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        基于混響室的電場探頭校準(zhǔn)方法研究

        2018-05-10 08:41:16王淞宇齊萬泉
        宇航計(jì)測技術(shù) 2018年1期
        關(guān)鍵詞:混響室場強(qiáng)電場

        王淞宇 齊萬泉

        (北京無線電計(jì)量測試研究所,北京 100039)

        1 引 言

        隨著信息技術(shù)的高速發(fā)展以及大功率雷達(dá)裝備的廣泛應(yīng)用,裝備面臨的電磁環(huán)境場強(qiáng)愈來愈高。裝備外部射頻電磁輻射敏感性試驗(yàn)考核的場強(qiáng)環(huán)境要求也更高。電場探頭是測量場強(qiáng)環(huán)境的常用設(shè)備。電場探頭的校準(zhǔn)程度直接影響試驗(yàn)數(shù)據(jù)采集的準(zhǔn)確性。目前,電場探頭的校準(zhǔn)主要參照IEEE1309—2013,標(biāo)準(zhǔn)中提出在1GHz以上主要利用標(biāo)準(zhǔn)增益喇叭天線和微波暗室建立的校準(zhǔn)裝置開展電場探頭校準(zhǔn)[1]。這種方法對于電場探頭和標(biāo)準(zhǔn)增益喇叭之間的對準(zhǔn)位置要求很高,而且微波暗室內(nèi)的一些不必要的反射都會影響電場探頭校準(zhǔn)精度。目前基于微波暗室建立的場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)最高達(dá)到200V/m。電場探頭的量程達(dá)到1000V/m,實(shí)際測試的環(huán)境場強(qiáng)也遠(yuǎn)高于200V/m。為了實(shí)現(xiàn)200V/m以上電場探頭校準(zhǔn),理論上通過增加功率放大器的功率可以實(shí)現(xiàn),但是造價(jià)昂貴,而且不斷增加功率放大器的功率并不現(xiàn)實(shí)。因此,需要開展高場強(qiáng)環(huán)境下的電場探頭校準(zhǔn)方法研究。

        混響室作為一種新型的電磁兼容測試場地,相比于傳統(tǒng)的測試場地,具有測試頻帶寬、重復(fù)性好以及在測試過程中采用合適功率產(chǎn)生較高場強(qiáng)等優(yōu)勢[2][3]?;谏鲜鰞?yōu)勢,國外已經(jīng)開展利用混響室進(jìn)行電場探頭校準(zhǔn)的研究。Dennis Lewis和John Ladbury最早提出利用混響室開展電場探頭校準(zhǔn)的想法,介紹了利用混響室進(jìn)行電場探頭校準(zhǔn)的一些問題[4]。美國NIST與Liberty Labs,Inc合作,利用具有兩個(gè)攪拌器的混響室在18GHz~40GHz頻段同時(shí)對二十個(gè)電場探頭進(jìn)行了高場強(qiáng)環(huán)境下的校準(zhǔn)。本文主要研究基于混響室的電場探頭校準(zhǔn)方法,并與微波場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)下的校準(zhǔn)結(jié)果進(jìn)行對比分析,驗(yàn)證校準(zhǔn)方法的可行性。

        2 混響室場強(qiáng)定標(biāo)理論

        混響室本身是裝有攪拌器的屏蔽腔體?;祉懯抑饕抢弥C振腔原理,通過攪拌器的不斷動作改變腔體內(nèi)的電磁邊界條件,從而使屏蔽腔體內(nèi)的場分布特性不斷發(fā)生變化,在一個(gè)較大的工作區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生空間均勻、各向同性、隨機(jī)極化的電磁環(huán)境[5]。

