于艷玲　李燕　苑慧敏

摘要：注入剖面是油田勘探開發(fā)中監(jiān)測(cè)井下開采層位特性變化重要的方法之一。精細(xì)的注入剖面測(cè)井剖面可以確定注入效果、注入層位、評(píng)價(jià)壓裂效果和檢測(cè)竄槽層段，廣泛的應(yīng)用可以為生產(chǎn)動(dòng)態(tài)分析和井內(nèi)工程技術(shù)診斷提供重要依據(jù)。高精度層內(nèi)注入剖面測(cè)井技術(shù)，是利用跟蹤醫(yī)用碘化鈉示蹤液與井下注入液同步運(yùn)行的特點(diǎn)監(jiān)測(cè)注入液速度，同時(shí)利用了常規(guī)固態(tài)顆粒同位素注入剖面技術(shù)特點(diǎn)，既能監(jiān)測(cè)各種注入條件的單層吸水參數(shù)，又能及時(shí)有效的對(duì)單層吸水進(jìn)行層內(nèi)細(xì)分解釋，是一項(xiàng)精度很高的注入剖面測(cè)井方法。

關(guān)鍵詞：注入剖面;層內(nèi)細(xì)分

一、測(cè)井儀器

1、地面儀器設(shè)備。目前我們所用的地面數(shù)控設(shè)備軟件和硬件能滿足各類生產(chǎn)測(cè)井項(xiàng)目。

2、井下儀器。井下儀器配置連接如圖：

電纜頭、數(shù)據(jù)處理單元、磁定位、自然伽瑪1、自然伽瑪2、屏蔽單元、示蹤噴射儀（液態(tài)、固態(tài)）、加重單元（CPU、CCL、GR1、GR2、S1、PS、 S2，可加入GR3）。

以上儀器除示蹤噴射儀和釋放器外，其它部分和常規(guī)同測(cè)井儀器全部兼容。

二、現(xiàn)場(chǎng)施工工藝。測(cè)井施工工藝主要采用的是等待監(jiān)測(cè)法，在上部目的層注入量特別小的時(shí)候也可以采用追蹤測(cè)井法。

1、等待監(jiān)測(cè)法。儀器連接以及井下位置如圖（該圖是測(cè)量地層1和地層2之間流量差的施工示意圖）。

等待法監(jiān)測(cè)施工具體過程如下：

1.1、施工設(shè)計(jì)編寫。相關(guān)流量測(cè)井根據(jù)注入井的特點(diǎn)提前設(shè)計(jì)施工方案，主要是確定以下幾個(gè)參數(shù)，其它內(nèi)容以及方案模式可以根據(jù)實(shí)際情況確定。

a、測(cè)點(diǎn)數(shù)以及同位素用量：測(cè)點(diǎn)數(shù)=（注入層數(shù)+1）+（1-5）驗(yàn)證點(diǎn)數(shù)。確定點(diǎn)數(shù)一方面可以計(jì)劃施工時(shí)間，另一方面可以確定同位素液量，做到用量合適。

b、測(cè)點(diǎn)深度：提前做好測(cè)點(diǎn)下深設(shè)計(jì)，查閱各類井下資料，確定測(cè)點(diǎn)處管壁正常，盡量避開變形處。

c、儀器連接方式：根據(jù)井下管柱特性確定儀器連接順序和屏蔽桿的位置設(shè)計(jì)。如喇叭口在所有注入層以下，就采用如圖1的儀器連接模式，如喇叭口在目的層以上，就要將噴射單元設(shè)計(jì)到數(shù)據(jù)處理單元以上，若注入量大還要適當(dāng)加長(zhǎng)屏蔽桿，并且在測(cè)井時(shí)要盡量減少同位素噴射量，避免儀器過載;分注井內(nèi)要提前根據(jù)主力層位置和配水嘴上下層數(shù)確定儀器連接方式，盡量一次施工完畢。

