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        濺射鍍膜技術(shù)與運用淺談

        2020-11-20 22:55:26張志群任瑞
        裝備維修技術(shù) 2020年5期

        張志群 任瑞

        摘要: 本文介紹了濺射鍍膜的概念、使用濺射鍍膜的優(yōu)點與特性、半導(dǎo)體行業(yè)上運用。從濺射鍍膜知識切入點談?wù)摿藶R射的離子、濺射閾值、濺射率,濺射在肖特基二極管制造工藝上的運用。

        關(guān)鍵詞:濺射;磁控濺射;靶材;濺射特性;肖特基二極管

        1基本概念

        1.1所謂“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶材)、使固體原子(或分子)從表面射出的現(xiàn)象。

        1.2濺射原子:由固體表面(靶材)射職的粒子,大多呈原子狀態(tài),常稱為濺射原子。

        1.3入射離子:用于轟擊靶的荷能粒子可以是電子、離子或中性粒子,因為離子在電場下易于加速并獲得所需動能,因此大多采用離子作為轟擊粒子。該粒子又稱入射離子。

        1.4離子濺射鍍膜:由于直接實現(xiàn)濺射的機構(gòu)是離子,所以這種鍍膜技術(shù)又稱為離子濺射鍍膜或淀積。

        1.5磁控濺射鍍膜:磁控濺射鍍膜是濺射中的一種方式,高真空腔室中通入中性氬氣,通過靶材陰極引入磁場、高壓電場,氬氣在高壓下電離形成Ar?離子與eˉ,二次電子在磁場與電場約束作用下,循環(huán)碰撞中性氬氣,得到高密度的等離子體(Ar?),等離子體在負壓情況下高速撞擊陰極靶材,通過動能轉(zhuǎn)換把靶材原子或分子撞出飛濺到基體上形成薄膜。

        1.6刻蝕:與鍍膜相反,利用濺射也可以進行贏得蝕。淀積和刻蝕是濺射過程的兩種應(yīng)用。

        2使用濺射鍍膜的優(yōu)點

        2.1任何物質(zhì)均可以濺射,尤其是高熔點、低蒸氣壓元素和化合物。

        不論是金屬、半導(dǎo)體、絕緣體、化合物和混合物等,只要是固體,不論是塊狀、粒狀的物質(zhì)都可以作為靶材。

        由于濺射氧化物等絕緣材料和合金時,幾乎不發(fā)生分解和分餾,所以可用于制備與靶材料組分相近的薄膜和組分均勻的合金膜,乃至成分復(fù)雜的超導(dǎo)薄膜。

        此外,采用反應(yīng)濺射法還可制得與靶材完全不同的化合物薄膜,如氧化物、氮化物、碳化物和硅化物等。

        2.2 濺射射與基片之間的附著性好。

        2.2.1 濺射原子的能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個數(shù)量級,因此,高能粒子淀積在基片上進行能量轉(zhuǎn)換,產(chǎn)生較高的熱能,增強了濺射原子與基板的附著力。

        2.2.2 一部分高能量的濺射原子將產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象,在基片上形成一層濺射原子與基板材料相互“混溶”的所謂的擴散層。

        2.2.3在濺射粒子的轟擊過程中,基片始終處于等離子區(qū)中被清洗和激活,清除了附著不牢的淀積原子,凈化且活化基片表面。因此,使得濺射膜層與基片的附著力大增強。

        2.3? 膜厚可控性和重復(fù)性好。

        由于濺射鍍膜時可通過控制靶電流來控制膜厚。所以濺射鍍膜的膜厚可控性和多次濺射的膜厚再現(xiàn)性好,能夠有效地鍍制預(yù)定厚度的薄膜。

        3 濺射特性

        3.1 濺射閾值:是指使靶材原子發(fā)生濺射的入射離子所必須具有的最小能量。不同的入射離子,它們的濺射閾值變化很小;而對于不同靶材,濺射閾值的變化比較明顯。即濺射閾值與離子質(zhì)量之間無明顯依賴關(guān)系,而主要取決于靶材料。對處于周期表中同一周期元素(靶材料),濺射閾值隨著原子序數(shù)增加而減小。

