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        基于稀疏成像的金屬材料缺陷檢測(cè)研究

        2019-07-18 08:54:40許大偉
        工業(yè)加熱 2019年3期
        關(guān)鍵詞:層析成像正則電磁

        許大偉

        (西安航空職業(yè)技術(shù)學(xué)院,陜西西安710089)

        在工業(yè)領(lǐng)域,加強(qiáng)對(duì)金屬表面圖像缺陷的檢測(cè),是提高產(chǎn)品合格率的重要途徑[1-2]。傳統(tǒng)的圖像檢測(cè)是對(duì)金屬表面圖像特征進(jìn)行提取,然后進(jìn)行特征識(shí)別,最后判斷金屬材料表面是否合格。這種傳統(tǒng)檢測(cè)方法的局限在于受圖像特征的限制,導(dǎo)致對(duì)不同的材料會(huì)選擇不同的特征提取方法。因此研究一種通用的圖像檢測(cè)方法,是當(dāng)前金屬材料缺陷檢測(cè)的重點(diǎn)[3]。由此,稀疏成像算法開始逐步進(jìn)入人們的視野,被應(yīng)用在各個(gè)領(lǐng)域。本文將稀疏成像算法應(yīng)用于電磁層析成像的金屬檢測(cè)中,以完成對(duì)圖像的重建,并對(duì)檢測(cè)算法的效果進(jìn)行驗(yàn)證,以在傳統(tǒng)金屬缺陷檢測(cè)的技術(shù)上,提出一種新的通用的圖像缺陷檢測(cè)方法[4-6]。

        1 電磁層析成像問(wèn)題

        研究認(rèn)為,電磁層析成像可以描述為兩種:一種是通過(guò)正問(wèn)題,即在知道電導(dǎo)率σ、磁導(dǎo)率μ和邊界激勵(lì)信號(hào)的前提下,對(duì)被測(cè)對(duì)象物場(chǎng)信號(hào)進(jìn)行求解。具體過(guò)程如圖1所示。

        圖1 電磁層析成像正問(wèn)題

        電磁層析成像的逆問(wèn)題求解,是指在已知檢測(cè)物體物場(chǎng)信息的前提下,通過(guò)圖像重建算法,得到被測(cè)對(duì)象的內(nèi)部電導(dǎo)率和磁導(dǎo)率。因此,在對(duì)金屬缺陷進(jìn)行檢測(cè)的過(guò)程中,圖像重建是其中的一個(gè)關(guān)鍵步驟。

        在電磁層析成像中,假設(shè)輸入的信號(hào)為電導(dǎo)率,輸出的信號(hào)為感應(yīng)電壓,兩者為非線性的關(guān)系。那么則有:

        式中:σ∈RM為電導(dǎo)率分布,M為電導(dǎo)率的維數(shù);V∈RN為傳感器線圈測(cè)量得到的感應(yīng)電壓;F(σ)為感應(yīng)電壓和電導(dǎo)率分布之間的關(guān)系。

        利用截?cái)嗵├展綄?duì)式(1)展開,并通過(guò)變形,從而得到:

        式中:S表示靈敏度矩陣;B表示測(cè)量的數(shù)據(jù)向量;G為待求圖像的灰度值向量。由此,對(duì)圖像重建的求解,就是對(duì)式(2)求解的過(guò)程。

        2 電磁層析成像系統(tǒng)構(gòu)建

        為實(shí)現(xiàn)對(duì)金屬圖像缺陷的檢測(cè),首先搭建電磁層析成像系統(tǒng),在搭建中,主要包括傳感器設(shè)計(jì)、激勵(lì)測(cè)量方案選擇,以及激勵(lì)模塊設(shè)計(jì)等。

        2.1 電磁層析成像系統(tǒng)傳感器設(shè)計(jì)

        為了實(shí)現(xiàn)平面金屬缺陷的可視化檢測(cè),本文將對(duì)平面?zhèn)鞲衅鬟M(jìn)行設(shè)計(jì),具體用于金屬缺陷檢測(cè)的電磁層析成像傳感器如圖2所示。