1.2、測(cè)井現(xiàn)場(chǎng)施工規(guī)范與常規(guī)同位素測(cè)井基本相同。（除儀器連接方式和同位素內(nèi)置方式不同，儀器下井順序以及地面設(shè)備停置、各類儀器調(diào)試正常操作）

1.3、首先測(cè)全井GR曲線，流溫曲線。要求曲線重復(fù)性95%以上。（GR曲線可以作為現(xiàn)場(chǎng)校深確定測(cè)點(diǎn)深度的依據(jù)，也可以為追蹤法確定解釋數(shù)據(jù)提供基礎(chǔ);井溫?cái)?shù)據(jù)可以作為資料綜合分析依據(jù)）

全井流量測(cè)井：儀器停置喇叭口和最下層之間，開啟測(cè)井模式，使GR1、GR2同時(shí)數(shù)據(jù)采集，啟動(dòng)噴射，監(jiān)測(cè)同位素在完全經(jīng)過儀器后完成。依次向上各點(diǎn)按此操作進(jìn)行，噴射時(shí)間要根據(jù)變化靈活掌握。

2、追蹤監(jiān)測(cè)法。對(duì)于注入量特別少但是甲方要求精確測(cè)量的才采用此法。此法就是在同位素噴射后，儀器上下來回進(jìn)行勻速監(jiān)測(cè)，通過適時(shí)監(jiān)測(cè)同位素運(yùn)行速度計(jì)算出流量在全井的變化。

3、各層段注入量測(cè)井完畢后，釋放固體顆粒同位素，監(jiān)測(cè)全井目的層的同位素變化，運(yùn)行軌跡追蹤，測(cè)得不同時(shí)間的追蹤曲線。

三、解釋方法（常規(guī)流量計(jì)算、識(shí)別流量特點(diǎn)、校對(duì)異常數(shù)據(jù)）

1、常規(guī)計(jì)算法：采用流速=流量*時(shí)間

全井流速：V全井=M/（T2全井-T1全井）

V：流速

T2：GR2接受到同位素峰值時(shí)間

T1：GR1接受到同位素峰值時(shí)間

M：（3.14*0.062*0.062-3.14*0.037*0.037）*H

H：GR1和GR2探頭之間距離

地層2流量：V2=M/（T22-T12）

2、識(shí)別流量特點(diǎn)。隨著流量的減少，同位素波形會(huì)出現(xiàn)峰值不明顯，需要對(duì)比雙GR儀器反映的形態(tài)確定峰值，計(jì)算出時(shí)間差。

3、校對(duì)數(shù)據(jù)異常。當(dāng)出現(xiàn)流量計(jì)算上下矛盾時(shí)，要考慮各類客觀因素影響，保證數(shù)據(jù)準(zhǔn)確。

4、根據(jù)同位素軌跡曲線，計(jì)算每個(gè)層的細(xì)分水量百分比。

四、該測(cè)井方法的優(yōu)點(diǎn)。

1、由于采用液態(tài)同位素計(jì)算層間流量，同位素在井下和完全同步運(yùn)行，解決了常規(guī)同位素在井下易污染無法測(cè)井成功的難題。

2、解決洗井難題。長(zhǎng)期注入井洗井基本難于達(dá)到常規(guī)同位素測(cè)井要求，此方法可以進(jìn)行不洗井測(cè)井，解決了長(zhǎng)期困擾的洗井難題。

3、非注入水的生產(chǎn)井無法用常規(guī)同位素測(cè)井，比如注聚的生產(chǎn)井，該方法可以完全解決此問題。

4、對(duì)于需要細(xì)分層位的井，該方法能提供精確的注入剖面。

5、我們加入三伽瑪測(cè)井，使測(cè)試資料達(dá)到前兩種方法無法達(dá)到的準(zhǔn)確度，但是設(shè)備成本投入特別是后期保養(yǎng)成本遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于氧活化測(cè)井，有很大的適用價(jià)值。