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        錦綸基體表面以乙醛酸為還原劑的化學鍍銅工藝

        2018-03-10 02:56:47馮立明
        山東化工 2018年1期
        關鍵詞:表面電阻亞鐵氰化鉀錦綸

        鄭 凱,馮立明

        (1.山東省五蓮縣第一中學,山東 五蓮 262300;2.山東建筑大學 材料學院,山東 濟南 250101)

        化學鍍銅是一種優(yōu)良的表面改性技術,自從1947年首次報道以來,工藝已相對成熟。早期的化學鍍銅采用甲醛作為還原劑,甲醛還原性強、鍍速快,但是由于甲醛有毒,能致癌,鍍覆過程中易揮發(fā),因此,出于環(huán)保和人體健康考慮,必須尋求新型的環(huán)保型還原劑,目前,可替代甲醛的還原劑有醛糖類化合物、含硼化合物、低價態(tài)金屬鹽、次磷酸及其鹽等[1]。

        化學鍍應用范圍廣,能夠適鍍于金屬和各種非金屬,可應用于任何形狀復雜的材料。我國從20世紀50年代開始了對非金屬化學鍍工藝的開發(fā)和研究,隨著電子工業(yè)的發(fā)展,非金屬化學鍍迅速發(fā)展。非金屬化學鍍廣泛應用于印刷線路板的孔位金屬化,汽車及其它交通工具的非金屬內飾的金屬化,機械塑料齒輪的金屬化等,得到了質量輕、耐蝕性好、具有導熱性和導電性的非金屬化學鍍制品[2]。其中織物的金屬化是化學鍍的一項重要應用,這種金屬化后的織物既保持了織物本身的柔韌性,同時又具有金屬的導電、導熱等優(yōu)良性能,可作為隔音及屏蔽電磁波輻射的防護織物[3]。

        本文介紹了乙醛酸作為還原劑的化學鍍銅工藝,研究鍍液酸度、施鍍溫度及添加劑對鍍液穩(wěn)定性、鍍層質量的影響,實現以乙醛酸代替甲醛的化學鍍銅工藝。

        1 實驗內容與方法

        1.1 化學鍍銅基礎工藝及流程

        鍍液組成及工藝條件:CuSO4·5H2O 10 g/L、乙醛酸3 g/L(液體4.5 mL/L)、酒石酸鉀鈉20 g/L、EDTA 40 g/L、NiSO40.9 g/L、亞鐵氰化鉀3 mg/L、2,2'-聯吡啶5 mg/L、聚乙二醇50 mg/L。pH值為13、溫度為60℃。

        基材為錦綸織物,如圖1所示,尺寸50mm×30mm。錦綸表面化學鍍銅工藝流程:除油→水洗→粗化→水洗→敏化→水洗→活化→水洗→化學鍍。除油在Na2CO320 g/L、Na3PO420 g/L、Na2SiO35 g/L、OP-10 4 mL/L中60 ℃下超聲10 min。粗化采用NaOH 200 g/L 50℃下處理10 min。敏化過程將基體在SnCl225 g/L中浸漬5 min,水洗采用去離子水水洗?;罨翰捎? g/L的銀氨溶液,浸漬5 min。

        圖1 錦綸基體材料

        1.2 表征方法

        采用肉眼識別鍍層的外觀情況,不同施鍍條件下得到的鍍層顏色分為黑棕色、暗紅色、粉紅色和亮銅色,以亮銅色為最佳。采用膠帶粘貼實驗檢測鍍層的結合力,按照膠帶粘連下銅的多少進行分級。采用數字式四探針測試儀(基片25 mm×25 mm)測試鍍層的導電性,由于電流的集膚效應,此方法可簡單準確測量鍍層的表面電阻。采用掃描電鏡觀察鍍層的微觀形貌。

