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        談局部厚銅板的制作流程

        2019-10-21 00:43:50何艷球張亞鋒
        印制電路信息 2019年10期
        關(guān)鍵詞:壓膜銅板基板

        蔣 華 張 宏 何艷球 張亞鋒 郭 宇

        (勝宏科技(惠州)股份有限公司,廣東 惠州 516211)

        0 前言

        局部厚銅是一種提高印制電路板(PCB)散熱及過大電流的技術(shù)可以直接過大電流,導(dǎo)熱效率高,可延長PCB的使用壽命。但此類型PCB與普通的厚銅基板在制作流程上有很大的區(qū)別,特別是壓合時很容易產(chǎn)生銅皺,壓膜時容易產(chǎn)生氣泡造成滲蝕,曝光時吸真空不足造成曝光不良。

        以汽車電源系統(tǒng)為例,該模塊密度高、功率大,會產(chǎn)生更多熱量,特別是混合動力和全電動汽車會越來越多,所以需要更多先進(jìn)的電源管理系統(tǒng)。

        這意味著對散熱和大電流的需求會越來越高,必須增加PCB導(dǎo)體銅厚度,來滿足對散熱和大電流的需求。局部厚銅板產(chǎn)品與普通的厚銅板在制作流程上有很大的區(qū)別,文章通過對不同的流程及方案的可行性進(jìn)行驗(yàn)證,總結(jié)出可以生產(chǎn)該類型板的制作方法。

        1 局部厚銅板與普通厚銅板的區(qū)別

        局部厚銅板指在板內(nèi)即有薄銅區(qū)域,又有厚銅區(qū)域,普通厚銅板指板內(nèi)有銅區(qū)域全部為厚銅(如圖1)。

        2 產(chǎn)品基本信息

        產(chǎn)品基本信息見表1,產(chǎn)品結(jié)構(gòu)見圖2所示。

        圖1 局部厚銅板

        表1 基本信息

        圖2 壓合疊構(gòu)

        3 流程設(shè)計(jì)

        3.1 局部厚銅的銅面制作

        3.1.1 方案一:直接采用DES蝕刻線控深蝕刻的方式制作

        (1)制作流程。

        開料→鉆定位孔→壓膜→曝光→DES蝕刻

        (2)流程說明。

        ①根據(jù)厚銅位置銅厚選擇基板,此產(chǎn)品厚銅位置需要140 μm(4 oz),選用140 μm基板生產(chǎn)。

        ②薄銅區(qū)為35 μm(1oz),需要減去105 μm(3 oz),蝕刻補(bǔ)償需按105 μm銅厚進(jìn)行補(bǔ)償;

        ③曝光PE值設(shè)定±50 μm,防止與后續(xù)的局部厚銅線路不匹配;

        ④使用真空蝕刻線以少量多次的方式生產(chǎn),蝕刻線以最快線速(7.2 m/min),噴壓調(diào)整為:0.098 Mpa,生產(chǎn)前量測銅厚,過一次蝕刻線后量測一次銅厚,根據(jù)蝕刻咬蝕量確定過蝕刻次數(shù),薄銅區(qū)減到35 μm±2.5 μm內(nèi)。

        ⑤銅基板蝕刻時,嚴(yán)格管控蝕刻深度及厚銅區(qū)域線或Pad的尺寸,確保蝕刻后厚銅位置比其它位置高105 μm左右(見表2)。

        (3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

        厚銅區(qū)域尺寸無影響,實(shí)際測量蝕刻后厚銅區(qū)域線路寬度正常,均在±5%以內(nèi)。因厚銅板蝕刻深度較深,薄銅區(qū)域銅厚均勻性較難管控,薄銅區(qū)域R值為0.01 mm~0.02 mm,R值較大(見表2),后制程的線路制作影響較大,驗(yàn)證失敗。

