.477 eV到0.032 eV再到0.491 eV的轉(zhuǎn)變,其導(dǎo)電性質(zhì)由絕緣體到半導(dǎo)體再到絕緣體的轉(zhuǎn)變,說明Pt原子的存在改變了其導(dǎo)電性,形成類似半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。H2在Pt原子上吸附后解離形成Pt-H鍵,形成了類似氫化物負載在α-Al2O3(0 0 0 1)表面的體系,恢復(fù)了α-Al2O3的絕緣體性質(zhì)。這與DOS的結(jié)果一致,如圖4所示。Pt的存在,使α-Al2O3(0 0 0 1)表面的體系能量區(qū)間整體向低能量區(qū)移動,H的存在又逐漸恢復(fù)原來體系的能量區(qū)間(圖4(a),圖4(c))。在費米能級附近可以看出,Pt-O之間的強相互作用,主要是Pt原子的S和d軌道與O原子的p軌道之間的雜化相互作用,Pt-H之間的強相互作用主要是Pt的d軌道和H的s軌道的雜化相互作用。從PDOS圖可以看出,在費米能級附近,相比于Pt單原子中的Pt的d軌道,費米能級處Pt4中的Pt的態(tài)密度的強峰減弱,H的s軌道在費米能級附近的態(tài)密度的峰明顯減弱或消失。綜上分析,在Pt4中的Pt和H原子之間的相互作用被弱化。

        圖4 α-Al2O3體系的DOS和PDOSFig 4 DOS and PDOS results of α-Al2O3 system

        圖5是Pt(Pt4)/α-Al2O3和2H/Pt(Pt4)/α-Al2O3的差分電荷密度圖。圖5中灰色代表電子的富集,而黑色則代表電子的缺失。在差分電荷密度圖上,從圖(a)和圖(b)可以看到Pt周圍電子缺失,說明在吸附過程中Pt原子失去電子,α-Al2O3表面得到電子。由Muliken電荷布居分析可知,在吸附過程中,α-Al2O3表面是電子受體,與表面接觸的Pt原子以及團簇是電子供體,得到少量的正電荷。從圖5(c)和圖5(d)可以看出,在H2分子穩(wěn)定吸附過程中解離的兩個H原子明顯與Pt原子的電子云重疊。Pt作為電子供體,Pt/α-Al2O3表面H原子分別得到-0.15e和-0.13e的電荷,Pt4/α-Al2O3表面H原子則得到-0.06e和-0.12e的電荷。這也說明在Pt/α-Al2O3體系中Pt-H之間的相互作用比Pt4/α-Al2O3體系中的Pt-H之間的相互作用更大。即Pt4團簇形成的電子局域環(huán)境有利于H2分子解離后的溢流過程,Pt原子在此過程中還起著傳輸電子的作用。

        圖5 Pt/Pt4/α-Al2O3表面(a,b)和2H/Pt(Pt4)/α-Al2O3表面(c,d)的差分電荷密度圖Fig 5 The differential charge density maps of Pt/(Pt4)/α-Al2O3 surface (a,b) and 2H/Pt(Pt4)/α-Al2O3 surface(c,d)

        2.3 H在Pt(Pt4)/α-Al2O3表面的溢流和傳質(zhì)

        Pt原子上的H原子溢流到α-Al2O3表面上的O原子的能壘很高,約1.46 eV,如圖6所示,C→D過程吸熱,說明單原子Pt極其容易吸附解離H2形成穩(wěn)定的類氫化物,且H難以溢流。Pt4團簇中Pt-Pt之間的強相互作用削弱了Pt-H鍵,H2分子在Pt4團簇上容易解離和溢流, C→E過程自發(fā)放熱,且能壘約為0.70 eV。H原子不會 與表面Al原子成鍵,會溢流到表面的氧上形成-OH,H在相鄰氧位上進行傳質(zhì)。

        圖6 H在Pt(Pt4)/α-Al2O3表面的溢流過程Fig 6 The overflow process of H on the surface of Pt(Pt4)/α-Al2O3

        為探討氧化鋁表面氫傳質(zhì)的機理,我們對α-Al2O3的表面氫傳質(zhì)的能量變化進行了計算,以此來探究氫傳質(zhì)的趨勢。在切出來的穩(wěn)定氧化鋁表面,Al原子上的H原子不能穩(wěn)定存在,我們把H放到Al原子上,優(yōu)化后H原子跑到Al原子附近的O原子上形成-OH,這說明H原子不容易與Al原子成鍵,而是傾向于與氧原子結(jié)合,這與以前的理論很好的符合[7]。

        計算以-OH作為中間體,研究了在α-Al2O3清潔表面上H傳質(zhì)的能量變化。如圖7所示,可以看出,清潔表面上,A→B、A→C和A→D的能壘依次降低,這表明,表面的Al原子對H的傳質(zhì)有著不利的影響,最外層的Al原子對氫傳質(zhì)有強阻礙的作用,在這種不可還原性的氧化物金屬穩(wěn)定的表面,H傳質(zhì)效率很低。

        圖7 H在α-Al2O3表面上的傳質(zhì)過程Fig 7 Mass transfer of H on α-Al2O3 surface

        3 結(jié) 論

        本文根據(jù)第一性原理,計算Pt單原子以及Pt4團簇在α-Al2O3(0 0 0 1)表面的穩(wěn)定吸附構(gòu)型,以及H2在其復(fù)合體系的吸附、解離和傳質(zhì)過程。結(jié)果表明,Pt原子的穩(wěn)定吸附位點在兩個O原子的橋位,而Pt4團簇的穩(wěn)定吸附位點則是3個Pt原子吸附在O原子的頂位。α-Al2O3的表面吸附的Pt原子的活性很高,形成類氫化物,H不容易脫離溢流。對于Pt4團簇,Pt-Pt之間的強相互作用削弱了Pt-H鍵,氫氣吸附解離后容易溢流。此外,H不與表面飽和金屬原子成鍵,而是遷移到穩(wěn)定的O原子的位置上形成-OH,表面Al原子的存在對H的傳質(zhì)有著強阻礙作用。研究結(jié)果對理解氫溢流催化機理和設(shè)計加氫催化劑的結(jié)構(gòu)起著非常重要的作用,并促進了對多相催化機理的認識。

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