        圖2 用于金屬缺陷檢測(cè)的傳感器

        2.2 電磁層析成像線圈激勵(lì)測(cè)量方案

        本文共采用6個(gè)匝數(shù)為100、高度10 mm及線徑為0.3 mm線圈構(gòu)成的傳感器,具體如圖3所示。

        圖3 系統(tǒng)傳感器

        為了使多個(gè)線圈系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)更加淋漓盡致的體現(xiàn)出來(lái),本系統(tǒng)將采用循環(huán)激勵(lì)循環(huán)測(cè)量的方式開展電磁層析成像線圈激勵(lì)測(cè)量,具體循環(huán)激勵(lì)測(cè)量順序如表1所示。

        表1 循環(huán)激勵(lì)測(cè)量順序

        如表1所示,循環(huán)激勵(lì)測(cè)量方式總共由6次循環(huán)構(gòu)成。其中,第一次循環(huán)過(guò)程將1 號(hào)線圈視為激勵(lì)線圈,其他線圈為測(cè)量線圈;第二次則是將2 號(hào)線圈作為激勵(lì)線圈,其他線圈為測(cè)量線圈,以此類推完成循環(huán)測(cè)量工作。經(jīng)過(guò)6 次循環(huán)測(cè)量之后,將得出6×5=30 個(gè)測(cè)量數(shù)據(jù)。本文將采用該測(cè)量法作為系統(tǒng)激勵(lì)測(cè)量方案。

        2.3 激勵(lì)源模塊設(shè)計(jì)

        激勵(lì)源模塊是系統(tǒng)產(chǎn)生激勵(lì)信號(hào)的部分,其作用在于將一定頻率的正弦激勵(lì)信號(hào)提供給系統(tǒng),使其產(chǎn)生相應(yīng)的電磁場(chǎng)。本系統(tǒng)的激勵(lì)模塊主要由兩部分構(gòu)成,分別為AD9851 及驅(qū)動(dòng)電路。其中,AD9851 內(nèi)部具備可編程DDS 系統(tǒng)、DAC 以及高速比較器,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)全數(shù)字編程控制頻率進(jìn)行合成。具體AD9851功能模塊如圖4所示。

        圖4 AD9851功能模塊

        2.4 放大電路設(shè)計(jì)

        在電磁層析成像系統(tǒng)中,電磁場(chǎng)的強(qiáng)弱將受到激勵(lì)模塊電流大小的影響。若激勵(lì)模塊中產(chǎn)生的電流越大,檢測(cè)線圈將獲取到更強(qiáng)的感應(yīng)信號(hào)。出于對(duì)系統(tǒng)電流強(qiáng)度及電流頻率特性的考慮,本文將選取LT1210電流反饋型放大器作為本系統(tǒng)放大電路的放大器。LT1210 具備輸入阻抗大、穩(wěn)定性高等特點(diǎn),極其適合用作本系統(tǒng)電路的放大器。

        在LT1210 電路中,AD9851 在產(chǎn)生正弦信號(hào)之后,該信號(hào)將借助LT1210 電路接入到正向輸入端中,再利用電阻R1及R3使正弦信號(hào)到達(dá)反向輸入端,之后再經(jīng)過(guò)R2傳輸至后面電路中。LT1210放大電路增益公式為

        2.5 數(shù)據(jù)采集模塊設(shè)計(jì)

        在電磁層析成像系統(tǒng)中,數(shù)據(jù)采集模塊扮演著極其重要的角色,起到采集檢測(cè)線圈感應(yīng)信號(hào)的目的。考慮到電磁層析成像系統(tǒng)對(duì)采集模塊速率的要求較高,本文將通過(guò)FPGA與STM32相結(jié)合的方式開展數(shù)據(jù)采集模塊的設(shè)計(jì)工作。FPGA 具備集成度高、運(yùn)行速度快等優(yōu)勢(shì),能夠幫助數(shù)據(jù)采集模塊實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)的快速采集與轉(zhuǎn)發(fā);STM32 能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)FPGA 采集數(shù)據(jù)的處理、存儲(chǔ)與顯示。通過(guò)兩者結(jié)合的方式,使電磁層析成像系統(tǒng)的數(shù)據(jù)采集模塊具備高速采集、存儲(chǔ)及顯示的特點(diǎn)。具體數(shù)據(jù)采集模塊結(jié)構(gòu)如圖5所示。

