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        氣相色譜法測定高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)的方法

        2018-01-20 02:53:57許軍州夏致遠(yuǎn)金向華
        低溫與特氣 2017年6期
        關(guān)鍵詞:方法

        許軍州,夏致遠(yuǎn),孫 猛,金向華

        (蘇州金宏氣體股份有限公司,江蘇 蘇州 相城 215131)

        0 引 言

        四氟化碳這種含氟有機(jī)化合物作為蝕刻二氧化硅和氮化硅這樣的介質(zhì)材料已成熟運(yùn)用多年,也是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。同時在低溫下可作為低溫流體用,也在制冷、氣體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄漏檢驗(yàn)劑有一定的應(yīng)用空間。

        四氟化碳的廣泛應(yīng)用,其產(chǎn)品質(zhì)量要求也相應(yīng)的較為明確、規(guī)范。目前行業(yè)內(nèi)較為成熟的分析方法主要檢測四氟化碳中的氧(O2)、氮(N2)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、六氟化硫(SF6)、水分(H2O)、氟化物(以HF計(jì))和氟碳化合物雜質(zhì)。氟碳化合物一般含有六氟乙烷(C2F6)、八氟丙烷(C3F8)和氟甲烷(CHmFn)。正常情況通過配備有PDD檢測器的氣相色譜加上中心切割都能夠完成全部雜質(zhì)的定性和定量,作為不活潑氣體四氟化碳的水分分析也較為簡單常規(guī)。目前伴隨著四氟化碳出口量的增加,客戶對雜質(zhì)的要求也越來越全面,越來越嚴(yán)格。三氟化氮(NF3)這種隱形雜質(zhì)作為最新的指標(biāo)規(guī)格也出現(xiàn)在書面要求中。

        追溯四氟化碳合成工藝所知,碳氟合成工藝是目前應(yīng)用較為成熟廣泛的方法,在電解氟化氫及合成反應(yīng)中,水分及空氣的影響會涉及到副產(chǎn)物三氟化氮的生成,在提純工藝中,一般為吸附精餾法提高四氟化碳的純度,而兩者沸點(diǎn)相差只有1℃,所以在提純工藝上也是較難去除。國內(nèi)客戶在對使用四氟化碳?xì)怏w中很少有對三氟化氮的雜質(zhì)含量提出要求,作為行業(yè)內(nèi)四氟化碳生產(chǎn)中含有微量三氟化氮也是習(xí)以為常,本文探討一種簡易的氣相色譜法對四氟化碳中的三氟化氮含量進(jìn)行定性定量分析。

        1 試驗(yàn)內(nèi)容

        1.1 試驗(yàn)方法說明

        測定高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)的方法有多種。一種方法是采用傅立葉變換紅外光譜法,通過紅外掃描記錄NF3的特征吸收峰的波數(shù),經(jīng)繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線求得濃度與吸光度的關(guān)系來進(jìn)行濃度標(biāo)定。而這種方法的紅外光譜儀價格較為昂貴,且對實(shí)驗(yàn)環(huán)境等方面要求嚴(yán)格,對于一般中小型企業(yè)來說代價較高,實(shí)驗(yàn)結(jié)果也達(dá)不到預(yù)期目的。采用氣相色譜法對四氟化碳進(jìn)行常規(guī)分離過程中,主組分四氟化碳出峰較三氟化氮靠前,且較為接近。中心切割處理不當(dāng),其主峰會對其進(jìn)行完全覆蓋,分離難度相當(dāng)大。

        然而氣相色譜法操作簡便快捷,特別配備有PDD檢測器,靈敏度高,較為靈活。在氣相色譜分析樣品的過程中,所選用的色譜柱、檢測器、柱溫等條件可直接影響樣品分析的分離度及靈敏度。本次實(shí)驗(yàn)采用帶有PDD檢測器的氣相色譜儀,由與杭州克柔姆聯(lián)合開發(fā)提供的GC-126儀器,采用單十通閥雙預(yù)柱進(jìn)樣預(yù)處理、四閥四柱反吹的氣路流程進(jìn)行實(shí)驗(yàn)分析。且對實(shí)驗(yàn)條件進(jìn)行多次優(yōu)化處理最終達(dá)到分離效果。

        1.2 試驗(yàn)條件

        圖1 氣相色譜氣路流程圖

        儀器:GC-126脈沖放電氦離子化檢測器。

        色譜柱:柱1:HayesepQ1預(yù)分離填充柱,1/8″×2m;柱2:HayesepR2多孔極性聚合物填充柱,1/8″×2m;柱3:HayesepR3多孔極性聚合物填充柱,1/8″×4m;柱4:5A分子篩不銹鋼填充柱,1/8″×2.5m;柱5:HayesepQ高分子小球填充柱,1/8″×6m;柱6:HayesepQ高分子小球填充柱,1/8″×3m。

