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        前驅(qū)體法制備Ta4HfC5超純超細(xì)納米粉體

        2019-03-28 07:59:48孫婭楠陳鳳華張永慶韓偉健
        宇航材料工藝 2019年6期
        關(guān)鍵詞:固溶體前驅(qū)粉體

        孫婭楠 陳鳳華 張永慶 韓偉健 趙 彤

        (中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所,北京 100190)

        文 摘 利用實(shí)驗(yàn)室自制鉿酸酯和鉭酸酯為原料,經(jīng)水解縮合后得到了含鉿鉭元素的聚合物PHT,引入酚醛(PF)作為C源,制備了Ta4 HfC5前驅(qū)體,經(jīng)固化、高溫裂解后,獲得了超純超細(xì)Ta4 HfC5納米粉體。通過(guò)XRD、元素分析和SEM對(duì)不同工藝條件下陶瓷產(chǎn)物的晶相組成和微觀形貌進(jìn)行了表征;對(duì)陶瓷粉體進(jìn)行了粒度分析。結(jié)果表明,合成的前驅(qū)體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,常溫避光儲(chǔ)存3個(gè)月后黏度幾乎沒(méi)有變化,對(duì)于復(fù)材加工的工藝適應(yīng)性良好。在酚醛用量3.25 wt%(以PHT質(zhì)量分?jǐn)?shù)100%計(jì)算)、煅燒溫度為1 450℃、保溫時(shí)間為1.5 h的合成條件下,可以得到純相的Ta4 HfC5粉體,晶粒尺寸為25~50 nm,粒徑分布在100~200 nm之間,Dv(50)=136 nm。

        0 引言

        超高溫陶瓷(UHTCs)通常指熔點(diǎn)超過(guò)3 000℃的一類陶瓷材料,其中包括Hf、Ta、Zr等金屬的碳化物、硼化物和氮化物[1]。他們不僅具有超高的熔點(diǎn),還具有高熱導(dǎo)率、高模量、較大的高溫強(qiáng)度和抗氧化性等特點(diǎn)。隨著航空航天領(lǐng)域的發(fā)展,超高溫、強(qiáng)沖刷、高熱流的服役環(huán)境對(duì)飛行器前緣和鼻錐、固體火箭發(fā)動(dòng)機(jī)等關(guān)鍵部件的耐高溫性能均提出了苛刻的要求[2-4]。

        高溫陶瓷在20世紀(jì)六七十年代,由美國(guó)空軍首次開(kāi)發(fā),主要用于高超音速導(dǎo)彈、航天飛機(jī)等飛行器的熱防護(hù)系統(tǒng)[5]。超高溫陶瓷作為機(jī)翼前緣、端頭帽以及發(fā)動(dòng)機(jī)的熱端,是難熔金屬、C/C(C/SiC)材料的最佳替代者[6]。

        在超高溫陶瓷體系中,碳化鉿、碳化鉭的熔點(diǎn)Tm分別為3 900和3 880℃,由于二者晶型相同、晶格參數(shù)相近,因此可以任意比例形成鉿鉭碳固溶體,如固溶體Ta4HfC5熔點(diǎn)高達(dá)3 942℃,是當(dāng)前世界上已知熔點(diǎn)最高的物質(zhì)[7]。自1930年鉿鉭碳固溶體具有比碳化鉿和碳化鉭更高熔點(diǎn)這一物理性質(zhì)反?,F(xiàn)象首先被Aget報(bào)道后,鉿鉭碳固溶體在超高溫陶瓷領(lǐng)域的應(yīng)用前景越來(lái)越受到重視[8]。美國(guó)宇航局進(jìn)行了ZrC、HfC、HfB2等陶瓷的高溫性能測(cè)試,結(jié)果證明鉿基陶瓷的性能優(yōu)于鋯基陶瓷,是應(yīng)用于極端環(huán)境關(guān)鍵部件最有前途的候選材料[9-10]。

        傳統(tǒng)鉿鉭碳超高溫陶瓷的制備主要通過(guò)固相反應(yīng)實(shí)現(xiàn),即通過(guò)球磨等方式將鉿鉭碳化物均勻分散,而后經(jīng)高壓、高溫(~50 MPa,>2 000℃)條件使二者發(fā)生固溶反應(yīng)得到固溶體[11-14]。該方法對(duì)成型設(shè)備要求較高,且更適用于塊材制備,較難應(yīng)用于復(fù)合材料;另外,固相反應(yīng)時(shí)效低、產(chǎn)物顆粒尺寸范圍相對(duì)較寬,對(duì)材料產(chǎn)生性能降級(jí)。前驅(qū)體法由于其元素分子級(jí)別分散和結(jié)構(gòu)可設(shè)計(jì)的優(yōu)勢(shì)而具有低合成溫度和多樣性的特點(diǎn)。2011年俄羅斯科學(xué)院通過(guò)溶膠-凝膠方法制備得到了鉿鉭碳粉體,Hf、Ta、C原子在凝膠中處于分子級(jí)別的分布,從而減小碳熱還原反應(yīng)過(guò)程中HfO2與Ta2O5的相分離程度,使得合成溫度明顯降低,為鉿鉭碳三元陶瓷提供了一種前驅(qū)體法的合成路線[15]。國(guó)防科技大學(xué)采用溶劑熱法制備了鉿鉭碳粉體,在該方法中,1 000℃即出現(xiàn)鉿鉭碳的固溶體,并且隨著溫度的升高,固溶體的形成逐漸完善,在1 600℃獲得純相的鉿鉭碳粉體,粒徑約為80 nm[16]。佛羅里達(dá)國(guó)際大學(xué)以HfCl4和TaCl5為原料制備得到了水相的前驅(qū)體,通過(guò)減少過(guò)量的碳及外電場(chǎng)(如放電等離子燒結(jié))加快原子的擴(kuò)散速率,在1 600℃下保溫15 min獲得了純相的鉿鉭碳粉末[17]。