        本文系統(tǒng)主控芯片部分將采用STM32F407ZG 芯片,該芯片具備豐富的外設(shè)資源,能夠滿足本系統(tǒng)數(shù)據(jù)傳輸需求。如圖5所示,電磁層析成像系統(tǒng)測(cè)量信號(hào)在經(jīng)過(guò)FPGA采集控制的高速AD采集電路之后,將會(huì)到達(dá)STM32 中,再由STM32 將采集結(jié)果借助以太網(wǎng)傳送至上位機(jī)部分。具體系統(tǒng)采集流程如圖6所示。

        圖5 數(shù)據(jù)采集模塊結(jié)構(gòu)

        圖6 系統(tǒng)采集流程

        如圖6 所示,系統(tǒng)在完成初始化工作之后,STM32將會(huì)向FPGA發(fā)起采集命令,F(xiàn)PGA在接收到采集命令之后,將開始進(jìn)行采集工作。在此之后,STM32 將開啟多路選通對(duì)繼電器進(jìn)行控制,F(xiàn)PGA控制采集芯片開始對(duì)感應(yīng)線圈測(cè)量信號(hào)進(jìn)行采集,直至多路選通結(jié)束才能完成整個(gè)采集工作。

        2.6 AD采集電路設(shè)計(jì)

        在AD 采集電路部分的設(shè)計(jì)工作中,本文將選用ADSI610 作為AD 采集電路中的采樣芯片,能夠?yàn)锳D采集電路提供較寬的輸入信號(hào)。具體ADSI610 輸入驅(qū)動(dòng)電路如圖7所示。

        圖7 ADSI610輸入驅(qū)動(dòng)電路

        2.7 STM32與FPGA接口設(shè)計(jì)

        在數(shù)據(jù)采集模塊中,STM32 的數(shù)據(jù)傳輸為串行通信;FPGA 數(shù)據(jù)傳輸為并行通信。串行通信雖然具備連接簡(jiǎn)單這一特點(diǎn),但由于其傳輸速度較慢,無(wú)法滿足本文對(duì)高速度數(shù)據(jù)傳輸?shù)男枨?。?duì)此本文采用并行通信方式,借助外部總線接口來(lái)對(duì)STM32 與FPGA 接口進(jìn)行設(shè)計(jì),使FPGA映射成為STM32的外部存儲(chǔ)器。具體STM32與FPGA接口連接如圖8所示。

        圖8 STM32與FPGA接口連接

        3 軟件設(shè)計(jì)

        3.1 整體軟件架構(gòu)設(shè)計(jì)

        考慮到上文中對(duì)系統(tǒng)設(shè)計(jì)提出的成本低這一要求,本文將采用LabVIEW 對(duì)上位機(jī)軟件進(jìn)行設(shè)計(jì)。LabVIEW 具備較高的移植性,能夠避免系統(tǒng)開發(fā)過(guò)程中不必要的軟件重復(fù)開發(fā),以此減少軟件系統(tǒng)開發(fā)成本。具體上位機(jī)軟件結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)如圖9所示。

        圖9 上位機(jī)軟件結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

        如圖9 所示,上位機(jī)軟件部分主要由三大模塊構(gòu)成,分別為通信接口、數(shù)據(jù)采集控制以及圖像顯示與存儲(chǔ)。其中,數(shù)據(jù)采集模塊主要位于上位機(jī)與STM32 的中間位置,起到數(shù)據(jù)傳輸與控制命令發(fā)送的作用;圖像重建顯示與存儲(chǔ)模塊主要起到顯示及存儲(chǔ)測(cè)量結(jié)果的作用。

        3.2 圖像重建算法構(gòu)建

        在對(duì)電磁層析成像進(jìn)行逆求解的過(guò)程中,其凸顯出不確定性、非線性和病態(tài)的問(wèn)題。傳統(tǒng)的求解方法是采用正則化方法進(jìn)行求解。

