龔永佳 宋 芳
(上海工程技術(shù)大學(xué)工程實(shí)訓(xùn)中心)
基于位姿調(diào)整的晶圓傳輸機(jī)械手運(yùn)動(dòng)學(xué)和動(dòng)力學(xué)分析①
龔永佳 宋 芳
(上海工程技術(shù)大學(xué)工程實(shí)訓(xùn)中心)
搭建位姿可調(diào)整的晶圓傳輸機(jī)械手平臺(tái),通過(guò)對(duì)自由度的分析,驗(yàn)證該機(jī)械手滿足晶圓傳輸要求的平動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)。建立運(yùn)動(dòng)坐標(biāo)系,并進(jìn)行運(yùn)動(dòng)學(xué)分析,然后建立該機(jī)械手的運(yùn)動(dòng)學(xué)方程?;诶窭嗜辗椒ㄟM(jìn)行動(dòng)力學(xué)分析,推導(dǎo)并建立動(dòng)力學(xué)數(shù)學(xué)模型,并驗(yàn)證動(dòng)力學(xué)模型的準(zhǔn)確性。
傳輸機(jī)械手 位姿調(diào)整 晶圓 運(yùn)動(dòng)學(xué)分析 動(dòng)力學(xué)分析
半導(dǎo)體集成電路(Integrated Circuit,IC)產(chǎn)業(yè)是電子信息產(chǎn)業(yè)的核心,是推動(dòng)國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)信息化發(fā)展最主要的高新技術(shù)之一[1,2]。IC制造過(guò)程十分復(fù)雜,而整個(gè)制造過(guò)程要求晶圓在各道工藝之間頻繁運(yùn)輸,晶圓傳輸系統(tǒng)是IC制造裝備中最為重要的組成部分,主要實(shí)現(xiàn)晶圓的精確定位與快速平穩(wěn)搬運(yùn)任務(wù),因此,晶圓傳輸能力對(duì)IC產(chǎn)業(yè)發(fā)展至關(guān)重要。
晶圓傳輸機(jī)器人是IC產(chǎn)業(yè)重要的傳輸定位設(shè)備,其工作速度、定位精度及可靠性等直接影響晶圓的生產(chǎn)效率和制造質(zhì)量[3]。目前在IC產(chǎn)業(yè)廣泛應(yīng)用的晶圓傳輸機(jī)械手有兩種基本類型:平面關(guān)節(jié)型(SCARA型)和極坐標(biāo)型(R-θ型)[4,5]。但是,這兩種傳輸結(jié)構(gòu)形式只能實(shí)現(xiàn)晶圓的平動(dòng)傳輸,不能實(shí)現(xiàn)位姿的調(diào)整,所以限制了晶圓傳輸?shù)募铀俣?。因此研究通過(guò)調(diào)整機(jī)械手位姿來(lái)提高晶圓傳輸加速度,對(duì)提高傳輸效率具有重要意義。
晶圓傳輸機(jī)器人將待加工的晶圓從晶圓盒中取出,經(jīng)預(yù)對(duì)準(zhǔn)和校準(zhǔn)裝置進(jìn)行定位,然后送入相應(yīng)的工藝設(shè)備中加工,加工后將晶圓放入已加工的晶圓盒內(nèi)[6]。筆者主要通過(guò)對(duì)自由度的分析,驗(yàn)證所設(shè)計(jì)晶圓傳輸機(jī)械手是否滿足晶圓傳輸作業(yè)要求的平動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)。通過(guò)對(duì)機(jī)械手進(jìn)行運(yùn)動(dòng)學(xué)和動(dòng)力學(xué)分析,檢驗(yàn)機(jī)械手是否能通過(guò)適時(shí)調(diào)整末端執(zhí)行器的位姿實(shí)現(xiàn)更高的傳輸加速度,進(jìn)而有效提高整個(gè)系統(tǒng)的傳輸效率;提高晶圓傳輸?shù)目煽啃院头€(wěn)定性。利用UG NX8.5軟件繪出可位姿調(diào)節(jié)的晶圓傳輸機(jī)械手實(shí)驗(yàn)平臺(tái)(圖1)。
圖1 晶圓傳輸機(jī)械手傳輸平臺(tái)模型
