蘇 佳,張 森,袁巨龍,呂冰海
(浙江工業(yè)大學(xué) 超精密加工研究中心,浙江 杭州 310014)
軸承是裝備制造業(yè)中重要的零部件[1-2]。軸承中的滾動體承受著軸承絕大部分載荷,約60%~70%的軸承失效是由于滾動體的損壞所致[3-5]。
圓柱滾子作為軸承的一種滾動體,其精度及批一致性對軸承的性能和壽命起到至關(guān)重要的作用。圓柱滾子軸承中滾動體與滾道為線接觸,主要承受徑向負(fù)荷,負(fù)荷能力大,滾動體與套圈擋邊摩擦小,適用于高速旋轉(zhuǎn)的工況[6-7]。因此,廣泛用于起重機、機車車輛、航空航天、醫(yī)療器械、高速機床主軸等領(lǐng)域。
圓柱滾子外圓常用的加工方法有無心外圓磨削和超精研、定心往復(fù)超精研、電化學(xué)機械復(fù)合光整、磁流體研磨等。目前,國際先進(jìn)無心加工技術(shù)可批量加工圓柱滾子外圓,其圓度達(dá)到0.1 μm~0.3 μm[8]。KIM等學(xué)者[9]采用3 μm粒徑的Al2O3磨料對鈦合金圓柱進(jìn)行了定心往復(fù)超精研加工,工件表面粗糙度Ra達(dá)到0.019 μm;大連理工大學(xué)的徐文冀教授、魏澤飛博士等[10]利用電化學(xué)機械復(fù)合光整技術(shù)加工圓柱滾子,表面粗糙度Ra從初始的0.087 μm降至0.023 μm,圓度從初始的0.93 μm降至0.39 μm;UMEHARA和KATO[11]利用的磁流體加工裝置超精研陶瓷滾子外圓,圓度從16.65 μm降至4.25 μm,采用3 μm的Cr2O3磨料獲得了最好的表面質(zhì)量,表面粗糙度Ra平均達(dá)到0.029 μm,最大達(dá)到0.091 μm,最小達(dá)到5 nm。
拋光作為工件加工的終極手段,常用于圓柱滾子研磨后的一道工序,以消除研磨加工后留下的表面劃痕,從而獲得高質(zhì)量的鏡面表面。傳統(tǒng)雙平面拋光廣泛應(yīng)用在石英玻璃、硅片、玻璃顯示面板、藍(lán)寶石片、光學(xué)水晶等平面元件的精密加工領(lǐng)域[12-14]?;趥鹘y(tǒng)雙平面加工,浙江工業(yè)大學(xué)的袁巨龍教授團隊[15]提出了一種基于雙平面方式加工圓柱滾子圓柱面的加工方法。
為了進(jìn)一步改善圓柱滾子的外圓表面質(zhì)量,基于雙平面偏心轉(zhuǎn)擺式拋光圓柱滾子的加工方法,本文將進(jìn)行拋光實驗研究。
圓柱滾子研磨的目的主要是修整圓柱滾子的幾何精度和尺寸精度,拋光的目的是進(jìn)一步改善圓柱滾子工件的表面質(zhì)量。
基于雙平面偏心轉(zhuǎn)擺式拋光圓柱滾子的加工機構(gòu)示意圖如圖1所示。
圖1 偏心式圓柱滾子加工機構(gòu)示意圖
加工機構(gòu)主要包括:上研磨盤、下研磨盤、偏心輪、保持架、齒圈。上研磨盤和下研磨盤同軸放置;偏心輪幾何中心與主軸中心存在偏心距;保持架中心與偏心輪幾何中心同軸;保持架外圓有齒,與外齒圈嚙合。上、下研磨盤、偏心輪、齒圈,分別由不同電機獨立驅(qū)動。
為實現(xiàn)化學(xué)機械拋光中“軟磨硬”原理,拋光前,雙平面研磨機的上研磨盤和下研磨盤必須貼上聚氨酯拋光墊。圓柱滾子放置于保持架上均勻分布的八角形槽孔里,加工載荷通過上研磨盤施加。拋光過程中,圓柱滾子在保持架、上研磨盤和下研磨盤的協(xié)同作用下做持續(xù)的做自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)運動,同時圓柱滾子在運動過程中與上研磨盤、下研磨盤發(fā)生相對運動,作復(fù)雜空間運動。
