韓 超,翟秀靜,符 巖,李繼文
(1. 河南科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,河南 洛陽 471023;2.有色金屬共性技術(shù)河南省協(xié)同中心,河南 洛陽 471023;3.東北大學(xué)冶金學(xué)院,遼寧 沈陽 110819)
碳化硅粉末具有耐磨性、耐高溫性、高導(dǎo)熱性、高機械強度、高硬度、低熱膨脹系數(shù)、優(yōu)異的熱穩(wěn)定性和耐化學(xué)氧化等特性,在工業(yè)上有著廣泛的應(yīng)用,已成為近年來研究的熱點[1-3]。目前制備粉體碳化硅的方法有很多,包括電弧放電、激光燒蝕、化學(xué)氣相沉積、高頻感應(yīng)熔煉、溶膠凝膠和碳熱還原[4]。在這些方法中,碳熱還原法(又稱為艾奇遜法)是最常用的方法,該法通常以石英砂和石油焦為原料,在電阻爐中合成α相碳化硅[5]。但傳統(tǒng)的艾奇遜法存在合成溫度高、保溫時間長、能耗高、顆粒團聚大等缺點。近年來,許多研究者針對傳統(tǒng)方法進行改進,包括降低反應(yīng)溫度、節(jié)約能源、提高產(chǎn)物質(zhì)量或使用不同的硅、碳源等。Zhu等人[6]采用碳熱還原滲透法制備了6H-SiC,產(chǎn)物直徑在60-160 nm之間,長度可達(dá)數(shù)十微米。Gubernat等人[7]研究了利用順鉑礦低溫合成粉體碳化硅。Anshakov等人[8]開展了在雙射流等離子體化學(xué)反應(yīng)器中合成碳化硅納米粉體的研究。Wang等人[9]研究了利用廢聚四氟乙烯合成碳化硅納米晶。Shcherban等人[10]研究了利用介孔硅碳熱合成多孔碳化硅。
微波是一種電磁波,頻率范圍從300 MHz到300 GHz,微波技術(shù)是通過輻射特定頻率微波進行高效體加熱的一種手段[11-13],與傳統(tǒng)加熱方法相比,微波技術(shù)具有更高效的節(jié)能、更短的處理時間等特點,已應(yīng)用于冶金和化學(xué)合成領(lǐng)域[14]。由于碳具有介電特性,可以吸收微波,從而可以利用微波技術(shù)碳熱還原合成碳化硅[15]。Li等人[16]報道了在氬氣氣氛下微波合成納米結(jié)構(gòu)β-SiC的研究。Hashimoto等人[17]報道了利用微波合成技術(shù)在溫度1527 K,加熱時間30 min條件下,利用SiO2顆粒與活性炭按1:3的比例混合制備出碳化硅納米粉體。Satapathy等人[18]研究了微波加熱時間對SiC粉體合成的影響,發(fā)現(xiàn)當(dāng)加熱時間為30 min,溫度為1573 K,可以合成純SiC粉體。Ebadzadeh等人[19]研究還表明,在加熱時間為40 min、溫度為1723 K條件下可以合成SiC納米粉體。然而,關(guān)于用白炭黑(微米級二氧化硅)和活性炭微波合成碳化硅、碳化硅提純分析、硅轉(zhuǎn)化率的精確計算和β相碳化硅晶須的確定等方面的研究報道較少。因此本文研究了利用白炭黑和活性炭微波合成碳化硅。考察了微波合成條件,包括碳硅比、保溫時間和合成溫度等,優(yōu)化了工藝參數(shù),并通過X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡 (SEM)等手段表征了產(chǎn)物。
實驗中分別選擇白炭黑(化學(xué)成分為微米級二氧化硅)和活性炭作為合成碳化硅的硅源和碳源,并通過研磨機(RK/2M-100,武漢羅科公司)充分混合,以備后續(xù)實驗。實驗中采用了微波合成裝置,該裝置由熱電偶溫度傳感器、四個微波磁控管、四個水冷設(shè)備、一個微波反應(yīng)器、耐火材料(硅酸鋁)、一個氬氣瓶和一個離心泵等組件構(gòu)成,其反應(yīng)裝置如圖1所示。微波合成系統(tǒng)的最高溫度為2073 K,微波頻率為2.45 GHz,微波功率范圍0.1~6.0 kW,可實現(xiàn)自動調(diào)節(jié),輸出系數(shù)固定在0.5。將50 g混合后物料放入剛玉坩堝(100 mL),并將其插入一個大型反應(yīng)器(鋁硅酸鹽耐火材料)。向微波爐內(nèi)注入氬氣,速度為10 L/min。在一定條件下進行合成,得到的產(chǎn)物收集起來并進行化學(xué)分析。
