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        機(jī)械臂力跟蹤阻抗和避碰控制仿真研究

        2018-01-18 03:27:04劉滿祿
        自動(dòng)化與儀表 2017年5期
        關(guān)鍵詞:內(nèi)環(huán)作用力軌跡

        汪 雙 ,劉滿祿 ,2,張 華

        (1.西南科技大學(xué) 特殊環(huán)境機(jī)器人技術(shù)四川省重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,綿陽(yáng) 621010;2.中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) 信息科學(xué)技術(shù)學(xué)院,合肥 230026)

        隨著機(jī)器人技術(shù)的不斷提高以及應(yīng)用領(lǐng)域的不斷擴(kuò)展,作為機(jī)器人重要代表之一的機(jī)械臂也趨于適應(yīng)更多的應(yīng)用場(chǎng)合,當(dāng)前機(jī)械臂更是迫切需要應(yīng)用于非結(jié)構(gòu)化的作用環(huán)境[1],打磨、拋光、組裝等接觸性任務(wù)不但要求機(jī)械臂末端工具能以適當(dāng)力接觸工件表面,同時(shí)要求機(jī)械臂能夠沿著工件表面相對(duì)移動(dòng)[2],這對(duì)機(jī)械臂的柔順性和安全性提出了更高的要求。機(jī)械臂柔順控制和占據(jù)機(jī)械臂安全問(wèn)題主導(dǎo)地位的避碰控制技術(shù)一直是國(guó)內(nèi)外的研究熱點(diǎn)。

        文獻(xiàn)[3]提出的阻抗控制是機(jī)械臂主動(dòng)柔順控制的重要部分;文獻(xiàn)[4]基于位置控制內(nèi)環(huán)的阻抗控制更是確保了非接觸狀態(tài)下的位置跟蹤精度;文獻(xiàn)[5]基于力/位混合控制實(shí)現(xiàn)了機(jī)械臂末端工具在對(duì)象弧形表面的柔性接觸,但其控制結(jié)構(gòu)較之阻抗控制更為復(fù)雜;文獻(xiàn)[6-7]基于自適應(yīng)混合阻抗控制實(shí)現(xiàn)了機(jī)械臂在環(huán)境表面的穩(wěn)定接觸力運(yùn)動(dòng);文獻(xiàn)[8]在未知環(huán)境信息下實(shí)現(xiàn)力跟蹤阻抗控制則更為簡(jiǎn)單;文獻(xiàn)[9-11]利用廣義動(dòng)量觀測(cè)器進(jìn)行碰撞力估計(jì),但其準(zhǔn)確度容易受到較大加速度的影響。

        綜合以上方法優(yōu)缺點(diǎn),為了解決機(jī)械臂力跟蹤阻抗控制和安全避碰問(wèn)題,本文基于圖1所示的二自由度平面機(jī)械臂,建立其運(yùn)動(dòng)學(xué)動(dòng)力學(xué)模型,設(shè)計(jì)操作空間線性解耦位置控制器,結(jié)合位置控制內(nèi)環(huán)以及力跟蹤阻抗控制,實(shí)現(xiàn)機(jī)械臂在操作空間阻抗控制方向上作用力的穩(wěn)定;同時(shí)在位置控制方向上,基于作用合力方向的直線運(yùn)動(dòng)控制,確保位置控制的安全避碰;文章最后基于Simulink-Adams聯(lián)合仿真,驗(yàn)證了力跟蹤阻抗控制和避碰控制的有效性。

        圖1 二自由度平面機(jī)械臂Fig.1 2 DOF plane robot manipulator

        1 機(jī)械臂運(yùn)動(dòng)學(xué)動(dòng)力學(xué)分析

        1.1 運(yùn)動(dòng)學(xué)分析

        圖2所示為二自由度平面機(jī)械臂運(yùn)動(dòng)學(xué)模型,對(duì)其第一、二關(guān)節(jié)以及末端工具處建立參考坐標(biāo)系,基坐標(biāo)系(x,0,y)與第一關(guān)節(jié)參考坐標(biāo)系(x0,0,y0)初始位置重合。

        圖2 機(jī)械臂運(yùn)動(dòng)學(xué)模型Fig.2 Kinematics model of robot manipulator

        圖 中 :m1、m2、l1、l2、a1、a2、θ1、θ2分 別 為 連 桿 1、2的質(zhì)量、長(zhǎng)度、重心距離前一關(guān)節(jié)長(zhǎng)度以及關(guān)節(jié)角度;r為末端工具到基坐標(biāo)系原點(diǎn)距離;(x,y)為末段工具相對(duì)基坐標(biāo)系的位置,其正運(yùn)動(dòng)學(xué)為

