張玉濤,岳 慧,林嘉軒
(電磁散射重點實驗室,上海200438)
負折射率材料是近二十年光譜控制領(lǐng)域的新課題,因其在超級透鏡、熱輻射器、傳感器等光電器件方面具有廣闊的應(yīng)用前景[1-3],因此負折射率的概念一經(jīng)提出,就引起了廣泛的關(guān)注。近年來,在穿孔的金屬/介質(zhì)/金屬(MIM)結(jié)構(gòu)光譜特性研究中,有效實現(xiàn)了復磁導率和負折射率[4-5]。在穿孔MIM結(jié)構(gòu)的負折射率研究中,發(fā)現(xiàn)了一系列共振引起的吸收峰,并將這種共振效應(yīng)稱為磁極化。這種共振在其他的MIM微結(jié)構(gòu)中同樣存在,比如一維金屬光柵,二維光柵等[6-7],同時這些吸收峰的位置隨著入射角的變化移動很小,具有等方性的特征,預(yù)測磁極化效應(yīng)引起的共振頻率對微結(jié)構(gòu)表面的設(shè)計具有重要意義,可減少結(jié)構(gòu)表面設(shè)計的時間。
表面等離子激元(SPPs)是入射電磁波與金屬表面集體振蕩的電子之間相互作用產(chǎn)生的沿金屬表面?zhèn)鞑サ碾姶挪?,可以有效增強微結(jié)構(gòu)表面的吸收,在單一的金屬/介質(zhì)界面上,SPPs引起的吸收峰位置隨入射角的變化會發(fā)生明顯的移動。然而,在MIM微結(jié)構(gòu)表面中,SPPs會變得更復雜,在兩個金屬/真空界面和兩個金屬/介質(zhì)界面都會激發(fā)SPPs,金屬/真空界面上的SPPs為外SPPs(e-SPP),金屬/介質(zhì)界面上的SPPs為內(nèi)SPPs(i-SPP)。當介質(zhì)層厚度足夠小時,兩個i-SPP之間會相互耦合,這就是MIM微結(jié)構(gòu)表面中的磁極化效應(yīng)[8]。描述MIM結(jié)構(gòu)中SPPs傳播特性的方程即為色散關(guān)系,只要滿足色散關(guān)系,就可激發(fā)磁極化效應(yīng)。因此,利用色散關(guān)系可以預(yù)測出MIM微結(jié)構(gòu)表面的共振頻率。
本文將從描述SPPs的色散關(guān)系出發(fā),建立MIM光柵結(jié)構(gòu)的共振頻率預(yù)測模型,并利用時域有限差分(FDTD)方法計算微結(jié)構(gòu)表面的光譜特性,對預(yù)測模型進行驗證,并討論結(jié)構(gòu)表面中的電磁場分布,分析磁極化效應(yīng)的物理機理。
MIM結(jié)構(gòu)表面如圖1所示。上、下兩層金屬光柵之間夾著一層SiO2介質(zhì)膜;兩層金屬光柵的厚度分別為h1和h2;A為光柵周期;B為金屬帶寬度;b為光柵縫隙寬度;d為介質(zhì)層厚度。整個微結(jié)構(gòu)表面沿x方向周期性排布,沿y方向無限延伸。在MIM光柵結(jié)構(gòu)中,金屬材料選用銀,其介電常數(shù)由Drude模型表示為[9]
式中:ωp為銀的等離子頻率(2 175 THz);γ為電子碰撞頻率(4.35THz);w為電磁波頻率。SiO2的相對介電常數(shù)設(shè)為定值2.1。由于MPs和SPPs只能在TM波入射時激發(fā),所以本文只考慮TM波入射,磁場沿y方向振蕩,電磁波沿-z方向入射,θ為入射角。微結(jié)構(gòu)的初始結(jié)構(gòu)尺寸:B=0.25μm,b=0.25μm,h=0.05μm,d=0.03μm。
色散關(guān)系是基于膜層結(jié)構(gòu)提出來的,如圖2所示MIM膜層結(jié)構(gòu),上、下金屬膜層厚度分別為h1和h2,金屬薄膜中間夾著厚度為d的介質(zhì)層。
在TM波入射下,磁場可用波動方程表示為[10]
上式稱為Maxwell旋度公式,由此可寫出MIM結(jié)構(gòu)各層中的電磁場表達式。
當z>(d/2+h1)時,則有
當d/2<z<(d/2+h1)時,則有
當-d/2<z<d/2時,則有
