袁 野,趙 青,陳倫江,薄 勇
(電子科技大學(xué), 成都 611731)
高超聲速飛行器在不改變外形的前提下,通過主動流動控制技術(shù)在飛行器局部增升減阻,是最為有效可行的技術(shù)方案之一。等離子流動控制技術(shù)是基于等離子體氣動激勵的新概念主動流動控制技術(shù),它利用等離子體作為能量載體向局部流場施加擾動,引起局部流場狀態(tài)與特性的變化,從而改變飛行器的局部升阻力或力矩,實現(xiàn)對飛行器的流動控制。
國內(nèi)外學(xué)者對等離子體流動控制做了廣泛的研究。俄羅斯航天局利用電弧逆向噴流激勵器在Ma=4的來流中實現(xiàn)了43%的減阻[1-2]。美國空軍實驗室仿真發(fā)現(xiàn)由于等離子體熱效應(yīng),在Ma=6的來流中將產(chǎn)生大于12.5%的減阻,減阻主要來源于逆向射流的黏性-非黏性相互作用和熱能沉積[3-4]。德克薩斯大學(xué)利用等離子體合成射流激勵器實現(xiàn)了射流速度300 m/s,在Ma=3的來流中使分離沖擊向下游移動約1/4邊界層厚度[5]。霍普金斯大學(xué)、佛羅里達(dá)州立大學(xué)利用等離子體合成射流激勵器在Ma=1.5交叉流中產(chǎn)生5°轉(zhuǎn)向角[6]。日本東京大學(xué)用表面電弧激勵器在Ma=7來流中仿真得到阻力系數(shù)減小13.1%,實驗得到阻力減小23%的結(jié)論[7]。美國圣母大學(xué)利用淺腔式電弧激勵器在Ma=4.5來流中實現(xiàn)了更早的層流-湍流過渡并且防止壓縮斜坡上的分離[8]??哲姽こ檀髮W(xué)用表面電弧激勵器在Ma=2來流、26°壓縮斜坡中產(chǎn)生控制氣體氣泡(CGBs),CGBs將沖擊波的足部區(qū)域移除[9]。國防科技大學(xué)用等離子體合成射流激勵器在Ma=5來流、25°壓縮斜坡中使沖擊角減小3°[10]。
這些研究已取得了初步的進(jìn)展,但是模擬激勵器減阻效果時,能量源項的加入多用估計的方法,從輸入功率估計熱源項的值。而本文采用包括電流、磁場、層流和流體傳熱在內(nèi)的多物理場有限元方法對激勵器的工作特性進(jìn)行了數(shù)值模擬,得到了激勵器準(zhǔn)確熱源分布。將此熱源項加入能量方程,計算減阻效果,得到更準(zhǔn)確的結(jié)果。
假設(shè)電弧等離子體為局部熱力學(xué)平衡LTE狀態(tài),電子和重離子溫度相等,不考慮重力。電弧等離子體在光學(xué)上被看作一薄層,不考慮電弧對輻射的吸收,運用凈發(fā)射系數(shù)計算輻射損失,氣體被假設(shè)為弱可壓縮。
對于層流和弱可壓縮氬氣流,質(zhì)量連續(xù)方程、動量Navier-Stokes方程和能量方程為
(1)
(2)
(3)
式中,ρ和η分別是流體的密度和動力黏度。u是流體速度,p是壓強(qiáng),I是單位張量。F是體積力,包括洛倫茲力FL。T,k,Cp和Q分別是溫度、熱導(dǎo)率、定壓比熱容和熱源。其中Q包括焦耳熱項QJ、電子焓輸運項及由凈體積發(fā)射系數(shù)計算的體積凈輻射損失項。FL和QJ分別為
FL=J×B
(4)
QJ=J·(E+u×B)
(5)
(6)
(7)
(8)
(9)
(10)
本文設(shè)計了一種激勵器-表面電弧放電激勵器。電弧激勵器模型為二維陰極陽極表面結(jié)構(gòu),計算區(qū)域為陰陽極表面向上的三維立體開放區(qū)域,其結(jié)構(gòu)如圖1所示。陽極和陰極材料均為鎢。矩形區(qū)域為空氣,空氣上邊界和四周邊界為壓力出口邊界條件。求解區(qū)域一共有2.9×103個域單元。選擇全耦合方法,利用MUMPS直接求解器對模型方程進(jìn)行數(shù)值積分。同時,對電導(dǎo)率最小值采用參數(shù)化掃描,來改善計算的收斂性。
圖1 表面電弧激勵器結(jié)構(gòu)圖Fig.1 Structure of surface arc actuator
