張敬慧
(海軍駐齊齊哈爾地區(qū)某部 齊齊哈爾 161041)
發(fā)煙彈作為特種彈中一個品種,它在戰(zhàn)爭中起到特殊而重要的作用[1]。其煙幕的質(zhì)量濃度和粒度分布是影響煙幕遮蔽性能的主要因素。隨著新產(chǎn)品研發(fā)技術的不斷發(fā)展,要進一步提升發(fā)煙彈的效能必須對新型發(fā)煙劑的測試方法進行改進,從而選用最恰當?shù)牟牧虾团浔全@得最佳的發(fā)煙效能[2]?,F(xiàn)有的測試方法已不能完全滿足新產(chǎn)品研發(fā)需求,例如吸濕性煙幕的質(zhì)量濃度和粒度分布用濾膜稱重法、電子顯微鏡法就無法實現(xiàn)精確測量。而利用激光散射技術可以實現(xiàn)所有煙幕的質(zhì)量濃度和粒度分布測量。
米氏散射理論表明,當激光束遇到粒子阻擋時,一部分光將發(fā)生散射現(xiàn)象,散射光的傳播方向將與主光束的傳播方向形成一個夾角θ,θ角的大小與粒子的大小有關,粒子越大,產(chǎn)生的散射光的θ角就越小;粒子越小,產(chǎn)生的散射光的θ角就越大。即小角度(θ)的散射光是有大顆粒引起的;大角度(θ)的散射光是由小粒子引起的[3]。散射光的強度代表該粒徑粒子的數(shù)量。為了測量不同角度上的散射光的光強,需要運用光學手段對散射光進行處理。我們在光束中適當?shù)奈恢蒙戏胖靡粋€光學透鏡,在該透鏡后焦平面上放置一組多元光電探測器,不同角度的散射光通過光學透鏡照射到多元光電探測器上時,光信號將被轉換成電信號,再通過專用軟件對這些信號進行處理,就會準確地得到粒度分布。進而計算出煙幕質(zhì)量濃度[4],測試原理見圖1。
粒度分布與入射光之間的光散射規(guī)律服從經(jīng)典的米氏理論(Mie Theory),它適用于一切大小和不同折射率的球形顆粒[5]。按照Mie理論,當一束強度為I0的自然光入射到各向同性的球形微粒時,其散射光強為
由光強公式(1),可求出單個煙幕粒子在多元光電探測器第n環(huán)上的散射光能為
圖1 試驗原理示意圖
圖2 粒子散射光能分布與粒度之間的關系
當測量區(qū)中有多個相同大小的粒子時,總散射光能是單個粒子散射光能與粒子數(shù)的乘積。而當出現(xiàn)在測量區(qū)中的所有粒子大小不等時,情況較為復雜。對此,可將這些出現(xiàn)在測量區(qū)中大小不一的粒子劃分為幾個組,每個組對應不同的粒徑區(qū)間,屬于某一個區(qū)間中的粒子可看作同等大?。?]。則在多元光電探測器第n環(huán)上的散射光能為來自于所有粒徑區(qū)間的全部粒子散射光能的累加,即
考慮到通常情況下粒度分布按照粒子在不同粒徑區(qū)間的重量劃分,上式可轉化成如下形式:
或改寫為
C″為常數(shù)(在數(shù)據(jù)處理過程中可忽略不計)。式(5)也可更簡單地寫成矩陣形式,即
上式就是用Mie散射理論計算粒子在光電探測器各環(huán)上散射光能分布的計算公式。由于Mie散射理論自身比較復雜,對它的各有關物理量的計算常需編制專門的計算程序方能進行。
式(5)或者式(6)建立了散射光能與粒徑之間的對應關系,如果粒子的尺寸分布(W1,W2,…,WK)已知,則由該式就可求得多元光電探測器上各個環(huán)的散射光能量(E1,E2,…,EM)。反之,如果由光電探測器檢測到某一粒子在各個環(huán)上的散射光能分布,通過逆運算能夠計算出與這個光能分布相對應的粒度分布。
目前所采用的逆運算方法大致上可以分為兩大類,即分布函數(shù)限定法(又稱非獨立模式法)及自由分布法(又稱獨立模式法)。
分布函數(shù)限定法和自由分布算法在求解粒徑分布時各有特點,不能絕對地說哪一個解法更好一些。分布函數(shù)限定解法的優(yōu)點是求解速度比較快,適用于被測粒子的尺寸分布規(guī)律已知的場合。自由分布算法雖然比較復雜一些,但它可以用于被測粒子的尺寸分布規(guī)律未知或其分布規(guī)律比較復雜的情況[8~9]。
分布函數(shù)限定法:在分布函數(shù)限定法中,預先假定被測顆粒的尺寸分布符合某個特定的函數(shù)規(guī)律,常用的有R-R分布和對數(shù)正態(tài)分布NG。
在R-R分布中,假定粒徑分布W即Wi≥0(i=1,2,…,K)滿足:
而在NG分布中,假定粒度分布滿足對數(shù)正態(tài)分布:
自由分布算法:自由分布算法較多,如迭代方法、投影算法、松弛算法、神經(jīng)網(wǎng)路方法等。本文采用了投影方法,即把線性方程組中的每一個線性方程看作多維空間中的一個平面,線性方程組的解就是這許多平面的一個交點。因此,在多維空間中任意一點出發(fā)依次向各個平面投影,每次投影得到的點作為下一次投影的出發(fā)點,如此循環(huán)。則投影點將無限逼近交點即線性方程組的解。
