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        釩酸鏑晶體生長和磁光性能研究

        2019-11-25 08:27:48徐劉偉王帥華陳養(yǎng)國吳以恒吳少凡
        人工晶體學報 2019年10期
        關鍵詞:磁光晶體生長粉體

        徐劉偉,王帥華,陳養(yǎng)國,吳以恒,3,李 艷,3,吳少凡

        (1.中國科學院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所,福州 350002;2.福建福晶科技股份有限公司,福州 350003; 3.中國科學院大學,北京 100049)

        1 引 言

        磁光晶體是一種重要的光功能材料,通常指有法拉第磁光效應的晶體材料,即在外磁場作用下,光穿過介質(zhì)時能夠使光偏振方向發(fā)生非互易性偏轉(zhuǎn),是光隔離器、旋光器、調(diào)制器等磁光器件中的核心部件,在先進制造、國防、通信等領域有廣泛應用[1]。目前商業(yè)化的磁光晶體材料是Y3Fe5O12(YIG) 和Tb3Ga5O12(TGG),由于YIG晶體的光透過范圍是1200~3000 nm[2],而TGG在400~1200 nm波段有很高透過率,在可見光-近紅外波段應用非常廣泛[3],但是TGG晶體的Verdet常數(shù)較小,生長成本高,因此探索新型性能優(yōu)異的磁光晶體仍然是一個重要的研究課題。

        圖1 一些稀土離子的Verdet常數(shù)[4]Fig.1 Verdet constant of some rare earth ions[4]

        基于量子理論,順磁性稀土離子由于存在不成對4f電子,往往具有較大的Verdet常數(shù),如圖1所示[4],其中Ce3+、Pr3+、Tb3+、Dy3+都有很大的Verdet常數(shù),Ce3+、Pr3+容易被氧化成+4價而鮮有報道,而含Tb3+的磁光晶體因具有很好的光學性能成為人們關注的對象[5-7],從圖1可以看出,Dy3+離子的Verdet常數(shù)比Tb3+的更大,然而關于含有Dy3+離子磁光晶體的報道非常少,Kang等[8]生長了燒綠石型Dy2Ti2O7晶體,其Verdet常數(shù)遠大于TGG,表現(xiàn)出非常好的磁光性能,然而燒綠石相在晶體生長過程中容易形成氧缺陷,影響晶體的光學性能。Guo等[9]和Zhu等[7]先后報導了TbVO4晶體的生長和磁光性能,結(jié)果顯示,TbVO4晶體在許多方面性能均優(yōu)于TGG,顯示出非常大的潛在應用價值,說明稀土釩酸鹽作為磁光材料具有很好的應用價值,而目前還未曾有關DyVO4磁光晶體的報導,本文使用YVO4作為籽晶,采用提拉法生長了DyVO4晶體,并首次表征了其磁光性能。

        2 實 驗

        2.1 多晶DyVO4原料制備

        本實驗采用液相沉淀法制備DyVO4粉體,按照DyVO4化學計量比,準確稱量所需Dy2O3(99.99%)粉體,然后溶解到約90 ℃的熱硝酸溶液中,經(jīng)過濾獲得無色透明的高純Dy(NO3)3溶液待用。稱取對應質(zhì)量的NH4VO3,溶解于約90 ℃的去離子水中,待完全溶解后,經(jīng)過濾獲得高純NH4VO3溶液待用。然后將Dy(NO3)3溶液和NH4VO3溶液以500 mL/min的流速同時引流到帶有攪拌器的容器里,攪拌過程中使用氨水調(diào)節(jié)pH,pH控制在7±0.2,溶液中發(fā)生的反應為:

        Dy(NO3)3+NH4VO3+2NH4OH=DyVO4↓+3NH4NO3+H2O

        沉淀結(jié)束后調(diào)節(jié)pH=8,使沉淀完全。將DyVO4懸濁液靜置、熟化24 h,倒掉上清液,使用去離子水將沉淀物清洗兩遍,經(jīng)過抽濾干燥,得到DyVO4粉體。

        使用壓片機將DyVO4粉體壓制成φ50 mm餅狀塊體,然后放入馬弗爐煅燒,以10 ℃/min升溫到1000 ℃保溫24 h,保溫結(jié)束后關爐隨爐降溫,獲得白色的DyVO4多晶料。

        2.2 晶體生長

        圖2 提拉法晶體生長爐外觀和生長的 晶體及加工的晶體元件Fig.2 Photograph of crystal growth furnace and as grown DyVO4 crystal

        將上述的DyVO4多晶料放入φ60 mm×60 mm的銥金坩堝,使用中國電子科技集團第二十六研究所生產(chǎn)的JGD-600型提拉單晶爐(如圖2(a)所示),在高純N2氣的保護作用下,利用中頻感應將原料加熱到1700 ℃使原料完全熔融,然后降溫到1500 ℃,使用<001>晶向的YVO4籽晶引晶,經(jīng)過放肩后,以1.2~1.5 mm/h的提拉速度等徑生長,生長出直徑30~35 mm,長度35~40 mm的晶體,晶體生長結(jié)束后,以50 ℃/h降溫至960 ℃時通入氧氣退火,得到黃色透明晶體,如圖2(b)所示。晶體經(jīng)過定向、切割、拋光被加工成10 mm×10 mm×2.5 mm的片狀晶體元件和4 mm×4 mm×15 mm的棒狀晶體元件,如圖2(b)的插圖,分別用于測試晶體的光學和磁光性能。