        本文合成了一種Ta4HfC5前驅(qū)體,分別對(duì)其化學(xué)穩(wěn)定性、陶瓷產(chǎn)率、黏度等參數(shù)進(jìn)行了表征,探究其前驅(qū)體浸漬裂解法(PIP)制備超高溫陶瓷基復(fù)合材料應(yīng)用的可行性。同時(shí)探究前驅(qū)體碳含量、陶瓷化煅燒溫度和保溫時(shí)間等因素對(duì)Ta4HfC5陶瓷微結(jié)構(gòu)的影響。

        1 實(shí)驗(yàn)

        1.1 材料合成

        以鉿酸酯和鉭酸酯(均為本課題組合成)為原料,按照物質(zhì)的量比Ta∶Hf=4∶1投料,經(jīng)水解后,復(fù)配酚醛(PF)作為碳源,得到澄清的Ta4HfC5前驅(qū)體。前驅(qū)體樣品室溫避光儲(chǔ)存3個(gè)月后重測(cè)黏度。

        取Ta4HfC5前驅(qū)體于鼓風(fēng)干燥箱中,升溫至250℃,保溫2 h,得到Ta4HfC5固化樣品。

        取Ta4HfC5固化樣品于氬氣氣氛下,高溫石墨爐中1 350~1 450℃煅燒1.5~3 h,得到Ta4HfC5納米陶瓷粉體。

        1.2 測(cè)試

        前驅(qū)體的黏度測(cè)試:采用上海平軒科學(xué)儀器有限公司NDJ-79型號(hào)旋轉(zhuǎn)黏度計(jì),參照GJB1059.2—90于室溫下進(jìn)行測(cè)試。

        XRD分析采用CuKα(λ=0.154 060 nm)輻射源,在日本理學(xué)D/max 2500 X射線衍射儀上進(jìn)行測(cè)試,掃描角度范圍為3°~100°,掃描速率為8°/min。

        采用美國(guó)Thermal公司生產(chǎn)的IRIS IntrepidⅡ型電感耦合等離子光譜儀(ICP-OES)測(cè)試樣品的Hf、Ta元素含量。C含量采用LECO CS844碳硫分析儀測(cè)試。采用日本Hitachi S4800型掃描電子顯微鏡進(jìn)行表面微觀形貌觀察。采用JEOL JEM-2100F透射電鏡在200 kV加速電壓下觀察樣品。采用Malvern Mastersizer 3000型激光粒度儀對(duì)陶瓷粉末樣品粒徑進(jìn)行測(cè)試。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 儲(chǔ)存時(shí)間對(duì)前驅(qū)體黏度的影響

        對(duì)前驅(qū)體樣品的固體含量、陶瓷產(chǎn)率及儲(chǔ)存3個(gè)月后的黏度數(shù)據(jù)進(jìn)行檢測(cè)。前驅(qū)體樹(shù)脂初始黏度為100 mPa·s,固體含量為78.10wt%,液相陶瓷產(chǎn)率為33.82wt%;常溫避光儲(chǔ)存3個(gè)月后,溶液保持澄清透明,黏度102 mPa·s??梢钥闯觯膀?qū)體樹(shù)脂具有黏度適中,高固體含量、高陶瓷產(chǎn)率、儲(chǔ)存穩(wěn)定性好的特點(diǎn),滿足浸漬用陶瓷基復(fù)合材料的加工窗口。

        2.2 碳含量對(duì)陶瓷粉體的影響

        分別配制碳為PF含量3wt%、3.25wt%、3.5wt%(以PHT質(zhì)量分?jǐn)?shù)100%計(jì)算)的Ta4HfC5前驅(qū)體,經(jīng)固化、1 450℃高溫石墨爐裂解3 h后,進(jìn)行XRD分析,結(jié)果見(jiàn)圖1(a)。PF用量為3wt%時(shí),陶瓷粉末由不定化學(xué)計(jì)量比的TaxHfyCz固溶體、TaC(PDF35-801)和少量的Ta2O5(PDF25-922)組成;PF用量為3.25wt%和3.5wt%時(shí),XRD圖顯示為單一物相的衍射峰,證明均可獲得純相Ta4HfC5,由此推斷3.25 wt%的PF可為該反應(yīng)提供足量碳源。