為了考查激勵器的減阻效果,在一斜坡前方放入激勵器,斜坡置于高超聲速來流中,攻角為0°,模型如圖2所示。需要求解帶有斜坡的壁面區(qū)域的減阻效果。求解器為二維平面、基于密度的穩(wěn)態(tài)求解器,啟用能量方程。湍流模型為包含一個方程的Spalart-Allmaras模型,來流入口給定速度入口邊界條件,出口給定壓力出口邊界條件,壁面給定無滑移邊界條件。采用結(jié)構(gòu)化網(wǎng)格,網(wǎng)格數(shù)為5萬。控制方程的線性化采用顯式形式。采用Roe-FDS流動格式。
圖2 減阻效果仿真模型圖Fig.2 Simulation model of drag reduction effect
2.1.1 電勢分布
電流7 A、陰陽極距離3 mm時的電勢分布圖如圖3所示。陽極電勢接近0 V,陰極為電勢最低處,電勢-84.75 V。在計算空間內(nèi)電勢值在-50~-30 V之間,在接近陽極和陰極處電勢快速變化至最大最小值,電場強(qiáng)度在接近陰陽極處很大。
圖3 電流7 A、陰陽極距離3 mm時的電勢分布圖Fig.3 Potential distribution when the current is 7 A and the distance between anode and cathode is 3 mm
2.1.2 溫度分布
電流7 A、陰陽極距離3 mm時的溫度分布圖如圖4所示。陽極、陰極為溫度最低處。在計算空間內(nèi)溫度值在5 500~6 449 K之間,溫度梯度絕對值在接近陰陽極處很大。陰極和陽極之間加瞬時脈沖高壓,大量氣體被擊穿,產(chǎn)生電弧放電,主要由于電流產(chǎn)生的焦耳熱的影響,產(chǎn)生大量熱量,溫度劇烈升高。陰陽極處由于溫度不能高于材料熔點,加了邊界條件。
圖4 電流7 A、陰陽極距離3 mm時的溫度分布圖Fig.4 Temperature distribution when the current is 7 A and the distance between anode and cathode is 3 mm
2.1.3 熱源分布
從表15知,p=0.000<0.01,回歸模型非常顯著.但是從表16中看到,系數(shù)b1,b2,b3,b4相應(yīng)的顯著性概率均大于0.05,所以沒有一個變量在模型中是重要變量,因此需要對變量進(jìn)行篩選,采用逐步回歸法重新建立回歸模型.方法是在前面四步的基礎(chǔ)上,增加:
電流7 A、陰陽極距離3 mm時的總熱源分布圖如圖5所示。陰極表面附近為熱源值最大處,高達(dá)9×1010W/m3以上。陽極表面附近熱源3×1010W/m3左右,空間其余部分熱源為2×1010W/m3以下。
圖5 電流7 A、陰陽極距離3 mm時的熱源分布圖Fig.5 Heat source distribution at 7 A current and 3 mm distance between anode and cathode
y=5.5 mm,z=0.2 mm時熱源在不同電流下的分布如圖6所示。熱源在陰極表面大于陽極表面,在陰極表面高熱源的x坐標(biāo)范圍小于陽極,且陰陽極距離近的內(nèi)側(cè)比距離遠(yuǎn)的外側(cè)熱源高。這可能是因為陰極設(shè)置為垂直于表面發(fā)射電流,而陽極電流可以是任意方向,因此在陰極表面高電流密度的x坐標(biāo)范圍小于陽極,總電流在陰陽極上是相等的,電流密度在陰極表面大于陽極表面。由溫度分布圖5可以看出,溫度在陰陽極相差不大,電導(dǎo)率相差不大,焦耳熱和電流密度平方成正比。熱源主要部分是焦耳熱,因此熱源在陰極表面大于陽極表面,在陰極表面高熱源的x坐標(biāo)范圍小于陽極。由于陰陽極距離近的內(nèi)側(cè)比距離遠(yuǎn)的外側(cè)電場強(qiáng)度高,因此內(nèi)側(cè)比外側(cè)電流密度大,內(nèi)側(cè)比外側(cè)熱源高。由圖6可以看出,隨電流的增大,熱源值整體增大。
