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        利用等離子體熱處理方法在Zr金屬表面直接制備Zr3O-ZrC/石墨烯表面強化層

        2020-08-24 02:26:36成亦飛劉大博周海濤羅炳威
        航空材料學報 2020年4期
        關鍵詞:金屬表面壓痕等離子體

        成亦飛, 羅 飛, 劉大博, 周海濤, 田 野, 羅炳威

        (中國航發(fā)北京航空材料研究院,鋼與稀貴金屬研究所,北京 100095)

        Zr是一種難熔活性金屬元素,金屬Zr及化合物因其具有高熔點、耐腐蝕、易加工等特點展現(xiàn)出優(yōu)異的物理化學性能,成為核工業(yè)、化學工業(yè)和航空工業(yè)中重要部件的關鍵材料[1-3]。然而,Zr金屬還存在這些缺點,即低表面硬度、低模量和高的摩擦因數(shù)。因此,在特殊領域的應用中,還需要進一步優(yōu)化其表面狀態(tài)[4]。在金屬Zr上進行表面改性的方法主要為沉積一層高硬度的表面涂層,如ZrC[5]。目前,ZrC涂層的主要制備方法有濺射沉積法、金屬有機物化學氣相沉積法、脈沖激光沉積法和化學氣相沉積法(CVD)等[6-9]。在這些方法中CVD法制得的ZrC涂層具有光滑致密,結(jié)構(gòu)均勻性好,厚度可控的優(yōu)點。在核工業(yè)中,主要應用CVD法來制備ZrC涂層。然而,常用的CVD方法需要Zr的鹵化物和含碳有機物為前驅(qū)體進行制備,Zr的鹵化物和含碳的有機物一般具有較大的毒性,且在制備過程中一般采用直接揮發(fā)Zr的鹵化物進行沉積,這樣一來就較難精確控制Zr的流量,給制備帶來一定的困難[10]。

        本研究是在Zr金屬表面上,通過等離子體熱處理的方法,將甲烷(CH4)前驅(qū)體在射頻線圈的作用下,分解為碳等離子體,通過碳等離子體和Zr金屬表面反應,生成Zr3O-ZrC/石墨烯表面增強層,一方面,生成的表面層阻止碳等離子體與內(nèi)部的Zr金屬反應,另一方面,過量的碳等離子體在Zr3O-ZrC涂層生成站立式石墨烯。因此,碳等離子體不會影響Zr金屬基底的強度,同時表面的Zr3OZrC/石墨烯層將Zr金屬的表面硬度提高了3倍。本研究通過一種簡單的熱處理工藝顯著提高了Zr合金的表面強度,對熱處理方法提高金屬表面強度具有重要的應用前景。

        1 實驗材料及方法

        本實驗利用等離子體增強氣相沉積(PECVD)設備實現(xiàn)等離子體熱處理,在Zr金屬表面獲得Zr3O-ZrC/石墨烯表面強化層。首先將Zr金屬片用砂紙進行表面拋光處理,在使用前對Zr金屬片進行清洗,清洗步驟為在丙酮、無水乙醇和去離子水中分別超聲清洗15 min?;壮暻逑礉崈艉蟠蹈?,并迅速放入PECVD設備中準備沉積。沉積過程中,首先利用真空泵實現(xiàn)設備的背底真空度在1 × 10-1Pa以下,并利用Ar氣作為保護氣體,氣體流量為150 sccm,將爐溫升溫至800 °C。其次通入CH4氣體作為碳源,氣體流量為30 sccm,工作氣壓為25 Pa,待氣壓穩(wěn)定后,關閉Ar氣保護氣。最后,啟動射頻設備,對CH4氣體進行分解,形成碳等離子體和氫等離子體,射頻功率為300 W,此時開始計時,時間為1~2 h。實驗結(jié)束后,關閉射頻設備和CH4氣體,設備自然冷卻至室溫。

        采用X射線衍射(XRD)對獲得的Zr/Zr3OZrC/石墨烯樣品進行成分和結(jié)構(gòu)的表征,X射線采用Cu靶激發(fā)的Kɑ射線,掃描的角度范圍為10°~90°。采用掃描電鏡(SEM)表征樣品的表面形貌,利用Raman光譜對表面的站立式石墨烯進行表征,激發(fā)波長為532 nm,入射功率約1 mW。利用表面硬度計對樣品的表面硬度進行表征。利用納米壓痕(分辨率為0.01 nm)對表面機械性能進行表征。

