伊雯雯,李忠平*,王園琴,2,李俊芬,董 川
(1.山西大學環(huán)境科學研究所,化學化工學院,山西太原030006;2.鴻富晉精密工業(yè)有限公司,山西太原030006)
Cu(Ⅱ)易被人體吸收,在體內(nèi)聚集,不易被降解,很容易引發(fā)各種疾病,如神經(jīng)失調(diào)(阿爾茨海默?。?-2],慢性病(糖尿病、心血管疾病和動脈硬化等)[3-4]、溶血性貧血疾病和肝炎,甚至癌癥[5-6]等。我國對各類水體中Cu(Ⅱ)的排放量有著明確的規(guī)定[7],生活飲用水中的含Cu(Ⅱ)量不得超過1mg·L!1;地面水中最高排放量為0.1mg·L-1。因此,研究水質(zhì)中重金屬Cu(Ⅱ)的檢測方法具有重要現(xiàn)實意義。目前,水環(huán)境中重金屬Cu(Ⅱ)的常規(guī)檢測方法,包括分光光度法[8]、熒光光譜法[9]、原子光譜法[10]、色譜法以及電化學法[11]、電感耦合等離子體質(zhì)譜分析法[12]等。近些年,一些新的檢測技術(shù),如免疫分析法[13]、生物傳感器法[14]、酶抑制法[15]等也得到了發(fā)展。
石墨烯(GN)是一種由單層碳原子緊密堆積成二維蜂窩狀晶體結(jié)構(gòu)的新型碳材料,具有較大的比表面積、優(yōu)良的電子傳輸性能[16]、良好的化學穩(wěn)定性以及和其他納米材料或生物材料兼容性好等優(yōu)異的物理性能[17]。這些優(yōu)異的性能使它成為電化學、電催化和生物傳感器等領域的研究熱點。本文構(gòu)建了一種基于EDTA功能化石墨烯的Cu(Ⅱ)電化學傳感器。采用乙二胺還原氧化石墨烯(GO)的方法,構(gòu)建EDTA功能化石墨烯納米材料修飾玻碳電極(EDTA/rGO/GCE),并研究Cu(Ⅱ)在EDTA/rGO/GCE修飾電極上的電化學行為,采用差分脈沖法(DPV)建立測定水質(zhì)中Cu(Ⅱ)濃度的方法。在已有的報道里尚未見到EDTA/rGO/GCE修飾電極測定Cu(Ⅱ),本文提出的電化學傳感器具有方法簡單、快速、環(huán)保等優(yōu)點,所制備的EDTA/rGO/GCE具有較好的抗干擾性能及穩(wěn)定性,具有一定的應用價值。
CHI660C型電化學工作站(上海辰華儀器公司);三電極系統(tǒng):玻碳電極(GCE,3mm)或修飾電極為工作電極,Ag/AgCl電極為參比電極,鉑絲為輔助電極;pHS-3D型pH計(上海雷磁分析儀器廠)。
Cu(Ⅱ)標準儲備溶液:0.01mol·L-1,用CuSO4·5H2O配制而成,用時再稀釋至所需濃度。EDTA(北京化工廠),乙二胺(天津市北辰方正試劑廠),(1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳二亞胺鹽酸鹽)(EDC)、KMnO4、NaNO3、30%H2O2(上海Aladdin試劑有限公司),石墨粉(天津市蘇莊化學試劑廠),所用試劑均為分析純。實驗用水為超純水。
氧化石墨烯(GO)采用改進的 Hummers法[18-19]制備。冰浴條件下,將3g石墨和1.5g NaNO3加入到70mL的濃H2SO4中,在攪拌條件下緩慢地加入9g KMnO4,混合物在4℃冰水浴中反應90min。將冰水浴換成溫水浴,中溫反應,在攪拌下將溫度控制在35℃,讓其反應30min,溶液呈紫綠色。緩慢加入140mL水,加熱保持溫度95℃左右,高溫反應,保持15min,再緩慢加入500mL水,隨后加入一定量的30%H2O2,此時反應液變成金黃色,停止反應。將混合物離心,并用HCl(1+10)洗滌,最后用水洗滌,材料在60℃的條件下干燥6h,即得GO[20]。將合成的材料分散在水中,超聲3h得到0.5mg·mL-1的GO溶液。還原氧化石墨烯(rGO)采用乙二胺還原GO。在5mL 0.5mg·mL-1GO溶液中加入25μmol·L-1的乙二胺,90℃下回流3h,洗滌干燥得到rGO。稱取上述制備的0.1g rGO,分散在10mL水中,然后加入EDTA溶液(其包括0.1mol·L-1EDC和0.01mol·L-1EDTA,在pH=7.2磷酸緩沖溶液中配制),然后在室溫下攪拌反應24h。得到EDTA/rGO復合材料。
用0.02~0.05μm的Al2O3粉末懸濁液將GCE分別在白色尼龍拋光布和棕色絨料拋光布上拋光成鏡面,之后依次在水、乙醇、水中各超聲清洗1~2min,最后在氮氣氛中進行干燥。取10μL的EDTA/rGO懸浮液小心滴涂在GCE表面,在紅外燈下烘干,得到EDTA/rGO/GCE修飾電極。