        由式(1)~式(3)以及余弦定理可知其逆運(yùn)動(dòng)學(xué)為

        式中,±分別對(duì)應(yīng)機(jī)械臂同一末端位置的2種構(gòu)型。

        1.2 動(dòng)力學(xué)分析

        式中:M,V,G分別為慣性、科氏力向心力以及重力矩矩陣;u為作用在機(jī)械臂關(guān)節(jié)上的廣義力矩;f為環(huán)境作用在末端工具上的廣義力;J為雅克比矩陣。假設(shè)為末端工具笛卡爾速度,則:

        2 位置內(nèi)環(huán)阻抗控制器

        2.1 環(huán)境模型

        環(huán)境施加在機(jī)械臂上的作用力f通常用彈簧模型來(lái)表示:

        式中:f為環(huán)境作用力,當(dāng)機(jī)械臂未與環(huán)境接觸時(shí)f為零;x,xe分別為機(jī)械臂位置以及環(huán)境靜態(tài)位置;Ke為環(huán)境剛度。

        2.2 操作空間線性解耦位置控制器

        關(guān)節(jié)空間基于非線性補(bǔ)償?shù)木€性解耦控制律[13]為

        式中,α為需要設(shè)計(jì)的控制輸入,結(jié)合式(8)且機(jī)械臂未與環(huán)境接觸(f=0):

        假設(shè)J非奇異,由式(10)可得:

        式中,Kd,Kp為對(duì)稱正定的增益矩陣,結(jié)合式(12)~式(15)得操作空間線性解耦控制器為

        若 f=0 且 e=xd-x,將式(16)代入式(8)得閉環(huán)控制律:

        因Kd,Kp均正定,可知誤差均為0。

        2.3 位置內(nèi)環(huán)阻抗控制器

        機(jī)械臂與環(huán)境接觸時(shí),如果只對(duì)機(jī)械臂施加位置控制,由式(11)可知作用力會(huì)逐漸增大,進(jìn)而損壞機(jī)械臂末端工具或環(huán)境。阻抗控制則能實(shí)時(shí)依據(jù)作用力并調(diào)整參考軌跡,以使機(jī)械臂與環(huán)境之間呈現(xiàn)如下動(dòng)態(tài)關(guān)系:

        式中:A,B,K分別為慣性、阻尼和剛度系數(shù)對(duì)角矩陣,其定義了機(jī)械臂與環(huán)境接觸時(shí)的動(dòng)態(tài)行為特性;xd,xc分別為參考位置和阻抗調(diào)整后位置。因A,B,K為對(duì)角矩陣則式(18)關(guān)系解耦,則單一操作空間自由度阻抗動(dòng)態(tài)特性如圖3所示。

        圖3 阻抗動(dòng)態(tài)特性Fig.3 Dynamic characteristics of impedance

        圖中:ai,bi,ki為 A,B,K 對(duì)角元素;c,c,xc分別為調(diào)整后的操作空間參考加速度、速度和位置,再結(jié)合式(16)位置控制器形成位置內(nèi)環(huán)阻抗控制器。

        結(jié)合圖3可知機(jī)械臂位置輸出X(s)與參考位置 Xd(s)之間特征方程為

        可知阻尼比為

        由于環(huán)境剛度 ke遠(yuǎn)大于 ai,bi,ki,系統(tǒng)很容易處于欠阻尼狀態(tài),由式(22)可知應(yīng)適當(dāng)增大阻尼系數(shù)bi,同時(shí)減小質(zhì)量、剛度系數(shù) ai,ki,以獲得期望的系統(tǒng)阻尼。

        3 力跟蹤阻抗控制器

        通過(guò)圖3可以看出環(huán)境靜態(tài)位置和剛度決定了反饋?zhàn)饔昧。理論上說(shuō),如果能夠確切獲悉環(huán)境位置和剛度,通過(guò)軌跡規(guī)劃和阻抗控制也可以實(shí)現(xiàn)期望作用力,然而實(shí)際上很難做到這一點(diǎn)。

        假設(shè)xr為依據(jù)環(huán)境位置設(shè)定的初始參考軌跡,xr確保機(jī)械臂能與環(huán)境接觸即可;fr為參考作用力,ri為軌跡調(diào)整系數(shù)。通過(guò)Δxr調(diào)整xr獲得阻抗控制參考位置:

        結(jié)合位置控制器,參考位置xd驅(qū)使作用力f趨于參考作用力 fr。 忽略力跟蹤阻抗控制結(jié)構(gòu)如圖4所示。

        圖4 力跟蹤阻抗控制結(jié)構(gòu)Fig.4 Structure of force tracking impedance control

        分別定義作用力誤差和二次誤差函數(shù):

        穩(wěn)態(tài)時(shí)由式(18)、(19)可知:

        結(jié)合式(20)的假設(shè)和式(11)可知穩(wěn)態(tài)時(shí)[4]:

        根據(jù)梯度下降法可知,誤差函數(shù)ε沿著:

        迭代收斂到最小值,λ為迭代步長(zhǎng)或采樣周期,此時(shí) f→ fr,同時(shí) xr沿著 Δxr變化方向使 xr→xd:

        令 ri=λ,對(duì)式(31)拉氏變換:

        依據(jù)式(20)的假設(shè),由圖4可知機(jī)械臂位置輸出與參考作用力fr(s)的閉環(huán)特征方程為

        由勞斯判據(jù)可知系統(tǒng)穩(wěn)定的條件為

        由于式(34)中系數(shù)均大于0,故任意ri>0式(34)肯定成立,系統(tǒng)穩(wěn)定。實(shí)際可以取較小的ri,使得作用力跟蹤性能更好[10]。

        4 避碰控制器

        機(jī)械臂操作空間位置控制自由度方向上,末段工具沿著環(huán)境表面運(yùn)動(dòng)甚至與障礙碰撞時(shí),當(dāng)作用力大于一定閾值,則可能損壞末端工具或環(huán)境。若能夠?qū)崟r(shí)檢測(cè)作用力,且在作用力超過(guò)一定閾值時(shí)控制機(jī)械臂向作用力瞬速衰減方向運(yùn)動(dòng),則機(jī)械臂和環(huán)境的安全性將得到很大的保障。圖5為機(jī)械臂與環(huán)境接觸示意。

        圖5 機(jī)械臂與環(huán)境接觸示意Fig.5 Sketch map of the contact between robot manipulator and environment

        由圖5可見(jiàn),當(dāng)機(jī)械臂沿著環(huán)境表面運(yùn)動(dòng)時(shí),此時(shí)fxy1為作用力合力;當(dāng)機(jī)械臂與障礙碰撞時(shí),此時(shí)fxy2為作用力合力。可以發(fā)現(xiàn),作用力合力方向正好是避免機(jī)械臂與環(huán)境過(guò)度接觸的最佳撤退方向。假設(shè)fx,fy分別為環(huán)境對(duì)機(jī)械臂沿著x,y軸方向作用力,則撤退方向單位矢量為

        若機(jī)械臂當(dāng)前位置為x,期望撤退位置為xf,d為撤退距離系數(shù),則:

        將式(15)控制律稍作修改[14]:

        此時(shí)式(16)的控制律將使機(jī)械臂以笛卡爾速度Vmax直線運(yùn)動(dòng)到期望撤退位置xf。

        設(shè)定作用力閾值為 Fg=(Fgx,F(xiàn)gy),若條件判斷(fx>Fgx)‖(fy>Fgy)成立,則機(jī)械臂由力跟蹤阻抗控制切換到避碰控制。

        5 仿真驗(yàn)證

        在Adams中建立機(jī)械臂仿真模型如圖6所示,右邊為曲形表面環(huán)境模型。

        圖6 Adams仿真模型Fig.6 Adams simulation model

        圖7為機(jī)械臂參考軌跡圖。其中,連桿1、2的質(zhì)量分別為m1=4.85 kg,m2=1.22 kg;長(zhǎng)度分別為l1=0.350 m,l2=0.355 m;重心距離分別為 a1=0.250 m,a2=0.160 m;連桿 1的轉(zhuǎn)動(dòng)慣量為 I1x=0.07807 kg·m2,I1y=0.07302 kg·m2,I1z=0.01056 kg·m2; 連桿 2 的轉(zhuǎn)動(dòng)慣量為 I2x=0.02034 kg·m2,I2y=0.02018 kg·m2,I2z=0.00044 kg·m2;環(huán)境剛度 Ke=105N/m;重力沿 y軸負(fù)方向,G=9.81 N/kg。

