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        直下式背光模組混光結(jié)構(gòu)專利技術(shù)綜述

        2018-09-13 10:47:16王啟蒙
        科技創(chuàng)新與應(yīng)用 2018年23期
        關(guān)鍵詞:顯示背光

        王啟蒙

        摘 要:直下式背光是LCD顯示的重要組成部分,相對側(cè)入式背光,直下式背光可為LCD裝置提供更好的顯示效果,文章在直下式背光模組的混光結(jié)構(gòu)領(lǐng)域的專利文獻(xiàn)的基礎(chǔ)上,對該領(lǐng)域進(jìn)行了專利技術(shù)分析,從國內(nèi)外專利的申請情況、重要申請人等方面作了詳細(xì)的介紹。

        關(guān)鍵詞:直下式;背光;導(dǎo)光;顯示

        中圖分類號(hào):TN312+.8 文獻(xiàn)標(biāo)志碼:A 文章編號(hào):2095-2945(2018)23-0019-02

        Abstract: Direct-down backlight is an important part of LCD display. Compared with side-in backlight, direct-down backlight can provide better display effect for LCD device. This paper is based on the patent literature in the field of mixed-light structure of direct-down backlight module. This paper analyzes the patent technology in this field and gives a detailed introduction of the patent application at home and abroad as well as the important applicants.

        Keywords: direct-down; backlight; light guide; display

        引言

        隨著LED芯片制造和封裝技術(shù)的不斷發(fā)展,將LED作為背光源應(yīng)用在背光模組中得到了越來越多廠商的青睞,在小尺寸領(lǐng)域的產(chǎn)品包括手機(jī)、平板等電子設(shè)備;在中大尺寸領(lǐng)域典型的應(yīng)用有LED平板燈和LED液晶電視。按照背光源安裝位置的不同類型,LED背光模組分為側(cè)入式LED背光模組和直下式LED背光模組。

        本文基于直下式背光模組的專利申請作為分析對象,重點(diǎn)分析全球及中國范圍內(nèi)關(guān)于直下式背光模組混光結(jié)構(gòu)的申請信息、專利布局、重要申請人的技術(shù)構(gòu)成以及技術(shù)發(fā)展?fàn)顩r等信息。

        1 直下式背光模組混光結(jié)構(gòu)的發(fā)展概述

        1.1 全球?qū)@暾埛治?/p>

        圖1示出了直下式背光模組混光結(jié)構(gòu)的全球?qū)@暾堏厔?,從圖中可以看出,在全球范圍內(nèi),涉及直下式背光模組混光結(jié)構(gòu)的相關(guān)專利最早出現(xiàn)在上世紀(jì)90年代末期,而我國的專利申請最早出現(xiàn)在2003年左右。背光模組作為液晶顯示器的重要組成部分,在上世紀(jì)90年代,隨著液晶顯示器的逐漸出現(xiàn)和發(fā)展,開始出現(xiàn)結(jié)構(gòu)較為簡單的直下式背光模組的專利申請。進(jìn)入21世紀(jì)后,隨著顯示技術(shù)的不斷改進(jìn),人們越來越開始追求顯示器的顯示效果和顯示器的輕薄化,由于改善直下式背光模組的混光結(jié)構(gòu)可以有效地提升直下式背光模組顯示裝置的顯示效果和輕薄化程度,因此世界上有關(guān)直下式背光模組混光結(jié)構(gòu)的專利申請量開始迅速增長,2005-2008年起均有接近100件/年的申請量。雖然我國在這一領(lǐng)域起步較晚,然而近年來,特別是2006年以后發(fā)展迅速,自2010年起,我國的申請量連續(xù)多年均占到了全球總申請量的35%以上。

        1.2 技術(shù)原創(chuàng)國分析

        圖2顯示了直下式背光模組混光結(jié)構(gòu)領(lǐng)域在全球范圍內(nèi)專利申請的技術(shù)原創(chuàng)國的統(tǒng)計(jì)結(jié)果。