圖6 y=5.5 mm,z=0.2 mm時熱源在不同電流下的分布Fig.6 Distribution of heat sources under different currents when y=5.5 mm and z=0.2 mm
y=5.5 mm,z=0.2 mm時熱源在不同陰陽極距離下的分布如圖7所示。陰極的變化比較復(fù)雜,沒有特定的規(guī)律。陽極隨著陰陽極距離的增大,熱源分布更趨均勻,內(nèi)側(cè)和外側(cè)的差值減小。這是因為隨著距離的增大,內(nèi)外側(cè)由場強(qiáng)產(chǎn)生的電流密度差別減小。
圖7 y=5.5 mm,z=0.2 mm時熱源在 不同陰陽極距離下的分布Fig.7 Distribution of heat sources at different anode and cathode distances when y=5.5 mm and z=0.2 mm
表面電弧激勵器各參數(shù)仿真結(jié)果如表1所示。等離子體電弧激勵器的設(shè)計目的是得到最高的熱源。電流7 A、陰陽極距離3.5 mm的表面電弧激勵器為最優(yōu),因此在后面的減阻效果分析中采用此種表面電弧放電激勵器。
表1 表面電弧激勵器仿真結(jié)果
圖8 所取熱源截面Fig.8 Cross section of the heat source
激勵以能量源項的方式加入。取陰極表面中軸線上一矩形,坐標(biāo)為y=5.5 mm,3 mm 數(shù)值模擬結(jié)果和文獻(xiàn)[5]的結(jié)果一致。由于文獻(xiàn)[5]是三維模擬,這里取的是激勵中心平面的二維模擬,因為二維模擬中激勵區(qū)域沿厚度的每一截面均為二維模型中的激勵面積,而實際情況或三維模擬中,由于激勵區(qū)域是圓柱或橢球,激勵區(qū)域沿厚度只有中心截面為二維模型中的激勵面積,其余截面面積小于二維模型中的激勵面積,因此二維模擬中激勵區(qū)域大于三維模擬中的激勵區(qū)域,減阻百分率實驗的結(jié)果大于文獻(xiàn)[5]中的結(jié)果。 2.3.1 減阻機(jī)理分析 沒有加入等離子體激勵時,高超聲速流動經(jīng)過斜坡尖劈時,產(chǎn)生一道強(qiáng)烈的主斜激波。加入等離子體激勵后,高超聲速流動和等離子體相互作用,在經(jīng)過等離子體激勵區(qū)域時,產(chǎn)生新的斜激波,經(jīng)過這道激波后,高超聲速流動流經(jīng)斜坡尖劈時再產(chǎn)生主斜激波。這時主斜激波的強(qiáng)度已遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于沒加激勵只有一道主斜激波時的強(qiáng)度。高超聲速流動通過一系列強(qiáng)度較弱的激波系時產(chǎn)生的流動損失遠(yuǎn)比通過一道強(qiáng)激波時產(chǎn)生的損失小,產(chǎn)生的激波阻力也是前者小于后者,因此達(dá)到減阻的目的。減阻效果的影響要素主要為激勵的強(qiáng)度、激勵的位置和來流馬赫數(shù),下面針對這幾個影響因素對減阻效果進(jìn)行具體分析。 2.3.2 靜止壓力分布 不同來流馬赫數(shù)、激勵強(qiáng)度和激勵位置下靜止壓力分布如圖9所示??梢钥闯?,未加激勵時,在斜坡處產(chǎn)生了一道強(qiáng)烈的壓縮斜激波,波后壓力大大增加,加激勵后紅色高壓區(qū)面積大幅減小。圖9(a)(b)(c)中,隨激勵位置的前移,激勵后部水平平板上壓力增大區(qū)域變大,但是區(qū)域內(nèi)壓力增大值減小,也就是說,隨激勵位置前移,激勵后水平板上壓力變得更分散且值變小。在斜坡上,隨激勵位置前移,壓力圖像改變不明顯。