        混響室內(nèi)某一攪拌器位置下的場強(qiáng)無法通過理論計(jì)算出來[6]。但是,混響室在一個(gè)攪拌周期內(nèi)的平均場強(qiáng)具有一定的統(tǒng)計(jì)特性,該統(tǒng)計(jì)特性對于某個(gè)攪拌位置并不適用,也不具有任何意義。混響室一個(gè)攪拌周期內(nèi)單個(gè)軸向的平均場強(qiáng)可以通過式(1)計(jì)算[7]:

        在混響室內(nèi)單個(gè)軸向的平均場強(qiáng)滿足χ2分布,即瑞利分布:

        χ6分布條件下的平均值為15σ因此,綜合場強(qiáng)的平均值可以表示為[8]:

        將式(1)代入式(5),得到式(6):

        從式(6)中可見,混響室內(nèi)的平均場強(qiáng)與平均接收功率成正比。得到平均接收功率即可以得到平均場強(qiáng)。

        因此,混響室內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)場的建立是基于一個(gè)攪拌周期內(nèi)的平均場強(qiáng),通過記錄一個(gè)攪拌周期內(nèi)不同攪拌步進(jìn)下的接收功率,按照式(6)對混響室工作區(qū)域內(nèi)的平均場強(qiáng)進(jìn)行定標(biāo)。

        歸一化場強(qiáng)是混響室的重要指標(biāo)之一,混響室歸一化場強(qiáng)可以按照式(7)計(jì)算:

        利用歸一化場強(qiáng)結(jié)果可以計(jì)算實(shí)際能夠達(dá)到的場強(qiáng)。針對現(xiàn)有的1.5m×1m×0.8m混響室計(jì)算歸一化場強(qiáng),見表1。

        表1 不同頻率下混響室內(nèi)場強(qiáng)與輸入功率的關(guān)系Tab.1 Realationship between input power and E-field in reverberation chamber at different frequencies

        從表1中可見,使用20W的功率放大器,可以在混響室內(nèi)實(shí)現(xiàn)平均場強(qiáng)大于200V/m,最大場強(qiáng)甚至可以達(dá)到800V/m。因此,利用混響室實(shí)現(xiàn)高場強(qiáng)是可行的。

        3 基于混響室的電場探頭校準(zhǔn)方法

        基于混響室開展電場探頭校準(zhǔn)時(shí),校準(zhǔn)過程中將接收天線和電場探頭同時(shí)置于校準(zhǔn)區(qū)域內(nèi)。利用接收天線測量一個(gè)攪拌周期內(nèi)的平均接收功率,按照公式(6)實(shí)現(xiàn)對混響室內(nèi)平均場強(qiáng)的定標(biāo)。對比電場探頭的平均場強(qiáng)指示結(jié)果,得出校準(zhǔn)因子?;诨祉懯业碾妶鎏筋^校準(zhǔn)系統(tǒng)如圖1所示。

        圖1 電場探頭校準(zhǔn)系統(tǒng)組成Fig.1 The composition of the calibration system for E-field probe

        利用現(xiàn)有的1.5m×1.0m×0.8m混響室,工作區(qū)域?yàn)?0cm×30cm×20cm,發(fā)射天線和接收天線選用ETS 3115雙脊喇叭天線,場強(qiáng)計(jì)選取HI6100,電場探頭選用HI6053,具體設(shè)備連接圖如圖2所示,接收天線和電場探頭布置如圖3所示。