        3.2.1 Tikhonov正則化方法

        在電磁層析成像圖像重建中,Tikhonov 正則化算法具備一定的代表性,經(jīng)常被用作病態(tài)問(wèn)題的解決。Tikhonov 正則化算法在應(yīng)用過(guò)程中,算法會(huì)將不適定逆向問(wèn)題進(jìn)行轉(zhuǎn)化,使其變?yōu)橐粋€(gè)適定的最小化問(wèn)題,即將式(2)的求解,轉(zhuǎn)換為一個(gè)最小化問(wèn)題,目標(biāo)函數(shù)為

        式中:‖ ?‖2表示2范數(shù);方程前項(xiàng)表示誤差項(xiàng);方程后項(xiàng)表示懲罰項(xiàng);B表示測(cè)量電壓值;ασr表示正則化參數(shù),能夠?qū)土P項(xiàng)大小進(jìn)行控制;X表示電導(dǎo)率分布;R表示正則化矩陣。

        3.2.2 目標(biāo)函數(shù)求解

        目標(biāo)函數(shù):

        對(duì)上述算法的求解,傳統(tǒng)的方式是對(duì)目標(biāo)函數(shù)求導(dǎo)。但是求導(dǎo)的前提,是目標(biāo)函數(shù)必須是可微的。因此,在求解中,將式(4)轉(zhuǎn)化為線性不等式約束的凸二次問(wèn)題。

        式中:μ∈Rn,x∈Rn。

        引入對(duì)數(shù)障礙法對(duì)目標(biāo)函數(shù)進(jìn)行求解,從而得到

        式中:t表示朗格朗日乘子;Φ(x,u)表示對(duì)數(shù)障礙。

        由此對(duì)式(6)進(jìn)行求解,運(yùn)用牛頓法求解可得到。

        3.2.3 α參數(shù)選取

        正則化算法在開展圖像重建工作時(shí),最終重建質(zhì)量將受到正則化因子ασr的影響。若ασr值選擇過(guò)大,會(huì)造成解對(duì)誤差不敏感現(xiàn)象;若ασr值選擇過(guò)小,會(huì)使誤差解不被物理接收。在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中,ασr值的選取主要依賴于經(jīng)驗(yàn)。

        考慮到最終圖像重建質(zhì)量,本文將采用L 曲線準(zhǔn)則對(duì)ασr參數(shù)進(jìn)行計(jì)算,通過(guò)對(duì)比模 ‖RX‖2與余量?!琒X-B‖2來(lái)對(duì)ασr參數(shù)進(jìn)行確定。具體是計(jì)算曲線(‖SX-B‖2,‖R,X‖2)的曲率,選取曲率極大值點(diǎn)為ασr參數(shù)。

        4 仿真驗(yàn)證

        被測(cè)對(duì)象為圓形鋁盤,直徑d=7.9 cm,h=1 cm。同時(shí)為比較本文構(gòu)建算法的效果,將其余L2正則化算法進(jìn)行對(duì)比,從而得到圖10所示的圖像重建結(jié)果。

        圖10 圖像重建結(jié)果對(duì)比

        通過(guò)以上結(jié)果看出,經(jīng)L1正則化算法重構(gòu)的圖像,與真實(shí)的金屬材料缺陷分布對(duì)比,兩者之間更加接近。由此說(shuō)明,本文采用的L1正則化算法在圖像重構(gòu)方面,更具有優(yōu)勢(shì)。

        5 結(jié) 論

        本文通過(guò)構(gòu)建L1正則化算法對(duì)電磁層析成像圖像進(jìn)行重建,實(shí)驗(yàn)表明本文的構(gòu)建方案所得到的結(jié)果與金屬材料缺陷的真實(shí)分布更加接近。說(shuō)明本文構(gòu)建的算法具有可行性。但是對(duì)上述的結(jié)果來(lái)說(shuō),影響圖像重建的因素不只是算法,還有激勵(lì)信號(hào)等。對(duì)此在接下來(lái)的研究中,還需進(jìn)一步探討。

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