        圖1 不同條件的陶瓷粉體XRD圖Fig.1 XRD patterns of ceramic powders with diverse treatments

        2.3 煅燒溫度對(duì)陶瓷粉體的影響

        將碳含量為3.25wt%PF的固化樣品置于石墨爐中,氬氣氣氛下分別煅燒1 350、1 400、和1 450℃,保溫3 h,獲得的Ta4HfC5陶瓷粉體XRD圖如圖1(b)所示。溫度1 350和1 400℃時(shí),衍射峰具有展寬現(xiàn)象,為兩個(gè)角度相近的峰,分別歸屬于TaxHfyCz和TaC。溫度上升至1 450℃時(shí),XRD圖呈現(xiàn)Ta4HfC5單一晶相的衍射峰;表明1 450℃保溫3 h后,可以得到純相Ta4HfC5固溶體。

        2.4 保溫時(shí)間對(duì)陶瓷粉體的影響

        將碳含量為3.25 wt%PF的固化樣品于1 450℃分別保溫1.5、2和3 h得到相應(yīng)樣品。通過(guò)XRD、ICP和SEM對(duì)不同保溫時(shí)間的樣品進(jìn)行晶相組成、元素組成和微觀形貌的表征。

        由圖1(c)可知,1~3 h保溫時(shí)間均可以得到純相的Ta4HfC5粉體,隨保溫時(shí)間延長(zhǎng),衍射峰逐漸變得尖銳;由Scherrer公式計(jì)算可得,保溫1.5、2、3 h的晶粒尺寸分別為17、20、27 nm,呈逐漸增大趨勢(shì)。

        對(duì)不同保溫時(shí)間得到的粉體進(jìn)行元素分析,結(jié)果見(jiàn)表1。保溫時(shí)間對(duì)陶瓷粉體的元素組成影響很小,不同溫度下各元素含量幾乎沒(méi)有變化。考慮儀器誤差的因素,元素質(zhì)量加和結(jié)果表明該粉體的氧含量極低。

        表1 陶瓷粉體元素分析結(jié)果Tab.1 Element analysis of ceram ic powder samp les

        從圖2可以看出,保溫1.5 h時(shí),粉體顆粒形狀規(guī)整,呈現(xiàn)堆積狀,熔接情況較少,且顆粒分布均勻,粒徑25~50 nm;隨著保溫時(shí)間增加到2 h,粒徑無(wú)明顯增長(zhǎng),但開(kāi)始有明顯熔接團(tuán)聚現(xiàn)象,團(tuán)聚尺寸約為500 nm;保溫時(shí)間為3 h,晶粒二次生長(zhǎng),粒徑介于100~200 nm之間,形狀變得不規(guī)則,熔接現(xiàn)象明顯,大塊團(tuán)聚尺寸近1μm。

        圖2 1450℃不同保溫時(shí)間的樣品SEM圖像Fig.2 SEM micrographs of samples calcinated at 1450℃with diverse soaking time

        進(jìn)一步對(duì)碳含量PF%=3.25 wt%,煅燒溫度為1 450℃,保溫時(shí)間為1.5 h的粉體樣品進(jìn)行元素分布情況探究,圖3可以看出,Hf、Ta、C三種元素分布均勻,并未發(fā)生元素聚集的情況。

        圖3 樣品1 450℃保溫時(shí)間1.5 h的SEM圖及元素分布圖Fig.3 SEM image and elemental distribution of the sample calcinated for 1.5h at 1450℃

        2.5 陶瓷粉體的粒度分析

        將碳含量為3.25wt%PF,煅燒溫度為1 450℃,保溫時(shí)間為1.5 h得到的粉體樣品以乙醇為分散劑,進(jìn)行TEM表征和激光粒度分析,從圖4(a)可以看出,粉末樣品粒徑25~50 nm,同相應(yīng)SEM圖中數(shù)值相當(dāng),同時(shí)存在一定的團(tuán)聚現(xiàn)象;進(jìn)一步通過(guò)激光粒度分析表征粉體粒徑,結(jié)果顯示粉體粒徑分布在100~200 nm范圍[圖4(b)],Dv(50)=136 nm,Dv(90)=202 nm,印證粉末樣品為小顆粒團(tuán)聚體。

        圖4 陶瓷粉末樣品粒度分析Fig.4 Particle size analysis of ceramic powder samples

        3 結(jié)論

        (1)通過(guò)鉿酸酯和鉭酸酯共水解合成了Ta4HfC5陶瓷前驅(qū)體,該前驅(qū)體性質(zhì)穩(wěn)定,具有低黏度、高陶瓷產(chǎn)率的特點(diǎn),適于浸漬用制備陶瓷基復(fù)合材料的制備。

        (2)優(yōu)選得到了最佳工藝條件:C含量(PF%=3.25 wt%)、制備陶瓷粉體的煅燒溫度(1 450℃)和保溫時(shí)間(1.5 h);得到的Ta4HfC5超純超細(xì)粉體粒徑為25~50 nm,平均粒徑分布在100~200 nm之間,Dv(50)為136 nm,Dv(90)為202 nm。

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