在來流馬赫數(shù)恒定的條件下, 激勵位置前移表明虛擬尖劈半頂角減小, 根據(jù)尖劈斜激波的馬赫數(shù)-半頂角-激波角三者之間的關(guān)系曲線, 可知激波強(qiáng)度減小。圖9(g)(h)(a)(d)(e)(f)中,隨馬赫數(shù)減小,激勵區(qū)域前緣產(chǎn)生的斜激波相對于主激波的強(qiáng)度增強(qiáng)。圖9(i)(a)(j)中,隨激勵強(qiáng)度增大,激勵區(qū)域前緣產(chǎn)生的斜激波強(qiáng)度增強(qiáng)。 (a) Ma=7,8×108 W/m3,x坐標(biāo)0.03 m處 (b) Ma=7,8×108 W/m3,x坐標(biāo)0.035 m處 (c) Ma=7,8×108 W/m3,x坐標(biāo)0.04 m處 (d) Ma=7,未加激勵 (e) Ma=6,8×108 W/m3,x坐標(biāo)0.03 m處 (f) Ma=6,未加激勵 (g) Ma=8, 8×108 W/m3, x坐標(biāo)0.03 m處 (h) Ma=8,未加激勵 (i) Ma=7,6×108 W/m3,x坐標(biāo)0.03 m處 (j) Ma=7,1×109 W/m3,x坐標(biāo)0.03 m處 2.3.3 表面壓力系數(shù) 在激勵位置、來流馬赫數(shù)和激勵強(qiáng)度變化下斜坡表面壓力系數(shù)分布如圖10所示。從圖10(a)可以看出,斜坡上的壓力系數(shù)減小了1/3以上,且在斜坡上,似乎激勵位置對斜坡的壓力系數(shù)沒多大的影響,而對激勵之后斜坡之前的水平板部分,激勵后的壓力系數(shù)比無激勵的壓力系數(shù)大,且隨激勵位置的前移,壓力系數(shù)值減小,高壓力系數(shù)區(qū)面積增大,這與前面靜止壓力分布圖里觀察到的規(guī)律一致。從圖10(b)可以看出,隨馬赫數(shù)減小,斜坡上的壓力系數(shù)減小,激勵后水平板上壓力系數(shù)增大。從圖10(c)可以看出,隨激勵強(qiáng)度增大,斜坡上的壓力系數(shù)減小,激勵后水平板上壓力系數(shù)增大。 (a) 來流Ma=7、激勵強(qiáng)度8×108 W/m3時 壓力系數(shù)隨激勵位置變化圖 (b) 激勵位置0.03 m、激勵強(qiáng)度8×108 W/m3時 壓力系數(shù)隨馬赫數(shù)變化圖 (c) 來流Ma=7、激勵位置0.03 m時 壓力系數(shù)隨激勵強(qiáng)度變化圖圖10 激勵位置、來流馬赫數(shù)和激勵強(qiáng)度變化下 靜止壓力分布曲線Fig.10 Distribution of static pressure under different excitation positions, inlet Mach number and excitation intensity 2.3.4 總阻力系數(shù) 不同來流馬赫數(shù)、激勵強(qiáng)度和激勵位置下總阻力系數(shù)如表2所示。由表2可見,在來流Ma=7,激勵強(qiáng)度8×108W/m3下,減阻最高達(dá)32%。在同一馬赫數(shù)、激勵強(qiáng)度下,隨激勵位置前移,減阻百分率增大。在同一激勵位置,激勵強(qiáng)度下,隨馬赫數(shù)減小,減阻百分率增大。在同一激勵位置,同一馬赫數(shù),隨激勵強(qiáng)度增大,減阻百分率增大。 表2 不同來流馬赫數(shù)、激勵強(qiáng)度和激勵位置下總阻力系數(shù) 本文設(shè)計了一種表面電弧激勵器,用于等離子體流動控制,得到了不同工況下表面電弧激勵器周圍空間溫度、電勢等的分布情況,獲得了激勵器準(zhǔn)確熱源分布。激勵器在電流7 A、陰陽極距離3.5 mm時能得到2.690 5×1010W/m3的陰極表面最高熱源值,在Ma=7時總阻力系數(shù)最多減小32%。3 結(jié)論