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        電化學(xué)水處理設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)研究

        2020-12-25 08:40:49解鵬高社民徐山
        裝備維修技術(shù) 2020年18期
        關(guān)鍵詞:電流密度流速

        解鵬 高社民 徐山

        摘要:為了更好的優(yōu)化電化學(xué)水處理設(shè)備運(yùn)行工藝,提高處理效率。針對電化學(xué)水處理設(shè)備主要工藝參數(shù)板間距、電流密度、流速對循環(huán)水除垢、殺菌等影響,確定最優(yōu)電化學(xué)水處理設(shè)備結(jié)構(gòu)參數(shù)。結(jié)果表明,在實(shí)驗(yàn)工況條件下,板間距6-12CM,電流密度60-100A/m2,流速2-5m/s,電化學(xué)水處理設(shè)備結(jié)構(gòu)參數(shù)最優(yōu),處理效率更高。

        關(guān)鍵詞:電化學(xué)水處理設(shè)備;板間距;電流密度;流速

        1 引言

        近年來隨著電化學(xué)技術(shù)的不斷突破推廣,其在工業(yè)循環(huán)水處理中阻垢、除垢、殺菌、防腐效果明顯,得到了人們廣泛的關(guān)注。電化學(xué)水處理設(shè)備無需藥劑,使用方便,成本低廉,維護(hù)容易,在工業(yè)循環(huán)水處理中迅速推廣應(yīng)用,但目前市場上各類產(chǎn)品參差不齊,處理效果不明。本文通過實(shí)驗(yàn)研究,得出最優(yōu)電化學(xué)水處理設(shè)備結(jié)構(gòu)參數(shù),確定最優(yōu)運(yùn)行工藝,提高電化學(xué)水處理設(shè)備處理效率,實(shí)現(xiàn)更高效運(yùn)行,節(jié)約運(yùn)行成本。

        2 不同的板間距對除垢、殺菌的影響

        以某光伏企業(yè)工業(yè)循環(huán)水冷卻水為研究對象,在相同陽極板面積、相同電流密度下,分別在板間距2cm、4cm、6cm、8 cm 、10cm、 12 cm、14cm的條件下,通過電化學(xué)氧化小試試驗(yàn),電解2小時(shí)考察不同板間距對除垢、殺菌的影響。

        2.1 板間距對除垢效果的影響

        通過檢測水中鈣硬度的降低,判斷不同板間距對除垢效果的影響。

        通過上圖可以看出不同的板間距對鈣硬度的去除率不同,板間距越小,離子遷移距離縮短,加速碳酸鈣沉積,鈣硬度去除率越高,除垢效果越好。反之,板間距越大鈣硬度去除率越小,除垢效果越差。在板間距6-12cm時(shí)鈣硬度的去除率在45-50%之間。

        2.2 板間距對殺菌效果的影響

        通過檢測水中菌落總數(shù)的降低,判斷不同板間距對殺菌效果的影響。

        通過上圖可以看出不同的板間距對菌落總數(shù)的去除率不同。相同的電流強(qiáng)度極板之間產(chǎn)生的羥自由基HO.、臭氧03、雙氧水H202等強(qiáng)氧化性物質(zhì)不變,當(dāng)板間距越小,極板之間處理水量減少電化學(xué)作用強(qiáng)度增加,菌落總數(shù)去除率越高,殺菌效果越好。反之,板間距越大菌類總數(shù)去除率越小。在板間距6-10cm時(shí)菌落總數(shù)的去除率在60-70%之間。

        板間距通過影響水垢離子遷移的距離,從而影響水垢的形成。根據(jù)電化學(xué)水處理設(shè)備的實(shí)際應(yīng)用,板間距越大,清垢操作越方便,清垢頻率越長,但設(shè)備體積增大,處理效率低除垢效果差。相反,板間距越小,清垢操作技術(shù)要求越高,清垢頻率越短,且同樣極板數(shù)量單位處理水量降低,但處理效率高。綜合考慮除垢效果、殺菌效果及處理水量、操作維護(hù)等,得出板間距在6-12cm為最佳工藝結(jié)構(gòu)。

        3 不同電流密度對除垢、殺菌的影響

        以某光伏企業(yè)工業(yè)循環(huán)水冷卻水為研究對象,在相同陽極板面積、相同板間距下,分別在電流密度20A/m2、40A/m2、60A/m2、80A/m2、100A/m2、120A/m2、140A/m2的條件下,通過電化學(xué)氧化小試試驗(yàn),電解一定時(shí)間考察不同電流密度對除垢、殺菌的影響。

        3.1 電流密度對除垢效果的影響

        通過檢測水中鈣硬度的降低,判斷不同電流密度對除垢效果的影響。

        通過上圖可以看出不同的電流密度對鈣硬度的去除率不同。隨著電流密度的逐漸增大,促使反應(yīng)速率加快,使碳酸鈣沉淀增多,鈣硬度去除率升高。反之,電流密度越小,反應(yīng)速率減緩,碳酸鈣沉淀減少,鈣硬度去除率降低。電流密度在60-100A/m2時(shí)鈣硬度的去處率在60-80%之間。