1-氬氣瓶; 2-流量計; 3-通氣管; 4-熱電偶; 5-耐火材料; 6,7,8,9-磁控管; 10-反應(yīng)器; 11-循環(huán)水泵; 12-冷卻水管; 13-冷卻水裝置; 14-剛玉坩堝圖1 微波合成反應(yīng)裝置
為了準(zhǔn)確計算合成碳化硅的硅轉(zhuǎn)化率,對合成產(chǎn)物進行了化學(xué)分析。結(jié)合反應(yīng)條件可判斷,產(chǎn)物主要由活性炭、碳化硅和二氧化硅構(gòu)成,因此要對產(chǎn)物中的碳化硅進行分離純化,去除其中的活性炭和二氧化硅。首先,將合成產(chǎn)物在1073 K下加熱3 h,在此過程中,活性炭可氧化為二氧化碳(反應(yīng)式1)。
C+O2(g)→CO2(g)
(1)
其次,利用氫氟酸溶解殘留的二氧化硅。將10 mL硝酸(v/v 1:1)和氫氟酸混合在聚四氟乙烯燒杯中,加熱到513 K,這其中的二氧化硅能有效地溶于氫氟酸,而碳化硅具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性,不發(fā)生溶解,溶解方程如反應(yīng)式2-4所示。
SiO2+4HF=SiF4(g)+2H2O
(2)
Si+6HF=H2SiF6+2H2(g)
(3)
H2SiF6=2HF+SiF4(g)
(4)
微波合成粉體碳化硅的硅轉(zhuǎn)化率可由式5-6進行計算。
(5)
(6)
式中:
mSiC:微波合成后碳化硅的質(zhì)量(g);
mp:合成產(chǎn)物的總質(zhì)量(g);
mAC:游離活性炭質(zhì)量(g);
MSi:硅的摩爾質(zhì)量(g/mol);
MSiO2:SiO2的摩爾質(zhì)量(g/mol);
MSiC:SiC的摩爾質(zhì)量(g/mol);
R:硅轉(zhuǎn)化率(%);
最后,采用X射線衍射儀(型號:D/max-2500)對合成產(chǎn)物進行了物相分析。探測器以0.1°/s的掃描速度,衍射角度范圍為20°~80°。采用SEM掃描電子顯微鏡(型號:日立JEOL-JSM-6360LV)對合成產(chǎn)物進行了形貌表征。
本文采用微波碳熱還原合成粉體碳化硅,其碳熱還原的反應(yīng)式如下所示。
總反應(yīng)式:
SiO2(s)+3C(s)→SiC(s)+2CO(g)
(7)
分步反應(yīng)1:
SiO2+C→SiO(g)+CO(g)
(8)
分步反應(yīng)2:
SiO(g)+C= Si(g)+CO(g)
(9)
分步反應(yīng)3:
Si(g)+C= SiC
(10)
基于反應(yīng)反應(yīng)式7-10,計算了反應(yīng)焓值和吉布斯自由能值,結(jié)果如圖2所示。
(a)焓值與溫度的關(guān)系
(b)吉布斯自由能值與溫度的關(guān)系圖2 碳化硅合成的熱力學(xué)研究
由圖2(a)可知,反應(yīng)式7的焓值約為600 kJ/mol,這意味著反應(yīng)需要更多的熱量才能進行,因此較高的溫度是基本條件。圖2(b)表明,當(dāng)吉布斯自由值為0 kJ/mol時,反應(yīng)式7的溫度約為2000 K,也就是說,反應(yīng)式7的最低合成溫度理論上為2000 K。
計算了不同CO壓力下反應(yīng)式7的吉布斯自由值(圖3)。當(dāng)CO壓力降低時,最低合成溫度降低。CO壓力的降低有利于合成反應(yīng)的進行。在本實驗中,以10 L/min的速度向反應(yīng)器內(nèi)注入氬氣,可以降低CO的壓力。
圖3 不同CO壓力下吉布斯自由能值與溫度的關(guān)系(反應(yīng)式7)
本節(jié)實驗研究了碳硅物質(zhì)的量比對轉(zhuǎn)化率的影響,分別選取了n(活性炭):n(白炭黑) = 3、5、10、15等幾個因素進行合成實驗。
根據(jù)總反應(yīng)化學(xué)反應(yīng)式:SiO2(s) + 3C (s) = SiC (s) + 2CO (g)。其中碳硅物質(zhì)的量比為3恰好為反應(yīng)的化學(xué)計量數(shù)之比。得到的數(shù)據(jù)如圖4所示:
圖4 碳硅比對硅轉(zhuǎn)化率的影響(微波輸出系數(shù):0.5;白炭黑與活性炭混合50 g;合成溫度:1773 K;保溫時間:60 min;氬氣流量:10 L/min;碳硅比:3、5、10、15)
根據(jù)圖4可知,當(dāng)碳硅物質(zhì)的量比由3增加到5的時候,其轉(zhuǎn)化率有所提高,但當(dāng)碳硅物質(zhì)的量比再攀升時,其轉(zhuǎn)化率變化不大,最高硅轉(zhuǎn)化率可達(dá)49.81%。分析認(rèn)為,參與化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的量之比與反應(yīng)式的化學(xué)計量數(shù)之比成正比,因此對于當(dāng)碳硅物質(zhì)的量比為3時,已經(jīng)滿足化學(xué)計量數(shù)之比,如公式7所示。如果碳硅物質(zhì)的量比大于3時,活性炭過量,增加了碳顆粒與二氧化硅顆粒接觸程度,此時依靠其之間的固固反應(yīng)使得最終轉(zhuǎn)化率增加。但當(dāng)碳遠(yuǎn)遠(yuǎn)過量的時候,對于轉(zhuǎn)化率則沒有太大貢獻(xiàn)。鑒于成本問題,應(yīng)選擇碳硅物質(zhì)的量比為5作為合成條件,既能保證合成反應(yīng)的理論反應(yīng)式,對于適量過量的碳還能吸收微波,給反應(yīng)提供足夠的熱量。
本節(jié)實驗研究了保溫時間對轉(zhuǎn)化率的影響。根據(jù)實驗條件的具體情況,選擇了15 min、30 min、45 min、60 min、75 min、90 min等六個條件進行試驗。對于其他條件則固定碳硅物質(zhì)的量比為5;溫度為1723 K。其結(jié)果如圖5所示:
從圖5中可知,初期隨著時間延長,轉(zhuǎn)化率逐漸升高。在反應(yīng)初期,合成過程是在不斷進行的,因此轉(zhuǎn)化率在初期的時間積累上有著明顯的提升;但是該反應(yīng)是碳熱還原固相反應(yīng),其固固合成反應(yīng)主要依靠反應(yīng)物之間的相互接觸,因此隨著反應(yīng)的進行,由于反應(yīng)產(chǎn)物的存在,導(dǎo)致反應(yīng)物之間的接觸減少,此時時間的作用就不夠明顯。在本實驗中,60 min時硅轉(zhuǎn)化率為49.81%,而在90 min時最高硅轉(zhuǎn)化率可達(dá)50.75%,與90 min相比無明顯增加。因此60 min的保溫時間比較合適,延長時間對轉(zhuǎn)化率沒有明顯的影響,還增加了材料費用,縮短了耐火材料的使用壽命,經(jīng)綜合考慮,應(yīng)選60 min為合成時間。
圖5 保溫時間對硅轉(zhuǎn)化率的影響(微波輸出系數(shù):0.5;白炭黑與活性炭混合50 g;碳硅比為5;合成溫度1773 K;氬氣流量為10 L/min;保溫時間為15、30、45、60、75、90 min)
本節(jié)實驗選擇合成溫度為1673 K、1723 K、1773 K、1798 K、1823 K、1848 K和1873 K等七個實驗溫度點。固定碳硅物質(zhì)的量比為5,合成時間為60 min,其結(jié)果如圖6所示:
圖6 合成溫度對硅轉(zhuǎn)化率的影響(微波輸出系數(shù):0.5;白炭黑與活性炭混合50 g;碳硅比為5;氬氣流量為10 L/min;保溫時間為60 min;合成溫度為1673、1723、1773、1798、1823、1848、1873 K)
從圖6可以看出,隨著溫度從1673 K升高到1773 K時,碳化硅的轉(zhuǎn)化率從30%迅速提升至50%左右,其線性斜率比較大,可見在這一階段溫度對于碳化硅轉(zhuǎn)化率影響很大。反應(yīng)的理論標(biāo)準(zhǔn)摩爾反應(yīng)焓值為正值,因而合成碳化硅的反應(yīng)是一個強吸熱反應(yīng),溫度對于平衡的影響很大。隨著溫度的升高,轉(zhuǎn)化率呈線性增長。