        圖1為在Zr金屬表面生長Zr3O-ZrC/石墨烯強化層的機理示意圖。如圖1上半部分所示,在之前的工作中,利用PECVD設備將工作氣體CH4分解為碳等離子體,利用金屬Ni或Cu的催化特性,成功地在金屬Ni或Cu的表面制備了站立式的石墨烯。然而,在之前的工作中,將金屬Ni或Cu換成Ti時,碳等離子體沒有直接成為站立式石墨烯,而是與Ti反應生成了TiC,并最終獲得TiC/石墨烯表面強化層。同樣地,如圖1下圖所示,當金屬換成Zr時,Zr金屬和碳等離子體反應形成了在Zr金屬表面分布均勻的Zr3O-ZrC表面強化層,隨著表面強化層的形成阻止了碳等離子體與Zr金屬的進一步反應,碳等離子體形成站立式石墨烯,最終形成Zr3O-ZrC/石墨烯表面強化層。

        圖 1 在Zr金屬表面生長Zr3O-ZrC/石墨烯強化層的機理示意圖Fig. 1 Schematic diagram of Zr3O-ZrC/graphene strengthening layer growing on Zr metal surface

        圖 2 XRD圖譜 (a)Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯樣品;(b)XRD圖譜在63°~64°間的衍射峰放大圖Fig. 2 XRD patterns (a)Zr/Zr3O-ZrC/graphene,(b)XRD patterns of Zr/Zr3O-ZrC/graphene enlarged from 63°-64°

        2 結(jié)果與分析

        利用XRD對獲得的樣品進行表征,結(jié)果如圖2所示。在圖2(a)的XRD圖譜中,同時呈現(xiàn)了金屬Zr、Zr3O、ZrC的衍射峰,其中ZrC的衍射峰晶面分別為(111)、(200)、(220)、(311)、(222)、(400),與ZrC的標準卡片(JCPDS 19-148)相對應,這說明經(jīng)過等離子體熱處理Zr金屬后,在其表面生成一層ZrC層。Zr的衍射峰分別為(100)、(002)、(101)、(102)、(110)、(103)、(112)、(004)、(002),與Zr金屬的標準卡片(JCPDS 05-0665)相對應。在圖2(a)中還觀察到Zr3O的衍射峰,分別為(110)、(002)、(111)、(112)、(300)、(113)、(302)、(004)、(222),與Zr3O的標準卡片(JCPDS 65-7450)相對應。從圖2(a)中可以觀察到,Zr3O的衍射峰與Zr的衍射峰較為接近,幾乎成一個衍射峰。為了進一步觀察Zr和Zr3O的衍射峰,對63°~64°間的衍射峰進行放大,如圖2(b)所示。從圖中可以清晰的看出,Zr3O的(113)衍射峰和Zr的(103)衍射峰分別位于63.31°和63.48°,且衍射峰較為清晰容易分辨。Zr3O衍射峰產(chǎn)生的原因有可能為,在等離子體熱處理的過程中,由于真空度僅為10-1Pa,低濃度的O原子進入Zr的晶格,形成缺氧的Zr3O表面層。

        利用SEM對Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯樣品進行表面觀察,從圖3(a)中可以看出,Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯樣品的表面有如蜂窩狀的表面形貌,其表面一層應該為站立式石墨烯,與之前的研究工作的形貌一致[11]。利用EDX能譜分析圖3(a)中區(qū)域的元素信息,如圖3(b)所示。從圖中可以看出,元素的成分主要為Zr、O和C,且其原子百分比為17.56∶2.95∶79.49,從結(jié)果中可以得出,C元素的含量較高,進一步的說明,表面有碳的沉積,結(jié)合其形貌,可以推斷表面碳為片狀的站立式石墨烯。圖3(c)為低倍的Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯掃描電鏡照片,對其進行大區(qū)域的元素分析如圖3(d)所示。從圖中可以看出,元素的成分主要Zr、O、C和小區(qū)域一致,Au元素為表面噴金導致。

        圖 3 掃描電鏡圖 (a)Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯樣品的掃描電鏡圖;(b)小區(qū)域EDX圖;(c)Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯樣品的低倍掃描電鏡圖;(d)大區(qū)域EDX圖Fig. 3 The image of SEM (a)SEM surface image of Zr/Zr3O-ZrC /graphene;(b)small area EDX pattern collected from(a);(c)low-magnification SEM image of Zr/Zr3O-ZrC /graphene;(d)large area EDX pattern collected from(c)