多元光電探測器的中心設置一個小孔,小孔后安裝一個光電二極管,用于探測入射光強度和透射光信號強度。當測量區(qū)中不存在粒子時,接收到的是入射光強度;當存在粒子時,入射光中一部分光能被粒子散射和吸收,因此光電二極管的信號減弱,這種效應稱為消光現(xiàn)象。通常定義透射光的強度與入射光強度之比為透過率,用符號T表示,見圖3。
圖3 多元光電探測器示意圖
透過率與粒度分布組合可求解得到粒子濃度信息。透過率T和粒度分布函數(shù)W存在關系:
從理論上說,在不同濃度下測量得到的粒度分布函數(shù)應該一致的。而濃度不同導致透過率信號變化。因此,通過式(9),可以確定比例系數(shù)β并由此得到濃度CV。其關系如下:
然而,需要說明的是,以上關于粒度分布和濃度的測量都是建立在球形顆?;A上。而煙霧粒子通常是非球形的,因此,測量得到的粒度分布會與實際情況稍有差別,這也導致測量得到的濃度偏離真值。所以,應在實際測量中對每種樣品的球形度有個估計,或者對測量結果進行標定。
測試系統(tǒng)根據(jù)Mie散射理論設計,由探測裝置、信號采集模塊和計算機三部分構成。其中:探測裝置包括激光發(fā)射器、擴束器、光學透鏡、測量區(qū)、接收透鏡、光電探測器、信號處理模塊等組成;數(shù)據(jù)采集模塊負責將探測裝置輸出的模擬信號轉化成數(shù)字信號送計算機處理;計算機需安裝的軟件包含了信號分析模塊、結果顯示模塊、結果打印模塊和結果保存調(diào)用模塊[10]。其中,探測裝置結構如圖4所示。
圖4 探測裝置示意圖
探測裝置采用金屬材料(如鋁合金或不銹鋼等)加工,外徑約為100mm,測量區(qū)光程L=150mm,寬60mm;
半導體激光器輸出波長633μm、額定功率大于10mW;
粒徑測量范圍為:1μm~60μm;
透過率范圍為:0.3~0.95;
測量重復度優(yōu)于2%。
首先,可測量的粒子濃度存在上限(最大濃度)和下限(最小濃度),當粒子濃度過高時,光散射中包含復散射成份(即顆粒的散射光再次被散射)增加,這會導致測量結構偏離實際情況;當粒子濃度過低時,散射光信號較弱,測量容易受雜散光影響。因此,測量區(qū)長度應考慮實際的測量需求合理地設計,使可測量濃度的上限和下限覆蓋大部分測試情況,濃度范圍以透過率表示為0.3~0.95之間最佳。對應的濃度可依據(jù)粒子平均粒徑由如下公式計算:
其次,可測量的粒徑范圍也存在上限(即最大粒徑)和下限(最小粒徑),這涉及到接收透鏡焦距、光電探測器參數(shù)、測量區(qū)長度這些參數(shù),而測量區(qū)長度又關聯(lián)到發(fā)射端和接收端光學系統(tǒng)的保護等技術問題??紤]上述諸多因素采用了專門設計加工的多元光電探測器與焦距為150mm的接收透鏡搭配。其最佳測量粒徑范圍為1μm~60μm。
第三,探測裝置光學系統(tǒng)的防污染問題。煙塵顆粒很容易污染光學系統(tǒng),這會影響系統(tǒng)的工作性能和使用壽命。系統(tǒng)采用保護氣達到防污染目的。在探測系統(tǒng)工作時,應調(diào)整供氣氣壓,即能保護光學系統(tǒng)不受污染,同時又要避免保護氣壓力過大導致測量區(qū)中粒子被吹散從而影響測量結果[11]。
包含了信號分析模塊、結果顯示模塊,如圖5所示,結果打印模塊和結果保存調(diào)用模塊。其中,信號分析模塊:數(shù)據(jù)采集模塊將信號送入信號分析模塊,該模塊提供了三種分析模式,即Freedom分布模式、RR分布模式、NG分布模式。根據(jù)數(shù)據(jù)采集模塊送入的中心孔信號和散射光信號演算出粒度分布和濃度數(shù)據(jù)信息。在測量中根據(jù)要求可以選擇三種模式中的一種。結果顯示模塊:模式分析出來的數(shù)據(jù)結果按三種方式進行顯示、單次采集的結果詳細信息顯示、包括兩根探針的顆粒分布詳細信息和關鍵結果顯示、數(shù)據(jù)對比圖、連續(xù)測量結果趨勢圖;結果輸出、保存模塊主要負責對計算機處理完成的數(shù)據(jù)進行打開、保存和打印預覽、打印的功能[12]。
圖5 結果顯示示意圖
通過對可用于煙幕質(zhì)量濃度、粒度分布測量的原理及試驗設備技術實施途徑、結構設計、軟件設計等技術內(nèi)容進行了詳細論述。經(jīng)過驗證其原理正確、實施技術途徑可行、操作方便,只要對不同檢測對象的探測區(qū)長度、激光發(fā)射器輸出功率進行合理設計,并適當控制煙幕濃度等條件,文中論述的試驗設備完全可用于煙幕質(zhì)量濃度、粒度分布等物理參數(shù)的測量。