        圖2 校準(zhǔn)設(shè)備連接圖Fig.2 Calibration equipment connection diagram

        圖3 電場探頭和接收天線布局圖Fig.3 The layout of E-field probe and antenna

        4 測量結(jié)果分析

        基于混響室開展電場探頭校準(zhǔn)時(shí),校準(zhǔn)過程中接收天線和電場探頭應(yīng)同時(shí)置于校準(zhǔn)區(qū)域內(nèi),具體布置如圖3所示。利用接收天線按照混響室內(nèi)的場強(qiáng)定標(biāo)理論得到一個(gè)攪拌周期內(nèi)對應(yīng)攪拌步進(jìn)數(shù)的平均場強(qiáng)。同時(shí),記錄電場探頭在一個(gè)攪拌周期內(nèi)對應(yīng)攪拌步進(jìn)數(shù)的平均指示值。為了驗(yàn)證該數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,200V/m以下采用與微波場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行對比。根據(jù)混響室中定標(biāo)的場強(qiáng),計(jì)算出在微波場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)中產(chǎn)生該標(biāo)準(zhǔn)場強(qiáng)所需的功率。從而在微波場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)中建立標(biāo)準(zhǔn)場強(qiáng),并將場強(qiáng)探頭置于微波場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)中,記錄讀數(shù)。校準(zhǔn)結(jié)果如圖4至圖6所示。

        圖4 1GHz混響室內(nèi)和微波場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)電場探頭校準(zhǔn)結(jié)果對比Fig.4 E-fieldamplitudescomparebetweenreverberation chamber and anechoic chamber at 1GHz

        圖6 18GH混響室內(nèi)和微波場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)電場探頭校準(zhǔn)結(jié)果對比Fig.6 E-fieldamplitudescomparebetweenreverberation chamber and anechoic chamber at 18GHz

        由測試結(jié)果可見,混響室中的電場探頭校準(zhǔn)結(jié)果與微波場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)中的校準(zhǔn)結(jié)果基本一致。兩者之間的偏差可以按式(8)計(jì)算:

        式中:E1——混響室內(nèi)電場探頭校準(zhǔn)結(jié)果,V/m;E2——微波場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)中電場探頭校準(zhǔn)結(jié)果,V/m。

        根據(jù)式(8)計(jì)算出兩組校準(zhǔn)結(jié)果的偏差,偏差結(jié)果在(0.14~0.76)dB范圍內(nèi),其中在3GHz時(shí)偏差結(jié)果達(dá)到最大0.76dB。

        5 結(jié)束語

        混響室在電磁兼容領(lǐng)域具有多種應(yīng)用,包括輻射敏感性試驗(yàn)、屏蔽效能測試等。本文主要介紹基于混響室開展電場探頭校準(zhǔn)的原理、系統(tǒng)組成和校準(zhǔn)方法,在250V/m以下場強(qiáng)范圍內(nèi)對比了基于混響室和微波場強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)的電場探頭校準(zhǔn)結(jié)果,兩組校準(zhǔn)結(jié)果基本一致,偏差在3GHz達(dá)到最大為0.76dB。

        因此,利用混響室開展電場探頭校準(zhǔn)是可行的。

        [1]IEEE 1309-2013“IEEE Standard for Calibration of Electromagnetic Field Sensors and Probes,Excluding Antennas,from 9 kHz to 40GHz”Standards Development Committee of the IEEE Electromagnetic Compatibility Society,2013.

        [2]張林昌.混響室及其進(jìn)展(上)[J].安全與電磁兼容,2001.4.

        [3]梁小亮.電磁兼容混響室發(fā)展及應(yīng)用綜述[J].民用飛機(jī)設(shè)計(jì)與研究,2004.36.

        [4]John Ladbury,Dennis Lewis,Galen Koepke,Randal Direen.Challenges in Using a Reverberation Chamber for Probe Calibration.In Proc.16th Int.Zurich Symp.Electromagn.Compat,vol.TM,Feb,2005.

        [5]王國慶,程二威.電波混響室理論與應(yīng)用[M].國防工業(yè)出版社,2013.

        [6]丁堅(jiān)近.混響室的理論、設(shè)計(jì)和測試[D].博士論文.北京交通大學(xué).2005.8.

        [7]IEC61000-4-21-2011 Electromagnetic compatibility(EMC)-Part 4-21:Testing and measurement techniques—Reverberation chamber test methods.

        [8]John Ladbury,Galen Koepke,Dennis Camell.Evaluation of the NASA Langley Research Center Mode-Stirred Chamber Facility.NIST Technical Note 1508,Jan 1999.

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