        圖7 機(jī)械臂參考軌跡Fig.7 Reference trajectory of robot manipulator

        Simulink仿真控制結(jié)構(gòu)如圖8所示,軌跡調(diào)整部分實(shí)時(shí)調(diào)整參考軌跡,生成中間參考軌跡提供給位置內(nèi)環(huán)阻抗控制器;作用力未超過(guò)閾值時(shí)阻抗控制器接管控制,作用力超過(guò)閾值時(shí),避碰控制器Switch有效并接管控制。其中參考力fr=10 N;軌跡調(diào)整系數(shù)ri=0.06;阻抗控制器慣性、阻尼以及剛度系數(shù)矩陣分別為 A=[5,5],B=[3000,3000],K=[50,50];內(nèi)環(huán) 位 置 控 制 器 參 數(shù) 分 別 為 Kd=[500,500],Kp=[2000,2000];避碰控制器參數(shù) Kd=[500,500];撤退距離系數(shù)d=0.1;撤退速度Vmax=0.03 m/s;接觸力閾值 Fg=[30,30]N。

        圖8 Simulink仿真控制結(jié)構(gòu)Fig.8 Control structure of Simulink simulation

        圖9為Adams仿真動(dòng)態(tài)圖,當(dāng)時(shí)t=9.1 s,機(jī)械臂末端工具與環(huán)境開(kāi)始接觸,然后沿著環(huán)境表面向下運(yùn)動(dòng);當(dāng)t=19.5 s時(shí),機(jī)械臂末端工具與障礙發(fā)生碰撞;當(dāng)t=20.3 s時(shí),作用力超過(guò)閾值而觸發(fā)避碰控制器,機(jī)械臂開(kāi)始遠(yuǎn)離環(huán)境;當(dāng)t=24.0 s時(shí),機(jī)械臂撤退到安全位置。

        圖9 Adams仿真動(dòng)態(tài)圖Fig.9 Dynamic graphs of Adams simulation

        機(jī)械臂期望軌跡和實(shí)際軌跡如圖10所示,可見(jiàn)位置內(nèi)環(huán)阻抗控制確保了非接觸時(shí)的位置跟蹤,同時(shí)由于末端工具參考點(diǎn)位于半徑r=0.02 m的圓形接觸體中心,因此接觸時(shí)實(shí)際參考軌跡相比環(huán)境接觸表面偏左0.02 m。

        圖10 期望軌跡和實(shí)際軌跡Fig.10 Desire trajectory and actual trajectory

        機(jī)械臂x軸方向上的作用力以及誤差如圖11所示,可見(jiàn)機(jī)械臂與環(huán)境接觸時(shí),力跟蹤阻抗控制能夠迅速維持作用力f=10 N;但在t=15 s左右時(shí),作用力出現(xiàn)波動(dòng),此時(shí)末段工具處于接觸面最凹處,接觸面對(duì)機(jī)械臂作用力變化比較大,這一點(diǎn)通過(guò)圖12機(jī)械臂y軸方向作用力在t=15 s時(shí)的快速變化可以看出;t=19.5 s時(shí),機(jī)械臂與障礙發(fā)生碰撞,x軸作用力出現(xiàn)波動(dòng),y軸作用力迅速上升;直至t=20.3 s時(shí),y軸作用力達(dá)到閾值30 N,避碰控制器觸發(fā),x、y軸作用力迅速降為0,機(jī)械臂撤退到安全位置;避碰觸發(fā)瞬間可以發(fā)現(xiàn)x軸作用力出現(xiàn)波動(dòng),這是由于控制切換瞬間,x軸阻抗特性瞬間丟失,同時(shí)位置控制需要一定的時(shí)間去收斂。

        圖11 x軸作用力和誤差Fig.11 Reaction force in x-axis and force deviation

        圖12 y軸作用力Fig.12 Reaction force in y-axis

        6 結(jié)語(yǔ)

        本文在位置內(nèi)環(huán)阻抗控制的基礎(chǔ)上,基于作用力誤差實(shí)時(shí)調(diào)整參考軌跡的力跟蹤方式,實(shí)現(xiàn)了機(jī)械臂在操作空間x軸方向的作用力恒定;同時(shí)基于操作空間y軸方向的位置控制,依據(jù)作用合力方向直線位置運(yùn)動(dòng)的避碰控制原理,實(shí)現(xiàn)了機(jī)械臂在非阻抗控制方向上的安全保障。本文基于比較簡(jiǎn)單的二自由度機(jī)械臂進(jìn)行了柔順性和安全性分析,然而實(shí)際生產(chǎn)中廣泛應(yīng)用的六自由度機(jī)械臂,涉及姿態(tài)以及扭矩等更復(fù)雜的柔順相關(guān)問(wèn)題以及機(jī)械臂本體避碰問(wèn)題;其次,接觸面的摩擦力以及實(shí)際環(huán)境模型可能涉及到基于剛度系數(shù)的指數(shù)級(jí)變化,甚至包括阻尼特性,這些問(wèn)題將是接下來(lái)的研究深入點(diǎn)。

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