拋光液通過上盤的空隙輸送到圓柱滾子工件與上、下研磨盤接觸區(qū)域,拋光液中雙氧水和氨基乙酸與工件柱面表面的金屬材料會發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成強度較基體材料小的反應(yīng)層。與此同時,拋光液中的納米磨粒通過機械切削作用直接去除上述反應(yīng)層。在化學(xué)反應(yīng)和相對運動下產(chǎn)生機械力的交替作用下,工件柱面質(zhì)量逐漸得到改善。
本實驗所用拋光加工裝置是自主研制的雙平面研磨拋光機,如圖2所示。
圖2 雙平面研磨拋光機
實驗所用上、下研磨盤的基盤材料采用不銹鋼304;拋光墊為美國陶氏化學(xué)IC1010/Suba-IV,且拋光墊上帶有K型溝槽。
本文拋光實驗分為粗拋和精拋兩步驟,實驗所用工件為Ф20×30的GCr15圓柱滾子,工件初始表面粗糙度為0.067±0.007 μm,初始圓度為0.48±0.28 μm。實驗每組每次加工10個工件,粗、精拋加工時間各為10 min,依據(jù)參考文獻(xiàn)[13]選取一組轉(zhuǎn)速組合,即上研磨盤轉(zhuǎn)速為-76 r/min,下研磨盤轉(zhuǎn)速為84 r/min,偏心輪轉(zhuǎn)速為80 r/min,外齒圈轉(zhuǎn)速48 r/min。
拋光實驗加工參數(shù)如表1所示。
表1 拋光實驗加工參數(shù)
以表面粗糙度、圓度為評價指標(biāo),對實驗結(jié)果進(jìn)行分析。表面粗糙度測量采用日本Mitutoyo的SJ-410型粗糙度儀(精度為0.1 nm,取樣長度為4 mm),圓度采用德國MMQ400型圓度儀測量,采用金相顯微鏡觀測拋光前后工件表面形貌,用洛氏硬度計測量加工后圓柱滾子的表面硬度。
本研究中化學(xué)機械拋光液中粗拋和精拋配制方法不同,粗拋中硅溶膠的配比濃度相對較高,雙氧水的配比相對較低;精拋階段加強了化學(xué)保護作用,添加緩蝕劑苯并三氮唑保護工件表面不被化學(xué)試劑腐蝕溶解,雙氧水配比適當(dāng)提高保證化學(xué)反應(yīng)的順利進(jìn)行[16-17]。
對應(yīng)的拋光液成分如表2所示。
表2 軸承鋼化學(xué)機械拋光液組分配比表
不同加工階段的表面粗糙度如圖3所示。
圖3 不同加工階段的表面粗糙度
在經(jīng)過粗拋階段,圓柱滾子批平均表面粗糙度下降速度較快,工件初始批平均表面粗糙度由0.067 μm降低為0.032 μm,偏差由0.014 μm降為0.012 μm,改變較小。通過精拋加工,批平均表面粗糙度進(jìn)一步降低,達(dá)到0.011 μm,偏差為0.008 μm。單個圓柱滾子拋光后表面粗糙度最小可達(dá)到7 nm。
圓柱滾子拋光前后表面質(zhì)量對比如圖4所示。
圖4 拋光后滾子宏觀形貌
相比于初始時工件,拋光過后的圓柱滾子外圓表面無明顯劃痕和缺陷,達(dá)到了鏡面效果,能清晰看到“浙江工業(yè)大學(xué)”字樣的倒影。
不同加工階段圓柱滾子表面微觀形貌如圖5所示。
圖5 不同加工階段圓柱滾子表面微觀形貌(×200)
由圖5可以看出:
在拋光之前,圓柱滾子表面布滿劃痕,且有小坑等缺陷;
經(jīng)過拋光之后,工件表面形貌改善顯著,粗拋階段,圓柱滾子表面的深、長的劃痕逐漸被去除掉,拋光后的劃痕呈現(xiàn)單向性,表面粗糙度改善最大。
精拋之后,工件表面更加光整,該階段,表面粗糙度雖改變較小,但可以獲得更光滑、缺陷更少、表面質(zhì)量更好的效果。
結(jié)合參考文獻(xiàn)[15]中仿真結(jié)果分析,在相同條件下,偏心式相對于行星式,滾子圓柱面加工軌跡均勻性比較好,能獲得更好的表面質(zhì)量。
不同加工階段圓柱滾子表面硬度如圖6所示。
圖6 不同加工階段的表面硬度
粗拋加工后,圓柱滾子表面硬度由初始的HRC63±2變?yōu)镠RC58±3。經(jīng)過精拋后,圓柱滾子表面硬度變?yōu)镠RC61±1。在PH為4的環(huán)境下,粗拋階段加入質(zhì)量分?jǐn)?shù)0.015%H2O2拋光液能夠使新的軸承鋼表面氧化,在圓柱滾子表面迅速形成有氣孔的氧化鐵層,微弱強度吸附在基體上,表面硬度降低,這時工件的氧化層只能承受相對較低的機械力。氨基乙酸能夠通過螯合鐵離子強化化學(xué)溶解,從而弱化氧化層機械力。氧化層在IC1010/Suba IV拋光墊上被硅溶膠磨料磨損去除,并隨廢棄拋光液排出。底層表面會露出,并且將發(fā)生上述化學(xué)反應(yīng)和機械磨損。在精拋階段,拋光液中加入質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1.0 wt% H2O2能夠加速氧化。工件表面逐漸形成緊湊的氧化層,此時氧化層有高的機械強度。
另外,拋光液中氨基乙酸不能及時溶解氧化鐵,與此同時,BTA能夠與鐵離子反應(yīng)生成Fe-BTA鈍化膜以防止過度的機械磨損,使得圓柱滾子表面質(zhì)量進(jìn)一步改善,表面硬度提升。
不同加工階段的圓度如圖7所示。
圖7 不同加工階段的圓度
由圖7可知:
工件初始批圓度平均水平為0.48 μm,偏差在0.28 μm。經(jīng)過10 min粗拋加工后,批圓度平均水平降至0.34μm,偏差降至0.17 μm。通過10 min精拋加工,批圓度平均水平略有下降,降至0.31 um,偏差降為0.15 μm,偏差變化不大。說明圓柱滾子拋光階段對于圓柱滾子圓度改善不大,但有一定改善效果。
結(jié)合參考文獻(xiàn)[15]中仿真結(jié)果分析可知:在相同條件下,偏心式相對于行星式,圓截面的加工軌跡均勻性比較好,但差距不大;經(jīng)過上述步驟加工,單個工件圓度最小可達(dá)0.284 μm。
基于雙平面偏心轉(zhuǎn)擺式的加工方式,本文對圓柱滾子進(jìn)行了化學(xué)機械拋光實驗研究。實驗研究結(jié)果表明:
(1)經(jīng)過粗、精拋后,圓柱滾子的表面形貌改善顯著,表面加工質(zhì)量可以達(dá)到鏡面級別,圓柱滾子初始表面粗糙度由0.067 μm±0.007 μm降低為0.011±0.004 μm,單個圓柱滾子拋光后表面粗糙度最小可達(dá)到7 nm,圓柱滾子的表面粗糙度降低極大,圓柱滾子的表面質(zhì)量得到了很大提高;
(2)圓柱滾子圓度由初始0.48±0.14 μm降至0.31±0.075 um,單個工件圓度最小可達(dá)0.284 μm,在拋光過程中,圓柱滾子圓度平均水平有0.17 μm,偏差有0.13 μm的改善,工件形狀精度得到提高。