        對絕大多數(shù)金屬來說,濺射閾值為10-30eV,相當于升華熱的4倍左右。(如表3-1)

        3.2 濺射率及影響濺射率的因素

        濺射率是描述濺射特性的一個最重要物理參量。它表示正離子轟擊靶陰極時,平均每個正離子能從陰極上打出的原子數(shù)。又稱濺射產(chǎn)額或濺射系數(shù),常用S表示。濺射率與入射離子的種類、能量、入射角度及靶材的類型、晶格結(jié)構(gòu)、表面狀態(tài)、升華熱大小等因素有關(guān),單晶靶材還與表面取向有關(guān)。

        3.2.1影響濺射率的因素-靶材料

        濺射率與靶材料種類的關(guān)系可用靶材料元素在周期表中的位置來說明。在相同條件下,用同一種離子對不同元素的靶材料轟擊,得到不同的濺射率,并且還發(fā)現(xiàn)濺射率呈周期性變化,其一般規(guī)律是:濺射率隨靶材元素原子序數(shù)增加而增大。

        3.2.2影響濺射率的因素-入射離子能量

        入射離子能量大小對濺射率影響顯著。當入射離子能量高于某一個臨界值(濺射閾值)時,才發(fā)生濺射。

        圖3-3為濺射率S與入射離子能量E之間的典型關(guān)系曲線。曲線可分為三個區(qū)域:

        S正比于E2:ET

        S正比于E:500eV

        S正比于E1/2:1000eV

        3.3.影響濺射率的因素-入射離子種類

        濺射率與入射離子種類的關(guān)系:

        3.3.1依賴于入射離子的原子量,入射離子的原子量越大,則濺射率越高。

        3.3.2與入射離子的原子序數(shù)有關(guān),呈現(xiàn)出隨離子的原子序數(shù)周期性變化的關(guān)系。這和濺射率與靶材料的原子序之間存在的關(guān)系相類似。

        3.3.3在周期表每一橫排中,凡電子殼層真滿的元素作為入射離子時,就有最大的濺射率。因此,惰性氣體的濺射率最高。

        一般情況下,入射離子多采用惰性氣體,同時還能避免與靶材料起化學(xué)反應(yīng)。通常氣用99.99%以上的氬氣為工藝氣體。

        4? 濺射運用到肖特基二極管上的經(jīng)驗

        4.1肖特基二極管勢壘層上的運用

        肖特基二極管的勢壘層中需要在硅片氧化物上淀積一層100nm左右的勢壘金屬層后加溫硅化,最終形成類似PN結(jié)的一種肖特基結(jié),通常此種材料使用Ni與Pt的合金,利用濺射后形成的膜厚致密性高粘附性強等優(yōu)點,其肖特基二極管正向?qū)妷涸?80mV至330mV間,比其它普通硅鍺二極管0.5-0.7V電壓有著明顯的能耗低、快速響應(yīng)都優(yōu)點。

        4.2頂層正面與背面金屬的運用

        濺射的也同樣運用的肖特基正面與背面金屬上面,均勻性保證在3%以下,重復(fù)性在2%內(nèi),在與正面硅化物后金屬及背面經(jīng)過減薄后的硅片間都有著高于熱蒸發(fā)的附著力,成膜致密不易脫金。

        5.結(jié)束語

        濺射鍍膜的運用相當廣泛,在半導(dǎo)體制程中各種器件都需要用到濺射膜,因此分享此篇文章為廣大學(xué)者及同行更好的了解濺射的相關(guān)知識,并很好的學(xué)習(xí)掌握運用到今后的學(xué)習(xí)工作中。

        參考文獻:

        [1] 方應(yīng)翠 真空鍍膜原理與技術(shù) 北京:科學(xué)出版社,2014

        [2] 張以忱 真空鍍膜技術(shù)與設(shè)備 北京:冶金工業(yè)出版社,2014

        [3] 肖劍榮 磁控濺射制備氮化銅薄膜的結(jié)構(gòu)與性能 北京:中國水利水電出版社,2019

        作者簡介:張志群(1987-) 男 杭州立昂微電子股份有限公司 工程師

        任瑞(1989-)男 杭州立昂微電子股份有限公司 工程師

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