機(jī)器人之所以能夠按照人類的規(guī)劃完成給定任務(wù),是因?yàn)槿祟愵A(yù)先對(duì)機(jī)器人的結(jié)構(gòu)、運(yùn)動(dòng)方式、運(yùn)動(dòng)軌跡及控制模式等做了特定的設(shè)置和限定[7]。機(jī)器人運(yùn)動(dòng)主要是研究機(jī)械手末端的運(yùn)動(dòng)(位置、角速度)和關(guān)節(jié)運(yùn)動(dòng)(位置、線速度)之間的關(guān)系[8]?;谖蛔苏{(diào)整的晶圓傳輸機(jī)械手運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)坐標(biāo)系如圖2所示,圖中所有z軸(z1、z2)均定義為與xoy平面垂直且滿足右手定則,而且在圖2中表示為垂直水平方向豎直向上。在圖2坐標(biāo)系xoz內(nèi)第一象限中的粗實(shí)線表示晶圓傳平臺(tái)的位置,細(xì)實(shí)線表示晶圓傳輸運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)的坐標(biāo)系,其中Lx表示機(jī)械手臂在直線導(dǎo)軌上水平方向移動(dòng)的位移,L0為末端執(zhí)行器支撐構(gòu)件的長(zhǎng)度,θ為末端執(zhí)行器旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的位姿轉(zhuǎn)角。
圖2 機(jī)械手運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)坐標(biāo)系
考慮到機(jī)械手結(jié)構(gòu)的精簡(jiǎn)和特殊性,直接采用機(jī)械手臂結(jié)構(gòu)的幾何關(guān)系進(jìn)行運(yùn)動(dòng)學(xué)求解。根據(jù)各部分的幾何關(guān)系可以對(duì)它進(jìn)行運(yùn)動(dòng)學(xué)求解,首先建立支撐構(gòu)件和末端執(zhí)行器之間的位移關(guān)系,若已知晶圓傳輸機(jī)械手臂的運(yùn)行位移,且晶圓的中心與末端執(zhí)行器的中心重合,則可求解末端執(zhí)行器上晶圓的位置為:
式中Lm——末端執(zhí)行器的長(zhǎng)度;
ωm——末端執(zhí)行器的角速度。
已知直線導(dǎo)軌上機(jī)械手支撐構(gòu)件的運(yùn)行速度Vx,求解機(jī)械手末端執(zhí)行器上的晶圓運(yùn)行速度Vm,鑒于在晶圓傳輸過(guò)程中主要分析其水平狀態(tài)的運(yùn)動(dòng)情況,于是對(duì)機(jī)械手末端執(zhí)行器的速度進(jìn)行分解分析,其速度方程為:
對(duì)機(jī)械手末端執(zhí)行器水平方向上的速度方程兩邊同時(shí)求導(dǎo)數(shù),可得晶圓的加速度方程為:
對(duì)機(jī)械手運(yùn)動(dòng)學(xué)反解的求解,首先計(jì)算運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)末端執(zhí)行器上晶圓的加速度曲線,通過(guò)分析晶圓加速度特性與末端執(zhí)行器的位姿轉(zhuǎn)角關(guān)系,推出的末端執(zhí)行器位姿角度θm的分段函數(shù)方程為:
式中a0——末端執(zhí)行器水平位姿下晶圓所能達(dá)到的最大運(yùn)行加速度;
amax——在末端位姿角度調(diào)整下晶圓所能達(dá)到的最大加速度;
ax——直線導(dǎo)軌上機(jī)械手臂運(yùn)行的加速度。
根據(jù)分析晶圓在末端執(zhí)行器位姿角度調(diào)節(jié)下的加速度特性可以求得晶圓加速度與位姿轉(zhuǎn)角的關(guān)系,進(jìn)而求得末端執(zhí)行器水平運(yùn)行的加速度ax為:
(1)
式中Af——微結(jié)構(gòu)與晶圓的接觸面積;
E——彈性模量;
L——微結(jié)構(gòu)圓柱體長(zhǎng)度;
r——晶圓與機(jī)械手觸區(qū)域的當(dāng)量半徑;
t0——加速度達(dá)到a0的時(shí)間;
α——接觸壓桿的長(zhǎng)度系數(shù);
τ——晶圓傳輸接觸面的剪切強(qiáng)度;