        3.1.2 方案二:直接采用局部減銅的方式制作

        (1)制作流程。

        開料→鉆定位孔→壓膜→曝光→顯影→減銅

        (2)流程說明。

        ①選用140 μm(4 oz)基板生產(chǎn),減銅資料需按105 μm(3oz)銅厚進(jìn)行補(bǔ)償,曝光PE值設(shè)定±50 μm;

        ②減銅線以3 m/min的線速生產(chǎn),生產(chǎn)前量測銅厚,過一次減銅線后量測一次銅厚,正反交替的方式生產(chǎn),直到薄銅區(qū)減到35 μm±2.5 μm內(nèi)。

        (3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

        實(shí)際量測蝕刻后厚銅區(qū)域線路寬度正常,均在±5%內(nèi),薄銅區(qū)域銅厚R值為4.8 μm~5.3 μm,見表3,R值正常,驗(yàn)證OK。但生產(chǎn)此類局部厚銅板,從140 μm(4 oz)銅厚,減銅厚至35 μm(1 oz),次數(shù)較多,費(fèi)時,費(fèi)力,產(chǎn)能嚴(yán)重不足,此生產(chǎn)方只適于樣品及小批量,不適應(yīng)量產(chǎn)。

        3.1.3 方案三:采用DES蝕刻線控深蝕刻+減銅的方式制作

        (1)制作流程。

        開料→鉆定位孔→壓膜→曝光→DES蝕刻→減銅

        (2)流程說明。

        ①選用140 μm銅厚的(4 oz)基板生產(chǎn),減銅資料需按105 μm(3 oz)銅厚進(jìn)行補(bǔ)償,曝光PE值設(shè)定±50 μm;

        ②使用真空蝕刻線以少量多次的方式生產(chǎn),蝕刻線以最快線速7.2 m/min,噴嘴壓力調(diào)整為1.0 kg/cm2,正反面交替過蝕刻線,直到所剩銅厚在35 μm±15 μm以內(nèi),再以5 m/min的速度過減銅線,減到35 μm+/-2.5 μm內(nèi)。

        ③實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

        實(shí)際量測蝕刻后厚銅區(qū)域線路寬度正常均在±5%內(nèi),薄銅區(qū)域R值為5~6 μm,見表4所示,R值正常,驗(yàn)證沒問題。

        表2 方案一控深蝕刻后銅厚及線寬數(shù)據(jù)(單位:mm)

        表3 方案二減銅后銅厚及線寬數(shù)據(jù)(單位:mm)

        表4 方案三減銅后銅厚及線寬數(shù)據(jù)(單位:mm)

        3.2 線路制作

        3.2.1 方案一:正常方式制作

        (1)制作流程。

        前處理→壓膜→曝光→顯影→蝕刻

        (2)流程說明。

        ①線路補(bǔ)償按照薄銅銅厚35 μm(1 oz)補(bǔ)償;

        ②正常壓膜、曝光;

        ③按照薄銅銅厚設(shè)定蝕刻參數(shù)進(jìn)行蝕刻。

        (3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

        因局部銅厚,銅面高低差較大,壓膜結(jié)合力較差。壓膜后易造成干膜貼合不良(圖3),厚銅與薄銅相交處有氣泡,導(dǎo)致蝕刻后該區(qū)域因滲蝕造成品質(zhì)異常及損傷熱壓滾輪,驗(yàn)證失敗。

        3.2.2 方案二:防焊方式制作

        (1)制作流程。

        前處理→防焊→曝光→顯影→蝕刻

        (2)流程說明。

        ①線路補(bǔ)償按照薄銅銅厚補(bǔ)償;

        ②絲印防焊油墨作為抗蝕層,曝光使用自動曝光機(jī)生產(chǎn);