        為進一步確定表面站立式石墨烯的存在,利用拉曼光譜對Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯樣品進行表征,表征結(jié)果如圖4所示。從圖中可以看出有三個清晰的吸收峰,其峰位分別位于1347 cm-1,1601 cm-1和2677 cm-1,分別對應于站立式石墨烯的D峰、G峰和2D峰。這一結(jié)果和我們之前的工作相似,進一步證明表面碳層為站立式石墨烯[12]。在前人的研究工作中,對D峰、G峰和2D峰進行大量的研究和討論,其峰的形貌、位置和相對強度與站立式石墨烯的電子結(jié)構(gòu)相關[13-15]。Liu 和Gao課題組合成了層數(shù)較少的石墨烯,其G峰與2D峰的強度比接近1[16]。在本研究中,G峰與2D峰的強度比大于2,大于文獻中的強度比,這一結(jié)果表明,比較之前制備的石墨烯,本研究獲得的石墨烯層數(shù)更多。

        利用表面硬度計表征Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯和純Zr的表面硬度。為排除熱處理對表面硬度的影響,分別對純Zr進行溫度和時間相同的等離子體熱處理和非等離子體熱處理,并比較三者的硬度,其結(jié)果如圖5所示。從圖中可以看出,純Zr的表面硬度為195HV,經(jīng)過無等離子體熱處理后,純Zr的表面硬度變?yōu)?32HV,經(jīng)過等離子體熱處理后,Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯的表面硬度為639HV。經(jīng)過等離子體熱處理后,Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯的表面硬度比純Zr提升至3.3倍,比無等離子熱處理的Zr提升至1.5倍。該結(jié)果說明,通過簡單的等離子體熱處理工藝使Zr金屬表面生長Zr3O-ZrC和石墨烯層,能夠顯著地提高Zr金屬的表面硬度。

        圖 4 Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯的拉曼光譜圖Fig. 4 Raman spectroscopy of the Zr/Zr3O-ZrC/graphene.

        圖 5 金屬Zr、非等離子體熱處理金屬Zr、等離子體熱處理金屬Zr的表面硬度Fig. 5 Surface hardness values of Zr plate,Zr plated annealed without plasma and Zr plated annealed with plasma

        圖 6 Zr/Zr3O-ZrC/石墨烯的納米壓痕結(jié)果圖 (a)載荷-深度曲線;(b)硬度-深度曲線;(c)模量與深度曲線;(d)測試過程和結(jié)果示意圖Fig. 6 Nanoindentation results of Zr/Zr3O-ZrC/grapheme (a)load-displacement curve;(b)hardness-displacement curve;(c)modulus-displacement curve;(d)the illustration of the test process and results.

        利用納米壓痕對Zr3O-ZrC層和石墨烯層的表面機械性能進行進一步的研究。圖6(a)是載荷與深度的曲線圖,從圖中可以看出其最大載荷為0.85 mN,最大壓痕深度和殘留壓痕深度(塑性形變)分別為115 nm和39 nm。因此,彈性形變壓痕深度為76 nm。圖6(b)是硬度與壓痕深度的曲線圖,從圖中可以看出,曲線有一個突變點,并沒有出現(xiàn)一個平滑的曲線,與之前Ti金屬上生長TiC和石墨烯涂層的力學性能不一樣。這一現(xiàn)象的原因可能為,本研究中的石墨烯層較薄,從圖6(b)看約為30 nm(突變點),與圖6(a)的載荷曲線塑性形變深度為39 nm接近,因此,石墨烯層在Zr3OZrC層之上的厚度應該在30~39 nm范圍內(nèi)(表面起伏)。從圖6(b)中可以看出石墨烯層的最大表面硬度值為0.42 GPa,Zr3O-ZrC層的最大表面硬度值為2.65 GPa,因此,表面硬度的增加的主要貢獻應該來源于Zr3O-ZrC層。同樣地,圖6(c)中可以看出,石墨烯層的最大模量值為16.60 GPa,較之前的工作大幅提高,說明石墨烯厚度越薄,模量越大。Zr3O-ZrC層的最大模量值為54 GPa。圖6(d)為納米壓痕的測試過程和結(jié)果的示意圖,從圖中可以看出壓痕深度大于30 nm時,硬度的貢獻主要來源于Zr3O-ZrC層。

        Zr3O-ZrC/石墨烯復合增強層中,石墨烯的附著力較差,容易脫落,而Zr3O-ZrC由Zr金屬與碳等離子體反應而來,具有較強的結(jié)合力。

        3 結(jié)論

        (1)利用等離子體熱處理方法,在Zr金屬表面成功制備Zr3O-ZrC/石墨烯表面強化層,表面強化后,表面硬度提升至3.2倍,達到639HV。

        (2)納米壓痕結(jié)果表明,Zr3O-ZrC表面增強層是引起表面硬度的提高的主要原因。

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