μ——微結(jié)構(gòu)摩擦系數(shù)。
對(duì)式(1)兩端積分,可以得到機(jī)械手末端執(zhí)行器直線運(yùn)動(dòng)速度Vx為:
給定晶圓的位置坐標(biāo),由逆運(yùn)動(dòng)學(xué)方程可以求得機(jī)械手支撐構(gòu)件運(yùn)行的位移Lx為:
由此建立機(jī)械手支撐構(gòu)件和末端執(zhí)行器之間的位移、速度和加速度關(guān)系,即可完成運(yùn)動(dòng)學(xué)求解。對(duì)晶圓傳輸平臺(tái)進(jìn)行運(yùn)動(dòng)學(xué)分析,可以求解出晶圓在整個(gè)運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)中的傳輸位移、速度和加速度特性,為分析晶圓傳輸機(jī)械手主動(dòng)控制方法奠基了理論基礎(chǔ)。
在滿足晶圓傳輸機(jī)械手運(yùn)動(dòng)約束條件下,建立的晶圓傳輸機(jī)械手動(dòng)力學(xué)模型如圖3所示。同運(yùn)動(dòng)學(xué)分析一樣,可以把機(jī)械手的支撐構(gòu)件和末端執(zhí)行器看成圖3所示的AB、BC,且看成是質(zhì)心均勻分布于幾何中心的理想桿件,A為機(jī)械手基座的中心點(diǎn),B0為支撐桿件的質(zhì)心,C0為末端執(zhí)行器的質(zhì)心,mi為桿件i的質(zhì)量,Ii為桿件i的轉(zhuǎn)動(dòng)慣量。由運(yùn)動(dòng)模型簡(jiǎn)圖可知,支撐桿件AB只有沿水平做往復(fù)平動(dòng),末端執(zhí)行器BC可做位姿調(diào)整轉(zhuǎn)動(dòng)。
圖3 晶圓傳輸機(jī)械手動(dòng)力學(xué)模型
已知支撐構(gòu)件和末端執(zhí)行器的長(zhǎng)度,由圖3可得末端執(zhí)行器的質(zhì)心C0的坐標(biāo)為:
(2)
對(duì)式(2)求導(dǎo)可得C0點(diǎn)的速度:
其中V0為支撐桿件水平運(yùn)動(dòng)速度。根據(jù)速度合成法即可得到VC0的計(jì)算式:
建立了晶圓傳輸運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的坐標(biāo)系之后,系統(tǒng)的動(dòng)力學(xué)狀態(tài)用拉格朗日函數(shù)L描述,L、K、P分別代表拉格朗日函數(shù)、系統(tǒng)功能和系統(tǒng)勢(shì)能,即:
L=K-P
則拉格朗日力學(xué)基本方程可以用運(yùn)動(dòng)的所有外力之和F、轉(zhuǎn)動(dòng)的所有外力之和T與系統(tǒng)能量x表示,拉格朗日方程如下:
對(duì)于該晶圓傳輸運(yùn)動(dòng)平臺(tái),其支撐構(gòu)件相當(dāng)于連桿1,末端執(zhí)行器與連桿1之間由轉(zhuǎn)動(dòng)關(guān)節(jié)傳動(dòng)裝置連接。設(shè)連桿1的質(zhì)量為M1,末端執(zhí)行器的質(zhì)量為Mm,則二者的動(dòng)能分別為:
求得整個(gè)運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)的總動(dòng)能K為:
根據(jù)坐標(biāo)系的定義,還可以求解運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)的總勢(shì)能P:
總之,建立動(dòng)力學(xué)方程對(duì)保證晶圓傳輸機(jī)械手優(yōu)良的動(dòng)態(tài)特性和靜態(tài)特性起到了很大的作用,對(duì)其運(yùn)動(dòng)精度、可靠性等性能提供了重要的理論意義,更為研究其主動(dòng)控制方法奠基了基礎(chǔ)。