        3.2 電流密度對殺菌效果的影響

        通過檢測水中菌落總數(shù)的降低,判斷不同電流密度對殺菌效果的影響。

        通過上圖可以看出不同的電流密度對菌落總數(shù)的去除率不同。電流密度越大,參與電化學(xué)反應(yīng)的電子增多,電場對細(xì)胞膜的電擊穿作用,對細(xì)胞代謝功能的電滲和電泳作用增強(qiáng),對菌落總數(shù)去除率越高,殺菌效果越好。反之,電流密度越小,菌落總數(shù)去處率越小。隨著電流密度的不斷增大,菌落總數(shù)去除率先快速升高,當(dāng)電流密度為100A/m2后處理率逐步減緩,由此看出,不是電流密度越大越好,過高的電流可能導(dǎo)致能量的損失。電流密度在60-100A/m2時(shí)菌落總數(shù)的去處率在60-70%之間。

        電流密度決定電化學(xué)反應(yīng)速率,反應(yīng)速率增強(qiáng)碳酸鈣析出速率加快,殺菌效果增強(qiáng)。根據(jù)電化學(xué)水處理設(shè)備的實(shí)際應(yīng)用,電流密度越大,極板使用壽命越短。電流密度越小,極板使用壽命越長。綜合考慮除垢效果、殺菌效果及電極板使用壽命、運(yùn)行費(fèi)用等,得出電流密度在60-100A/m2為最佳工藝結(jié)構(gòu)。

        4 不同流速下,電化學(xué)水處理設(shè)備對除垢、吸垢的影響

        以某光伏企業(yè)工業(yè)循環(huán)水冷卻水為研究對象,在相同陽極板面積、相同板間距、相同電流密度下,分別在流速2m/s、5m/s、7m/s、9m/s、的條件下,通過電化學(xué)氧化小試試驗(yàn),電解一定時(shí)間考察不同流速對除垢、吸垢的影響。

        *極板吸附硬度為電解實(shí)驗(yàn)結(jié)束后極板上析出碳酸鈣質(zhì)量折合成硬度值。

        *水流沖走硬度為電解實(shí)驗(yàn)結(jié)束后降低的硬度指標(biāo)與極板上析出碳酸鈣質(zhì)量折合成硬度差值。

        通過上圖可以看出流速對鈣硬度的去除率影響很小,當(dāng)水樣以循環(huán)方式通過反應(yīng)器時(shí),如果處理時(shí)間一定,水樣在反應(yīng)器中的流速與處理效果影響很小。電化學(xué)反應(yīng)發(fā)生迅速,流速在2-9m/s之間的改變,不影響電化學(xué)反應(yīng)速率。但流速增加吸附在極板上的碳酸鈣質(zhì)量減少,隨水流漂浮在系統(tǒng)中的軟垢增多,不利用電化學(xué)設(shè)備從系統(tǒng)中取出碳酸鈣沉淀。但流速小,停留時(shí)間長,相同處理水量時(shí),電化學(xué)設(shè)備體積增大。

        根據(jù)電化學(xué)水處理設(shè)備的實(shí)際應(yīng)用,流速過快,水流沖刷力大,極板上碳酸鈣析出越少,流速慢,極板上碳酸鈣析出多,但設(shè)備處理水量減少。綜合考慮極板吸附碳酸鈣量與水流沖走碳酸鈣量,得出電流密度在2-5m/s為最佳工藝結(jié)構(gòu)。

        結(jié)論

        針對電化學(xué)水處理設(shè)備在工業(yè)循環(huán)冷卻水的應(yīng)用,設(shè)計(jì)在不同工藝參數(shù)下,電化學(xué)水處理設(shè)備對除垢、殺菌的處理能力,得出以下結(jié)論:

        1. 板間距越大,電化學(xué)水處理設(shè)備對除垢、殺菌效果越差,綜合考慮實(shí)際應(yīng)用,確定板間距在6-12cm之間為電化學(xué)水處理設(shè)備的最優(yōu)工藝選擇。

        2. 電流密度越大,反應(yīng)速率越快,但當(dāng)電流密度到達(dá)一定時(shí),產(chǎn)生電子過剩,反而造成能力損失,通過實(shí)驗(yàn)對除垢、殺菌的影響及實(shí)際應(yīng)用成本,確定電流密度在60-100A/m2之間為電化學(xué)水處理設(shè)備的最優(yōu)工藝選擇。

        3. 流速的快慢與處理器的處理量有關(guān),相同的處理時(shí)間、處理水量,水樣在處理器中的總反應(yīng)時(shí)間相同。但流速過快,碳酸鈣沉淀在極板上的附著減少,處理器去處的沉淀物減少。綜合考慮實(shí)際應(yīng)用情況,確定流速在2-5m/s之間為電化學(xué)水處理設(shè)備的最優(yōu)工藝選擇。

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