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        半導體材料單層六角磷化硼的光學性質(zhì)計算分析研究

        2020-03-27 01:12:10繆飛徐金榮
        安徽建筑大學學報 2020年6期
        關(guān)鍵詞:能隙磷化能帶

        繆飛,徐金榮

        (安徽建筑大學 數(shù)理學院,安徽 合肥 230601)

        0 引言

        自從石墨烯被發(fā)現(xiàn)后,人們對二維材料的研究產(chǎn)生了巨大興趣。不僅第四主族元素形成的單質(zhì)二維材料如硅烯、鍺烯、錫烯得到了實驗和理論的大量研究,而且三五族化合物材料中由于原子的總價電子數(shù)與第四主族相同,也受到了廣泛的關(guān)注。六角磷化硼材料具有類似石墨烯的層狀結(jié)構(gòu),磷原子和硼原子發(fā)生SP2雜化,層內(nèi)形成很強的共價鍵,層間存在微弱的范德瓦爾斯力。最近,借助成熟的實驗技術(shù),由輕元素硼和磷形成的閃鋅礦型磷化硼大面積單晶被制備出來[1],其塊體磷化硼材料不僅具有非常高的硬度(約38 GPa,接近超硬材料的閾值40 GPa)、高溫下保持穩(wěn)定、具有很高的熱導率(約500 W/m/K,高于銀、銅和硅的熱導率),而且還有合適的能隙(約2 eV),因此磷化硼材料被認為是在常溫和其他高溫等極端條件下實現(xiàn)新一代半導體器件的理想材料[2-4]。不僅如此,實驗上二維六角磷化硼薄膜也已經(jīng)在SiO2和AlN 襯底上制備出來[5-6]。理論研究表明,單層六角磷化硼具有類似石墨烯的平面六角蜂窩狀結(jié)構(gòu)(如圖1 所示)、合適的能隙(1 eV 左右)、超高的載流子遷移率(大于104cm2/V/s,與單層黑磷相當)、高溫下穩(wěn)定(分子動力學穩(wěn)定且聲子譜無虛頻)等優(yōu)良性質(zhì)[7-11]。

        圖1 單層六角磷化硼結(jié)構(gòu)

        對半導體來說,研究材料中的光吸收,可以直接獲得精確的電子結(jié)構(gòu),雜質(zhì)缺陷態(tài)和原子的振動等重要信息。反過來,通過精確的能帶結(jié)構(gòu),可以計算出材料的光學性質(zhì),從而為材料是否能夠應用于光伏、光電行業(yè)提供理論依據(jù)。本文在獲得單層磷化硼的電子結(jié)構(gòu)的基礎上計算了介電函數(shù)、光學吸收譜等光學性質(zhì)。

        1 單層六角磷化硼結(jié)構(gòu)和計算方法

        單層六角磷化硼有著和石墨烯一樣的六角蜂窩狀結(jié)構(gòu),每個原胞中有一個硼原子和一個磷原子,其原胞一共有兩個原子,其結(jié)構(gòu)如圖1 所示,對應的布里淵區(qū)如圖2 所示。本文計算通過基于密度泛函理論的VASP 軟件包[12]進行。其中采用基于GGA-PBE 泛函[13-14]處理交換關(guān)聯(lián)能,平面波截斷能為500 eV,結(jié)構(gòu)優(yōu)化時其總能量收斂精度為10-6eV,每個原子上受力收斂精度10-3eV∕Ao??紤]到密度泛函理論的周期性邊界條件,在垂直單層六角磷化硼平面方向上采用距離為15 Ao的真空層來模擬單層六角磷化硼結(jié)構(gòu)。布里淵區(qū)積分采用21×21×1 的Monkhorst-Pack 方案。

        圖2 第一布里淵區(qū)

        2 計算結(jié)果分析

        2.1 電子結(jié)構(gòu)

        單層六角磷化硼的能帶和總態(tài)密度如圖3(a)所示,該材料為典型的直接帶隙半導體材料,能隙Δ = 0.903 eV。通過硼和磷原子的分軌道態(tài)密度圖3(b),圖3(c)可以看出,價帶頂主要有磷原子的pz軌道提供,而導帶底主要有硼原子的pz軌道提供。這些pz軌道垂直于層面肩并肩地形成共軛的大Π 和Π*鍵,費米面附近的pz電子近乎可以在層平面內(nèi)移動。正是由于電子形成共軛的Π 和Π*鍵,從而使得單層磷化硼材料具有較高的載流子遷移率等優(yōu)良的電子性質(zhì)。

        圖3 單層磷化硼的電子結(jié)構(gòu)

        2.2 光學性質(zhì)

        在得到單層磷化硼能帶結(jié)構(gòu)的基礎上,我們又計算了單層磷化硼材料的介電函數(shù)和吸收譜,分別如圖4 和5 所示。介電函數(shù)實部部分(如圖4 中黑線所示)會引起材料產(chǎn)生極化電流,但該極化電流與光波中的電場強度矢量相位差為90 °,因而不會吸收光波的能量。介電函數(shù)虛部部分(如圖4 中紅線所示)會引起材料中產(chǎn)生傳導電流,具有歐姆定律的形式,會引起能量的損失,該損失的能量正是介質(zhì)所吸收的能量。圖4 中的A 和B 峰與圖3 中的態(tài)密度圖中A 和B 躍遷相對應,說明該波段的光沿平面方向(100 或010 方向)照射單層磷化硼材料時會引起較大的吸收。該結(jié)果與圖5 的吸收譜圖像一致,在2-4 eV 能量區(qū)間會出現(xiàn)小峰值,這與可見光的能量區(qū)間1.6-3.2 eV 較為接近。

        圖4 介電函數(shù)

        圖5 吸收譜

        3 結(jié)論

        本文基于密度泛函理論計算了單層六角磷化硼的能帶、電子態(tài)密度和光學性質(zhì)。單層六角磷化硼材料為直接帶隙半導體,帶隙為0.903 eV,這與H.?ahin 等人[7]采用第一性原理計算得到結(jié)果一致。與石墨烯形成的狄拉克錐不同的是,費米面附近的能帶雖然由pz軌道提供,但硼原子和磷原子的化學勢和電負性的不同,導致原胞中兩原子對稱性的破缺,能隙被打開。此外,光學計算表明,單層六角磷化硼材料在可見光區(qū)域內(nèi)有較好的吸收,在光催化、光電、光伏等行業(yè)具有潛在的應用前景。

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