溫度繼續(xù)增高,從1773 K到1873 K時,其合成轉(zhuǎn)化率增幅放緩。此時發(fā)生的是SiO2和C的固固反應(yīng),SiO2與C單質(zhì)通過固相接觸在接觸面上發(fā)生碳熱還原反應(yīng)生成了一層SiC層。此時主要是以化學(xué)反應(yīng)來控制反應(yīng)速度。隨著溫度升高反應(yīng)的進行,SiO2與C單質(zhì)的接觸逐漸被阻斷,反應(yīng)的轉(zhuǎn)化率增長則逐漸變緩。本實驗中,當(dāng)合成溫度為1773 K時,硅轉(zhuǎn)化率可達(dá)49.81%,當(dāng)合成溫度升至1873 K時,硅轉(zhuǎn)化率可達(dá)52.61%。溫度1773 K為最佳條件,溫度越高,運行費用越高。
為了研究合成產(chǎn)物的相組成,對合成產(chǎn)物進行了XRD研究,結(jié)果如圖7所示。
圖7 合成產(chǎn)物的XRD圖譜(a:炭燃燒后化學(xué)凈化前的產(chǎn)物;b:化學(xué)提純后的產(chǎn)物;微波輸出系數(shù):0.5;白炭黑與活性炭混合50 g;碳硅比為5;氬氣流量為10 L/min;保溫時間為60 min;合成溫度為1773 K)
圖7(a)為除碳后化學(xué)除硅前產(chǎn)物的XRD表征,結(jié)果表明化學(xué)除硅前產(chǎn)物為石英和β相碳化硅的混合物。說明微波合成法生成了碳化硅產(chǎn)物,且產(chǎn)物中未觀察到非晶態(tài)相,表明碳經(jīng)過燃燒后幾乎全被除去。圖7(b)為化學(xué)除硅純化后合成產(chǎn)物XRD表征。結(jié)果表明化學(xué)提純后的產(chǎn)物只有β相碳化硅,說明化學(xué)凈化技術(shù)是有效的,可以適用于微波技術(shù)合成β相碳化硅。
圖8 合成產(chǎn)物的SEM圖像(a:500x倍率;b:1000x倍率;c:2000x倍率;d:4000x倍率;微波輸出系數(shù):0.5;50 g白炭黑與活性炭混合料;碳硅比為5;氬氣流量為10 L/min;保溫時間為60 min;合成溫度為1773 K)
用掃描電鏡(SEM)對合成粉末產(chǎn)物的表面形貌進行了表征,其結(jié)果如圖8(a)-(d)所示。結(jié)果表明在微波條件下可以形成碳化硅晶須,這在國內(nèi)外研究中尚未見報道。碳化硅晶須不僅具有高強度、高模量和高延伸率,而且還具有電、光、磁、介電、導(dǎo)電和超導(dǎo)等性能。由此證明,微波技術(shù)可以拓寬碳化硅合成產(chǎn)物的應(yīng)用領(lǐng)域。
為了總結(jié)微波合成技術(shù)的優(yōu)點,針對微波合成技術(shù)與其它技術(shù)進行了對比。文獻(xiàn)綜述表明,電弧放電碳熱還原合成碳化硅的方法需要溫度接近3273 K,保溫時間為24 h。當(dāng)采用含F(xiàn)e2O3的碳熱還原合成工藝時,合成溫度和保溫時間可分別降低至1723 K和3 h。但是Fe2O3會混合在產(chǎn)物中,需要更為復(fù)雜的分離步驟。用爐法合成碳化硅是可能的,在1773 K,60 min時,SiC的產(chǎn)率可達(dá)32%。在無需使用中性氣氛或真空的條件下,將混合粉末在1773 K下加熱105 min,也可以合成納米β-SiC粉末。與上述非微波合成技術(shù)相比,白炭黑—活性炭微波合成工藝具有合成溫度低、保溫時間短、產(chǎn)物純度高等優(yōu)點。與上述微波合成技術(shù)相比,白炭黑—活性炭微波合成工藝具有更精確的轉(zhuǎn)化率計算和更好的β-SiC晶須產(chǎn)物。
本文研究了以白炭黑和活性炭為原料微波合成粉體碳化硅。詳細(xì)研究了碳硅比、保溫時間和合成溫度對微波合成的影響。結(jié)果表明,當(dāng)碳硅比大于5時,硅轉(zhuǎn)化率保持不變。增加保溫時間和合成溫度都有利于提高硅轉(zhuǎn)化率。在最佳實驗條件下(碳硅比為5,保溫時間為60 min,合成溫度為1773 K),用微波技術(shù)將二氧化硅轉(zhuǎn)化為碳化硅的轉(zhuǎn)化率為52.61%。經(jīng)XRD和SEM分析可知,合成粉體為β相碳化硅晶須。本法與非微波技術(shù)相比,合成工藝具有合成溫度低、保溫時間短、產(chǎn)物純度高等優(yōu)點。本法與其它微波合成技術(shù)相比,具有更精確的轉(zhuǎn)化率計算,可以得到更好的β相碳化硅晶須產(chǎn)物。