        2.3 性能測試

        使用日本理學MiniFlex 600型X射線粉末衍射儀,在室溫條件下測試了DyVO4晶體粉末和晶體元件表面衍射圖譜,以Cu 靶作為輻射光源,掃描范圍10°~ 80°,掃描步進為0.02°。使用Perkin Elmer公司生產(chǎn)的Lambda950紫外可見近紅外分光光度計測試了晶體的透過率,測試波長范圍為200~1600 nm。使用自主搭建的磁光測試平臺測試了晶體元件的Verdet常數(shù)。

        3 結(jié)果與討論

        3.1 晶體內(nèi)部質(zhì)量檢測

        使用氦氖激光器(輸出功率50 mW,發(fā)射波長633 nm,頻率50 Hz)檢測生長出DyVO4晶體,結(jié)果無光散射、無核心、無開裂,如圖2(b)所示。

        3.2 物相分析

        從圖3 中可以看出,生長的DyVO4晶體粉末XRD與DyVO4粉末衍射標準文件的衍射峰一一對應,表明生長的晶體沒有多余雜相,使用jade軟件檢索物相,確定DyVO4為四方晶系,與YVO4是異質(zhì)同構(gòu)體,晶胞參數(shù)是a=b=0.71434 nm,c=0.6313 nm,α=β=γ=90°。由于c軸晶向的磁光性能最好[9],因此選擇<001>晶向的晶體元件進行性能測試,圖2中<001>晶向片狀晶體元件的X射線衍射圖譜沒有其他雜峰存在,表明用于性能測試的晶面為(001)面。

        3.3 光學性能

        從圖4中可以看出,DyVO4晶體在500~700 nm很高的透過率,達到76%~79%。在忽略反射光損失的情況下,晶體的吸收系數(shù)可以表示為:α= 1/L×ln(I0/I),其中是L光經(jīng)過晶體的長度,I0為入射光強度,I為透射強度。Lambda 900測得的是光的透過率T=I/I0×100%,因此系數(shù)系數(shù)可以表示為α= 1/L×ln(1/T),根據(jù)透過率譜圖,可以算出DyVO4晶體的如圖4中的吸收曲線,其中吸收峰表示電子從基態(tài)能級向?qū)吣芗壍能S遷。表1對比了DyVO4晶體和商用TGG晶體在幾個特殊波長條件下的吸收系數(shù)[8],該晶體在532 nm和633 nm處的吸收系數(shù)均低于TGG晶體,在1064 nm存在比較強的吸收,是對應電子6H15/2→6F7/2躍遷。

        圖3 DyVO4晶體粉末XRD和(001)晶面的衍射圖譜Fig.3 Powder XRD and (001) plane patterns of DyVO4 crystal

        圖4 DyVO4晶體元件的透過率和吸收系數(shù)(無鍍膜)Fig.4 Transmission and absorption curves of DyVO4 crystal device (without coating)

        表1 DyVO4晶體和TGG晶體在不同波長下吸收系數(shù)的對比Table 1 The contrast of optical absorption coefficient DyVO4 and TGG at different wavelength

        3.4 磁光性能

        由圖4可知DyVO4晶體在1064 nm波長條件下對光吸收非常大,透過率不足10%,因此沒有很大的實用價值,而DyVO4晶體在500~700 nm波長以及980 nm波長附近下的透過率非常大,本實驗測試了DyVO4晶體在532 nm、633 nm以及980 nm條件下的法拉第偏轉(zhuǎn)角。隨著磁場連續(xù)變化,入射偏振光的偏轉(zhuǎn)角度變化如圖5所示,DyVO4晶體的Verdet常數(shù)可根據(jù)公式θ=VHL計算,其中V是Verdet常數(shù),H是外磁場強度,L為光經(jīng)過晶體的長度,經(jīng)計算DyVO4晶體在532 nm、633 nm和980 nm波長下的Verdet常數(shù)分別為-309 rad/m/T、-167 rad/m/T和-64 rad/m/T。在532 nm 波長條件下,測試DyVO4晶體和TGG晶體棒狀樣品的消光比,分別為35 dB和40 dB。

        表2列舉了幾種具有較大Verdet常數(shù)的含Tb3+和Dy3+離子的磁光晶體,對比顯示,DyVO4晶體在可見光波段具有非常大的Verdet常數(shù),在 532 nm和633 nm條件下,比TGG晶體高出38%和20%。

        圖5 不同波長下DyVO4晶體元件法拉第旋轉(zhuǎn)角隨磁場變化Fig.5 Magnetic intensity dependent Faraday rotation of DyVO4 crystal at different wavelength

        表2 幾種磁光晶體性能Verdet常數(shù)對比Table 2 The contrast of Verdet constant for several magneto-optical crystals

        CrystalVerdet constant/rad/m/TRef.532 nm633 nm1064 nmTGG-190-134-40 [3]Tb2Sn2O7-275-193-59[6]Tb2Ti2O7-320-225-70[5]Dy2Ti2O7-330-183-71[8]TbVO4-291-195-58[7]DyVO4-309-167-This work

        4 結(jié) 論

        采用液相沉淀法制備了高純DyVO4多晶原料,使用提拉法生長出尺寸達φ30 mm×35 mm的優(yōu)質(zhì)單晶,晶體在500~700 nm范圍內(nèi)的透過率超過76%,在532 nm和633 nm波長條件下,DyVO4晶體的吸收系數(shù)分別是0.15 cm-1和0.10 cm-1,室溫條件下,DyVO4晶體對應532 nm、633 nm和980 nm波長的Verdet常數(shù)分別為-309 rad/m/T、-167 rad/m/T和-64 rad/m/T。在可見光波段,DyVO4晶體磁光性能優(yōu)于TGG晶體,有望在高靈敏度以及小型化磁光器件中實現(xiàn)應用。

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