        ③按照薄銅銅設(shè)定蝕刻參數(shù)進(jìn)行蝕刻。

        (3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

        在厚薄銅交接處,因底片與油墨之間吸真空不良,導(dǎo)致顯影后該區(qū)域曝光不良(圖4),驗(yàn)證失敗。

        3.2.3 方案三:防焊方式制作,底片打孔

        (1)制作流程。

        前處理→壓膜→曝光(底片打孔)→顯影→蝕刻

        (2)流程說明。

        ①線路補(bǔ)償按照薄銅銅厚補(bǔ)償;

        ②絲印防焊油墨作為抗蝕層,曝光使用自動曝光機(jī)生產(chǎn),曝光前底片開孔;

        ③按照薄銅銅設(shè)定蝕刻參數(shù)進(jìn)行蝕刻。

        圖3 壓膜后截面圖

        圖4 曝光截面圖

        (3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

        底片打孔,有利于曝光吸真空,顯影后未發(fā)現(xiàn)曝光不良等品質(zhì)異常,蝕刻后品質(zhì)正常,驗(yàn)證沒問題(如圖5)。

        圖5 底片打孔示意圖

        3.3 壓合制作

        3.3.1 方案一:正常壓合

        (1)采用銅箔與基板直接壓合方式制作(如圖6)。

        圖6 方案一層壓圖

        (2)制作流程:棕化→預(yù)疊→壓合

        (3)流程說明:①正常棕化,預(yù)疊,壓合;②使用高膠半固化片壓合。

        (4)實(shí)驗(yàn)結(jié)果:因厚薄銅位置有高低差,壓合有失壓,缺膠,起皺現(xiàn)象,驗(yàn)證失?。ㄈ鐖D7)。

        圖7 厚薄銅位置實(shí)物圖

        3.3.2 方案二:半固化片開槽壓合

        (1)采用銅箔與基板直接壓合方式制作,疊構(gòu)(如圖8)。

        (2)制作流程。

        圖8 方案二層壓圖

        半固化片:開料→鉆孔→銑槽→鉚合→壓合

        基板:鉚合→壓合

        (3)流程說明。

        ①根據(jù)厚薄銅區(qū)域?qū)牍袒O(shè)置為兩部分,一部分為薄銅區(qū)域半固化片,將厚銅對應(yīng)位置開槽,銅厚極差作為開槽半固化片的理論介厚;另一部分為厚銅區(qū)域半固化片,根據(jù)總介厚設(shè)定厚銅區(qū)域半固化片的理論厚度;

        ②半固化片開槽的尺寸比厚銅位置的大小單邊大0.2 mm(如圖9);

        ③將開槽的半固化片與基板鉚合在一起,防止壓合的過程中開槽位置與厚銅位置錯位,再將未開槽的半固化片預(yù)疊好直接使用相對應(yīng)的壓合程式壓合(如圖10)。

        圖9 半固化片開槽實(shí)物圖

        圖10 鉚合后實(shí)物

        (4)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

        壓合后未發(fā)現(xiàn)缺膠、皺折等品質(zhì)異常,壓合后品質(zhì)可滿足客戶品質(zhì)要求。

        4 結(jié)論

        (1)厚薄銅制作時建議采用控深蝕刻加減銅的方式生產(chǎn),可有效避免因銅厚不均勻性導(dǎo)致的線路問題,并可提高生產(chǎn)效率。

        (2)線路制作時建議采用線路油墨加底片開透氣孔的方式生產(chǎn),可有效避免因厚薄銅的高低差導(dǎo)致的壓膜貼膜不良及曝光吸真空不良問題。

        (3)壓合制作時建議采用半固化片開窗填平銅厚高低差,再加正常半固化片的壓合方式生產(chǎn),可有效避免因銅厚高低差導(dǎo)致的失壓、缺膠、皺折等品質(zhì)問題。局部厚銅作為PCB散熱及通過大電流的技術(shù)之一,可延長PCB的使用壽命,在汽車電子、照明等領(lǐng)域?qū)玫綇V泛應(yīng)用。

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