當(-d/2-h2)<z<(d/2+h1)時,則有
當z<(-d/2-h2)時,則有
式中:A1-A8為待定系數(shù);εm、εd和εv分別為銀、SiO2和真空的介電常數(shù);
令km/εm=qm,kd/εd=qd,kv/εv=qv,根據(jù)電磁場切向分量在四個界面上的連續(xù)性條件,可以得到關(guān)于待定系數(shù)的線性方程組為
將線性方程組寫成矩陣形式為
式中:M為系數(shù)矩陣;A為未知數(shù)矩陣。
當激發(fā)SPPs時,金屬/介質(zhì)表面的電磁場取得極大值,即A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8有極值,而取得極值的條件是系數(shù)矩陣M的行列式為0。令det M=0,exp(kmh1)=l1,exp(kmh2)=l2,exp(kdhd)=ld,可得
求解方程(20),就可以得到MIM膜層結(jié)構(gòu)的色散關(guān)系。
在光滑的金屬/介質(zhì)界面上,無法滿足色散關(guān)系要求的水平波矢,通常利用光柵結(jié)構(gòu)的衍射效應(yīng)來補償水平波矢,從而滿足色散關(guān)系,激發(fā)SPPs。對于一維光柵結(jié)構(gòu),傳播常數(shù)和入射電磁波以及光柵結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系為[11]
式中:k0為入射波矢;m為光柵衍射級數(shù);Λ為微結(jié)構(gòu)表面的周期。利用式(20)和式(21),就可以預(yù)測MIM光柵結(jié)構(gòu)的磁極化共振頻率。
根據(jù)圖1所示的MIM光柵結(jié)構(gòu),取金屬層的厚度為h1=h2=0.05μm,介質(zhì)層厚度為d=0.03μm,色散關(guān)系曲線如圖3所示。深色線條為內(nèi)SPP曲線,其在Ag/SiO2界面激發(fā)。淺色線條為外SPP曲線,在Ag與真空界面激發(fā)。
結(jié)合式(21),可以預(yù)測當結(jié)構(gòu)周期為0.5μm時,一級內(nèi)SPP的激發(fā)波長為259.2 THz,二級和三級內(nèi)SPP的波長分別為494.1 THz和692 THz。當m=1時,該共振頻率為577.8 THz。
為了對預(yù)測結(jié)果進行驗證,利用FDTD方法計算了MIM光柵結(jié)構(gòu)的光譜特性,如圖4所示,在光譜吸收曲線明顯呈現(xiàn)出四個吸收峰,分別位于228.8,551.5,600.0,642.4 THz。通過將吸收峰的位置與SPP引起的共振頻率對比分析,認為228.8 THz和642.4 THz處的吸收峰分別是由i-SPP(1)和i-SPP(3)模式引起的。600 THz處的吸收峰是由e-SPP(1)的激發(fā)引起的。由于垂直入射下電磁場的對稱性分布,i-SPP(2)模式并沒有引起明顯的吸收峰。
圖5 為Ag/SiO2/Ag光柵結(jié)構(gòu)在228.8 THz處的磁場分布,從圖中看出,當激發(fā)磁極化效應(yīng)時,電磁場被束縛在中間的介質(zhì)層內(nèi),并且在Ag/SiO2界面上磁場較強,并沿界面法線方向衰減,與SPP的特征吻合,并且兩個界面上的電磁場之間相互耦合。
本文利用色散關(guān)系建立了金屬/介質(zhì)/金屬光柵結(jié)構(gòu)共振頻率預(yù)測模型,利用FDTD方法計算了微結(jié)構(gòu)表面的光譜特性,并對預(yù)測頻率進行驗證,預(yù)測模型可以較好的預(yù)測磁極化共振頻率。計算了MIM光柵結(jié)構(gòu)中的磁場分布,研究發(fā)現(xiàn)激發(fā)磁極化效應(yīng)時,電磁場分布與SPP的電磁場分布特征吻合,并且內(nèi)SPP之間相互耦合,從而證明磁極化效應(yīng)是由內(nèi)SPP耦合產(chǎn)生的。