將EDTA/rGO/GCE修飾電極浸入加有一定量Cu(Ⅱ)標準溶液的,0.2mol·L-1HAc-NaAc緩沖溶液(pH=4.5)中,選用循環(huán)伏安法(CV)、差分脈沖伏安法(DPV)考察Cu(Ⅱ)在EDTA/rGO/GCE表面的電化學行為。設定掃描電位范圍為-0.2~0.6V,掃描速度為100mV·s-1。
利用SEM對制備的rGO和EDTA/rGO的形貌進行表征。由圖1可以看得出,rGO的褶皺程度較大,堆積也較為嚴重,而EDTA/rGO的分散性更好,具有明顯的單層結(jié)構(gòu)。
圖1 rGO(a)和EDTA/rGO(b)掃描電鏡(SEM)圖Fig.1 SEM images of rGO(a)and EDTA/rGO(b)
圖2 為 GO(a)、rGO(b)及 EDTA/rGO(c)的紅外光譜圖,可看到 GO在3 394.88cm-1處形成較寬峰,應該屬于-OH的伸縮振動;1 724.41cm-1應該歸屬于C=O的彎曲振動;1 628.37cm-1歸屬于C=C的伸縮振動;1 399.32cm-1應歸屬于C-OH的伸縮振動;1 058.43cm-1歸屬于C-O-C的伸縮振動。rGO在3 445.30cm-1處出峰,此峰應歸屬于 N-H 的峰,與 GO相比,在1 724.41、1 628.37、1 399.32cm-1處的吸收峰明顯減弱甚至消失,這說明本實驗已成功地制備了乙二胺還原的氧化石墨烯[21-22]。EDTA/rGO在3 469.79、1 635.81、1 084.55cm-1處出峰,表明EDTA/rGO含有大量氮和氧官能團。
為了研究修飾電極的電化學性能,將裸GCE、rGO/GCE和EDTA/rGO/GCE作為工作電極,分別在含有40μmol·L-1Cu(Ⅱ)的電解質(zhì)溶液中,在-0.2~0.6V電位范圍,掃描速率為100mV·s-1條件下進行電化學測試。從圖3(A)中可以看出,EDTA/rGO/GCE在0.05V左右出現(xiàn)了明顯Cu(Ⅱ)的溶出峰電流,歸因于rGO增加了電極的電催化活性和有效面積。修飾EDTA的納米復合材料結(jié)構(gòu)中EDTA有6個配位原子,具有環(huán)狀結(jié)構(gòu),有助于選擇性的與來自水性介質(zhì)的特定金屬離子結(jié)合。由圖3(B)可以看出,在EDTA/rGO/GCE檢測過程中,隨著Cu(Ⅱ)濃度從40μmol·L-1到100μmol·L-1的不斷增加,Cu(Ⅱ)的溶出峰電流也在不斷增加,表明EDTA/rGO/GCE對Cu(Ⅱ)有很好的電化學響應。
2.4.1 支持電解質(zhì)和pH的影響 根據(jù)文獻報道[23],選擇0.2mol·L-1HAC-NaAc作為支持電解質(zhì)??疾炝撕?0μmol·L-1Cu(Ⅱ)的0.2mol·L-1HAc-NaAc溶液在不同pH值時的峰電流響應。從圖4(a)中可知,在pH=4.5時,峰電流最高。實驗選取0.2mol·L-1HAc-NaAc緩沖溶液(pH=4.5)為支持電解質(zhì)溶液。
圖2 GO(a)、rGO(b)及EDTA/rGO(c)的紅外光譜圖Fig.2 The infrared spectra of GO(a),rGO(b)and EDTA/rGO(c)
圖3 (A)GCE(a)、rGO/GCE(b)和EDTA/rGO/GCE(c)在含40μmol·L-1Cu(Ⅱ)的電解質(zhì)溶液中的循環(huán)伏安(CV)圖;(B)不同濃度Cu(Ⅱ)在EDTA/rGO/GCE上的CV圖Fig.3 (A)CVs of GCE(a),rGO/GCE(b)and EDTA/rGO/GCE(c)in electrolyte with 40μmol·L-1 Cu(Ⅱ);(B)CVs of Cu(Ⅱ)with different concentration at EDTA/rGO/GCE
2.4.2 沉積電位和沉積時間 在-0.2~-1.2V電位范圍內(nèi)考察了不同的沉積電位對Cu(Ⅱ)的溶出峰電流的影響(圖4(b))。隨著沉積電位的負移,Cu(Ⅱ)被還原趨于完全,溶出峰電流隨之增大,但沉積電位若太負,背景電流也開始增加,溶出峰電流降低,峰形變差。相較而言,沉積電位為-1.1V時,Cu(Ⅱ)溶出峰信號最優(yōu),實驗選擇沉積電位為-1.1V。在選定的沉積電位下,沉積時間從50s增至400s時溶出峰電流逐漸增加,但到300s后增加幅度變小。綜合考慮電極穩(wěn)定性、時效性及靈敏度等因素。沉積時間選為300s。