        2 實驗結果與討論

        2.1 pH值對錦綸織物鍍銅層的影響

        固定鍍液組份,施鍍溫度為60℃,施鍍時間為30min,對pH值做單一變量研究,pH值對鍍層的影響如圖2、3所示。有關研究表明,鍍液pH值對化學鍍銅的影響表現為pH值影響還原劑氧化過程的電極電位,從而直接影響還原劑的還原能力[4],因此pH 值是鍍速、表面電阻、鍍層外觀等非常重要的影響因素。如圖2 所示,鍍層沉積速率隨pH值的增大先增大后減小。當pH值=12.5時鍍速達到最大的4.4 μm/h。表面電阻總體趨勢是隨pH值的增大而減小,當pH值大于12時急劇減小,表面電阻從1000 mΩ /sq下降到50 mΩ /sq以下。繼續(xù)加大pH值,當pH值大于13時,表面電阻稍有增大。這是由于錦綸織物是一種多孔的軟體材料。隨著鍍層厚度的增加,材料表面的鍍層從不連續(xù)向連續(xù)轉變[5]。鍍速慢,錦綸織物表面沉積的金屬就少,不能完全覆蓋織物表面,金屬鍍層間存在很多間隙,導致鍍層導電性差。當鍍速足以使沉積的銅鍍層完全覆蓋織物表面,這時電流就能順暢的流經銅鍍層,表面電阻就小,當鍍層達到一定厚度時,表面電阻基本保持不變。圖3很好的驗證了這一點,如圖3所示,當pH值=11時,織物表面基本不起鍍,鍍速極慢,表面電阻大,鍍層為棕黑色,沒有金屬光澤。當pH值=12時,鍍速提高,導電性降低,鍍層為暗紅色。pH值=13時,鍍速較快,導電性優(yōu)良,鍍層為亮銅色,鍍液穩(wěn)定不分解。若繼續(xù)加大pH值,鍍液易分解,鍍速將有所下降,表面電阻有所增大,鍍層外觀變差。因此,錦綸織物表面化學鍍銅的最佳pH值為13。

        圖2 pH值對錦綸化學鍍銅鍍速及表面電阻的影響

        圖3 pH值對鍍層外觀的影響

        2.2 反應溫度對錦綸織物鍍銅層的影響

        圖4 溫度對鍍速及表面電阻的影響

        圖5 溫度對鍍層影響的微觀形貌

        施鍍溫度是影響化學鍍的化學反應速率及活化能的重要因素。要想獲得結晶致密、鍍層光亮、導電性良好,結合力好的化學鍍層,必須控制好施鍍溫度。從圖4(a)可以看出,隨溫度的升高,鍍速增大,當溫度小于50℃時,鍍速較慢,溫度達到70℃左右時,鍍速達到最大的5.6 μm/h,繼續(xù)升溫,鍍速有下降的趨勢。由于溫度較低時,鍍液中離子遷移速率低,化學沉積的離子有效碰撞少,故鍍速較慢。隨著溫度的升高,離子遷移速率增大,鍍速明顯加快。但是當溫度過高時,鍍液中還原劑分解加速,副反應加劇,鍍液穩(wěn)定性變差,鍍速反而下降[6]??椢锉砻骐娮枧c溫度的關系如圖4(b)所示,表面電阻隨溫度的增加,先增大,然后減小,最后又增大,其原因從圖5中不難看出。圖5為施鍍溫度分別為50、60、70℃的SEM微觀形貌圖。當溫度較低時,如圖5(a),鍍層中銅成團簇狀沉積,晶粒大小不均勻,表面粗糙,鍍層外觀發(fā)暗。由于織物表面完全被銅層覆蓋,表面電阻較小。增大溫度到60℃時,如圖5(b),鍍層晶粒細化,排列緊密,表面光滑平整,外觀更加光亮。但是由于晶粒較小,晶粒間晶界增多,電流流經鍍層時需要越過更多晶界,導致表面電阻增大。繼續(xù)增大溫度,如圖5(c),晶粒生長速度加快,晶粒更易長大,一部分晶界消失,導致電阻減小。然而,若溫度過高,晶粒粒度較大,排列疏松,孔洞明顯增多,對鍍層的連續(xù)生長不利,鍍層質量下降,表面電阻減小。因此,綜合考慮各方面因素,錦綸織物表面化學鍍銅的溫度選取60℃為最佳。