        色譜柱溫:40~60℃(恒溫);預(yù)分離柱溫:40~ 55℃;檢測器溫度:120℃;載氣:He(99.9999%以上),30 mL/min;驅(qū)動氣:使用氮?dú)饣蚩諝?,輸出壓力控制?.3 MPa左右;定量管:0.5 mL;進(jìn)樣方式:十通閥自動進(jìn)樣。

        圖1為其分析氣路流程圖。儀器待機(jī)狀態(tài)下各閥門處于目前狀態(tài)。即為OFF位置,閥事件表格在1階、2階切換的過程中依次進(jìn)行相反動作操作。

        1.3 試驗(yàn)過程

        1.3.1方法的建立(一)

        在正常條件下可通過分子篩與HayesepR柱的聯(lián)合切換達(dá)到分離四氟化碳中各項(xiàng)雜質(zhì),包含氧(O2)、氮(N2)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、六氟化硫(SF6)、六氟乙烷(C2F6)、八氟丙烷(C3F8)等雜質(zhì)。此時并未對三氟化氮(NF3)雜質(zhì)進(jìn)行分析處理。閥事件及條件見表1。

        表1 四氟化碳雜質(zhì)分析方法

        根據(jù)此分離情況得到的分析譜圖如圖2所示。

        圖2 四氟化碳典型色譜圖

        從色譜中可以發(fā)現(xiàn)高純四氟化碳經(jīng)過閥四切割后并未發(fā)現(xiàn)有三氟化氮雜質(zhì),這也是測試高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)比較常用的分析方法,能夠測定出常規(guī)性雜質(zhì),但是對三氟化氮雜質(zhì)卻無法測定。

        1.3.2方法的建立(二)

        因考慮到四氟化碳與三氟化氮雜質(zhì)出峰時間相近,可適當(dāng)降低色譜柱溫度,從而拉開出峰距離,且可在閥4的中心切割上面進(jìn)行優(yōu)化處理,排放出大量的四氟化碳,從而分離出三氟化氮。首先配置氦中150×10-6的三氟化氮標(biāo)氣進(jìn)行定性分析,以確定三氟化氮準(zhǔn)確的出峰時間,從而可在此出峰時間的合適范圍內(nèi)進(jìn)行微調(diào)放空時間,以達(dá)到理想效果。

        標(biāo)準(zhǔn)氣分析方法如表2,因考慮到試驗(yàn)時間的因素,現(xiàn)主要使用閥3進(jìn)行進(jìn)樣。

        表2 氦中三氟化氮分析方法

        氦氣中150×10-6的三氟化氮色譜分離見圖3。以接近于此的方法對第1.3.1節(jié)方法中的四氟化碳樣品進(jìn)行測試,測試條件見表3。

        圖3 三氟化氮樣氣典型色譜圖

        表3 四氟化碳中三氟化氮的分析方法

        其色譜結(jié)果圖見圖4。

        圖4 四氟化碳中三氟化氮樣氣典型色譜

        圖5 四氟化碳中三氟化氮樣氣典型色譜

        經(jīng)與氦中三氟化氮標(biāo)準(zhǔn)譜圖比對可以發(fā)現(xiàn),3.8 min出現(xiàn)三氟化氮雜質(zhì),其含量在78×10-6左右,經(jīng)閥4切割放空后的四氟化碳與三氟化氮雜質(zhì)含量已初步進(jìn)行了分離,且能夠進(jìn)行定量分析,但四氟化碳仍舊有很高的含量。對閥4進(jìn)行微調(diào),由2.5 min延遲到2.55 min后譜圖分析結(jié)果見圖5。

        由以上色譜圖可以發(fā)現(xiàn),四氟化碳與三氟化氮已經(jīng)有效地進(jìn)行了分離,根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)氣體含量,可進(jìn)行定量分析。

        2 實(shí)驗(yàn)結(jié)論

        1. 通過本文的研究,得到了一種可全面分析四氟化碳中包含三氟化氮雜質(zhì)含量的方法,即采用氣相色譜法進(jìn)行。

        2. 通過降低色譜柱溫度,拉開出峰距離,在出峰時間進(jìn)行微放空等方法,從而使得四氟化碳與三氟化氮很好的進(jìn)行了分離。

        3. 該方法簡單快捷、靈敏度在PDD檢測器中相對較高,分析時間正常,有很強(qiáng)的實(shí)用性,適用于目前大規(guī)模生產(chǎn)中對三氟化氮含量的檢測。

        [1] 黃曉磊. 高純度四氟化碳制備和純化工藝研究[D]. 鄭州:鄭州大學(xué), 2016.

        [2] 鄧建平,錢琳,周朋云. 用氦離子化(DID)氣相色譜儀分析高純四氟化碳[J]. 低溫與特氣, 2011, 29(5): 35-38.

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