圖4 支持電解質(zhì)pH(a)和沉積電位對峰電流的影響(b)Fig.4 The effect of supporting electrolyte pH(a)and deposition potential(b)on peak current
2.4.3 掃描速度 考察了EDTA/rGO/GCE在含有80μmol·L-1Cu(Ⅱ)的0.2mol·L-1HAc-NaAc緩沖溶液(pH=4.5)中,于不同掃速下的循環(huán)伏安(CV)行為。如圖5所示,隨著掃速的不斷增加,峰電流也不斷增加,并伴隨著峰電位的正移。實驗選擇掃速為100mV·s-1,在此掃速下峰電流穩(wěn)定,峰形較好。
2.4.4 修飾劑用量的選擇 分別滴涂EDTA/rGO懸浮液3、5、7、10、12μL到GCE上,將修飾電極在電解質(zhì)溶液中對40μmol·L-1的Cu(Ⅱ)溶液做CV測試。結(jié)果表明:EDTA/rGO用量在小于10μL時溶出峰電流隨著修飾量的增加而增大,當用量繼續(xù)增加時峰電流有所降低,電極修飾量增加反而阻礙了電子之間的交換與傳遞,材料脫落顯現(xiàn)也較明顯,峰電流值有所降低。故選用修飾劑用量10μL。
在優(yōu)化條件下,采用DPV法對Cu(Ⅱ)溶液進行電化學檢測。從圖6可見,隨著Cu(Ⅱ)的濃度不斷增加,Cu(Ⅱ)的溶出峰電流逐漸增加。Cu(Ⅱ)在4.0×10-5~2.0×1.0-4mol·L-1范圍與對應峰電流值之間呈線性關(guān)系,線性回歸方程為:Ipc(μA)=0.11707c(μmol·L-1)-4.26702,相關(guān)系數(shù)R2=0.9655,檢出限為1.3×10-5mol·L-1。說明EDTA/rGO/GCE修飾電極可以實現(xiàn)對較低濃度Cu(Ⅱ)的快速定量分析。
圖5 不同掃速下Cu(Ⅱ)在EDTA/rGO/GCE上的循環(huán)伏安(CVs)圖Fig.5 CVs of Cu(Ⅱ)at different sweep speeds at EDTA/rGO/GCEa→e:20,50,80,100,120mV·s-1,respectively.buffer solution:0.2mol·L-1 HAc-NaAc(pH=4.6).
圖6 不同濃度Cu(Ⅱ)在EDTA/rGO/GCE上的差分脈沖伏安(DPV)曲線Fig.6 DPV curves of Cu(Ⅱ)with different concentrations at EDTA/rGO/GCEa→h:40,50,80,120,140,160,180,200μmol·L-1,respectively.buffer solution:0.2mol·L-1 HAc-NaAc(pH=4.6).
抗干擾能力是決定傳感器實用性的重要指標。在循環(huán)伏安法檢測過程中,加入與Cu(Ⅱ)相同濃度的其它金屬離子并進行檢測,以評估修飾電極的抗干擾能力。圖7是 EDTA/rGO/GCE 在0.2mol·L-1HAc-NaAc緩沖溶液(pH=4.5)中,對濃度均為80μmol·L-1的 Mn2+、Cr3+、Ni2+、Fe3+、K+、Pb2+、Mg2+、Ca2+、Co2+、Cu2+的電化學響應情況。結(jié)果表明,EDTA/rGO復合材料修飾電極對Cu(Ⅱ)表現(xiàn)出強的峰電流響應,對同濃度的其它金屬離子檢測的電化學信號較弱,表明基于DPV法的EDTA/rGO/GCE對溶液中Cu(Ⅱ)的檢測具有較好的選擇性。
穩(wěn)定性亦是電化學傳感器實際應用的一個重要的考察指標。為了考察制得的傳感器對Cu(Ⅱ)檢測的穩(wěn)定性,通過使用同一根電極對0.2mol·L-1HAc-NaAc緩沖溶液中Cu(Ⅱ)(80μmol·L-1)連續(xù)測量了8次,8次連續(xù)測量的峰電流值變化很小,相對標準偏差(RSD)為2.29%。說明EDTA/rGO/GCE有較好的穩(wěn)定性。
圖7 EDTA/rGO/GCE對80μmol·L-1金屬離子的電化學響應Fig.7 The electrochemical responses of EDTA/rGO/GCE for 80μmol·L-1 different metal ions
本文構(gòu)建的電化學傳感器具有方法簡單、快速、環(huán)保等優(yōu)點,能夠應用于水質(zhì)中重金屬Cu(Ⅱ)的快速檢測,所制備的EDTA/rGO/GCE具有較好的抗干擾性能及穩(wěn)定性,具有一定的應用價值。