        2.3 添加劑對錦綸織物鍍銅層的影響

        圖6 添加劑用量對鍍速及表面電阻的影響

        圖7 添加劑對鍍層影響的微觀形貌

        為了提高鍍液穩(wěn)定性,調節(jié)銅沉積速率,改善鍍層外觀,化學鍍銅鍍液中必須加入適量添加劑。添加劑往往用量極少,但是卻對鍍層質量的改善起著極其重要的作用。研究表明,亞鐵氰化鉀和2,2'-聯吡啶是兩種作用效果非常好的添加劑[7]。但其作用機理有所不同,亞鐵氰化鉀的加入能使Cu2+的還原電位負移,銅沉積反應的活化能增大,減緩了Cu的還原析出。2,2'-聯吡啶對Cu2+的陰極極化幾乎無影響,但是卻可以有效的降低乙醛酸的氧化,乙醛酸氧化能力受到抑制的同時,Cu的沉積速度也降低[8-9]。如圖6(a)所示,固定鍍液基礎組分,pH值為13,溫度為60℃,向鍍液中加入少量添加劑,鍍速便急劇降低。不加任何添加劑時,鍍速能達到5 μm/h,加入亞鐵氰化鉀和2,2'-聯吡啶后鍍速降低。與2,2'-聯吡啶相比亞鐵氰化鉀影響作用更為顯著。鍍速與各添加劑的用量成正比,添加劑用量越多鍍速越慢,直至鍍液完全失去活性,所以必須確定添加劑的最佳用量,以保證鍍液穩(wěn)定性的同時確保鍍銅層的優(yōu)良性能。在圖6(b)中可以看出表面電阻隨著添加劑用量的增多先減小后增大,當亞鐵氰化鉀用量4 mg/L,2,2'-聯吡啶用量12 mg/L時鍍層表面電阻各自達到最低值,導電性能非常好。添加劑對鍍層的微觀形貌影響如圖7所示,當不加任何添加劑時,由于

        鍍層沉積較快,銅晶粒結晶較大,不均勻,表面較粗糙,外觀為暗紅色。加入亞鐵氰化鉀4 mg/L后,結晶明顯變細,表面平整。觀察外觀呈亮銅色。加入12 mg/L后,晶粒也得到了均勻細化,但是不如亞鐵氰化鉀作用明顯,外觀成銅紅色。可以肯定亞鐵氰化鉀和2,2'-聯吡啶都能起到降低銅沉積速率,改善織物表面鍍層外觀質量的作用,同時添加劑的加入還能使得鍍層表面更加平整,結合力更好。為了綜合兩種添加劑的作用,通過正交優(yōu)化實驗,確定了兩種添加劑的濃度分別為亞鐵氰化鉀3 mg/L、2,2'-聯吡啶5 mg/L。兩種添加劑協同作用,能夠進一步改變鍍層外觀,提高鍍層質量。

        3 結論

        (1)乙醛酸代替甲醛可以在錦綸織物表面得到光亮、致密、結合力好的化學鍍銅金屬層,鍍液pH值、施鍍溫度與添加劑是影響鍍層質量的重要因素。pH值及溫度適當提高,鍍速增大,鍍層電阻減小,光亮度提高,亞鐵氰化鉀3 mg/L及2,2'-聯吡啶的加入降低了鍍速,但可以顯著降低鍍層電阻,表明添加劑的加入使鍍層致密性增強。

        (2)錦綸織物表面以乙醛酸為還原劑得到光亮穩(wěn)定鍍層的化學鍍銅最佳配方及工藝:CuSO4·5H2O 10 g/L、乙醛酸3 g/L(液體4.5 mL/L)、酒石酸鉀鈉20 g/L、EDTA 40 g/L、NiSO40.9 g/L、亞鐵氰化鉀3 mg/L、2,2'-聯吡啶5 mg/L、聚乙二醇50 mg/L、pH值為13、溫度為60℃。

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