        從圖2中可以看出,韓國、中國(不含臺(tái)灣)、臺(tái)灣地區(qū)、日本和美國是該領(lǐng)域?qū)@暾埖闹饕夹g(shù)原創(chuàng)國,上述五個(gè)國家的申請量的綜合占到了全球總申請量的99%,其中韓國、中國(不含臺(tái)灣)和臺(tái)灣地區(qū)的申請量各占到了37%、27%和18%,由于世界上液晶顯示面板的生產(chǎn)研發(fā)主要都在東亞國家,中日韓三國也均有相當(dāng)多的在世界范圍內(nèi)領(lǐng)先的顯示面板制造企業(yè),因此,直下式背光模組作為一種常規(guī)的液晶面板組件,其所屬領(lǐng)域的專利申請也集中在東亞各國家和地區(qū)。

        2 技術(shù)構(gòu)成分析

        圖3和圖4示出了涉及直下式背光模組混光結(jié)構(gòu)各技術(shù)分支的專利申請?jiān)谌蚩偵暾埩恐兴急壤?。從一?jí)分支(即混光結(jié)構(gòu)各組成部分)來看,涉及擴(kuò)散板、光源和反射片的專利申請分別占到了全球總申請量的35%、29%和24%。從圖5中可以看出,對擴(kuò)散板的改進(jìn)主要集中在對其出光面和入光面結(jié)構(gòu)的改進(jìn),分別占到了全球總申請量的15%和14%。在光源方面,有關(guān)透鏡封裝體、光源陣列排布、光源安裝和光源朝向的改進(jìn)的專利分別占到了總申請量的8%、7%、6%、5%。另外,對反射片的改進(jìn)主要集中在設(shè)置特殊的反射板表面結(jié)構(gòu)以優(yōu)化混光效果。

        3 專利技術(shù)發(fā)展演進(jìn)

        本文根據(jù)直下式背光模組混光結(jié)構(gòu)領(lǐng)域的重要專利來歸納和總結(jié)該領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展演進(jìn)過程。下面將按照技術(shù)分解的順序依次介紹直下式背光模組的混光結(jié)構(gòu)的發(fā)展過程。

        首先,在光源方面,專利號(hào)為KR20050041547的韓國專利采用了透鏡結(jié)構(gòu)封裝的LED芯片作為背光模組的光源,相比傳統(tǒng)的CCFL光源,LED芯片的使用壽命更長,高達(dá)10萬小時(shí)以上。

        在擴(kuò)散板結(jié)構(gòu)方面,現(xiàn)有技術(shù)中存在涉及到改變擴(kuò)散板入光面結(jié)構(gòu)、出光面結(jié)構(gòu)、內(nèi)部結(jié)構(gòu)以及支撐結(jié)構(gòu)的專利申請。臺(tái)灣專利申請TW200530633中公開了一種擴(kuò)散板,其在入光面上設(shè)置有亞波長光柵結(jié)構(gòu),擴(kuò)散板內(nèi)部設(shè)置有散射粒子,出光面上設(shè)置有棱鏡層,光柵結(jié)構(gòu)、棱鏡結(jié)構(gòu)、擴(kuò)散板中的粒子結(jié)構(gòu)均對光線具有偏折作用,通過入射面上的光柵結(jié)構(gòu)和內(nèi)部的粒子結(jié)構(gòu),使光線在擴(kuò)散板中發(fā)生偏轉(zhuǎn),在同樣的空間中增大了光程,也就使得光線更加均勻的被混合。

        直下式背光模組中除了常規(guī)的光源、擴(kuò)散板和反射片等結(jié)構(gòu)外,還可能存在其他同樣有利于減小混光距離、實(shí)現(xiàn)設(shè)備輕薄化的光學(xué)結(jié)構(gòu)。例如韓國專利KR20080000359在光源上方設(shè)置了多層光學(xué)膜片,光學(xué)膜片具備散射光線的作用,同時(shí)在多層光學(xué)膜片之間設(shè)置了網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)將混光腔劃分形成不同區(qū)域,分別形成了空氣散光層,有助于光線的混合和混光距離的縮小。

        4 結(jié)束語

        本文詳細(xì)梳理了直下式背光模組的混光結(jié)構(gòu)相關(guān)專利的分類和各技術(shù)分支的發(fā)展?fàn)顩r,并分析了該領(lǐng)域申請量、技術(shù)原創(chuàng)國、重要申請人等信息,有助于審查員了解該領(lǐng)域的現(xiàn)有技術(shù)和發(fā)展趨勢,對涉及該領(lǐng)域的審查工作有一定幫助。

        參考文獻(xiàn):

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        [4]馬群剛.TFT-LCD原理與設(shè)計(jì)[M].北京:電子工業(yè)出版社,2011.

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