在UG中建立三維模型,通過(guò)一些必要的簡(jiǎn)化導(dǎo)入ADAMS,接下來(lái)在ADAMS中建立機(jī)械手支撐構(gòu)件與直線導(dǎo)軌之間的移動(dòng)副、晶圓與末端執(zhí)行器之間的移動(dòng)副、直線導(dǎo)軌與大地之間的固定副等,然后對(duì)晶圓傳輸運(yùn)動(dòng)平臺(tái)進(jìn)行運(yùn)動(dòng)學(xué)仿真計(jì)算。調(diào)用仿真后處理模塊ADAMS/Post process,得到晶圓、末端執(zhí)行器和其他構(gòu)件的位移、速度及加速度等特性曲線[9,10]。
根據(jù)理論計(jì)算,晶圓在水平位姿下傳輸?shù)淖畲蠹铀俣瓤蛇_(dá)4.36m/s2,但由于摩擦力受多種因素影響,而且加速度影響因素較為復(fù)雜,所以仿真結(jié)果略大于理論分析值。從圖4所示的仿真曲線可以看出,末端執(zhí)行器的加速度可以逐漸增大到5.00m/s2,而晶圓在加速度達(dá)到4.62m/s2之后不能與末端執(zhí)行器保持同步運(yùn)動(dòng)。
圖4 ADAMS仿真末端執(zhí)行器與晶圓的加速度曲線
圖5為水平位姿下晶圓與末端執(zhí)行器的位移仿真結(jié)果。初始階段,晶圓與末端執(zhí)行器的位移曲線重合,說(shuō)明兩者之間沒(méi)有發(fā)生相對(duì)滑動(dòng),并且能夠保證晶圓的可靠傳輸;當(dāng)運(yùn)動(dòng)到圖中分叉點(diǎn)位置時(shí),晶圓與末端執(zhí)行器的位移曲線偏離,之后兩條曲線不再重合,說(shuō)明晶圓與末端執(zhí)行器發(fā)生了相對(duì)滑動(dòng),不能保持同步傳輸運(yùn)動(dòng)。
圖5 ADAMS仿真末端執(zhí)行器與晶圓的位移曲線
重新設(shè)置加速度驅(qū)動(dòng)函數(shù),改變晶圓傳輸位姿,在晶圓傳輸平臺(tái)最大傳輸加速度達(dá)到15.00m/s2的條件下進(jìn)行運(yùn)動(dòng)學(xué)仿真,結(jié)果如圖6所示。可見(jiàn),通過(guò)末端位姿角度的調(diào)節(jié),能夠有效提高晶圓傳輸?shù)募铀俣?,晶圓與末端執(zhí)行器同步運(yùn)動(dòng)的加速度達(dá)到9.62m/s2。
圖7為位姿調(diào)節(jié)下晶圓和末端執(zhí)行器的傳輸位移曲線,可以看出,晶圓與末端執(zhí)行器的位移曲線重合,表明在位姿角度調(diào)整的基礎(chǔ)上,能夠有效提高晶圓傳輸?shù)目煽啃裕乐咕A發(fā)生滑移。
圖6 位姿調(diào)節(jié)下晶圓傳輸加速度曲線
圖7 位姿調(diào)節(jié)下晶圓傳輸?shù)奈灰魄€
通過(guò)以上運(yùn)動(dòng)學(xué)仿真對(duì)比分析,采用傳統(tǒng)水平位姿傳輸方式,晶圓傳輸?shù)淖畲蠹铀俣让黠@受到限制,加速度增大會(huì)導(dǎo)致晶圓出現(xiàn)滑移;在末端執(zhí)行器位姿調(diào)節(jié)的情況下,晶圓傳輸?shù)淖畲蠹铀俣燃s為9.62m/s2,而且能夠防止晶圓滑移,保證晶圓的可靠傳輸。所以,調(diào)節(jié)末端執(zhí)行器的位姿角度可有效提高晶圓傳輸?shù)募铀俣龋磳?shí)現(xiàn)高加速晶圓傳輸運(yùn)動(dòng)。
提高晶圓傳輸系統(tǒng)效率,保證晶圓片的平穩(wěn)傳輸與精確定位是目前晶圓傳輸機(jī)器人的研究重點(diǎn)。筆者以驗(yàn)證所設(shè)計(jì)的晶圓傳輸機(jī)械手是否滿足晶圓傳輸?shù)目尚行浴⒎€(wěn)定性、可靠性以及為研究晶圓高效傳輸?shù)闹鲃?dòng)控制方法為目的,對(duì)機(jī)械手進(jìn)行運(yùn)動(dòng)學(xué)和動(dòng)力學(xué)分析,分析結(jié)果表明:可以準(zhǔn)確求解晶圓傳輸運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的位移、速度、加速度以及作用力之間的關(guān)系,并且可以求解出行運(yùn)動(dòng)學(xué)以及動(dòng)力學(xué)方程,而且在晶圓傳輸過(guò)程中適時(shí)調(diào)整末端執(zhí)行器的位姿可以實(shí)現(xiàn)更高的傳輸加速度,進(jìn)而有效地提高了整個(gè)系統(tǒng)的傳輸效率、傳輸可靠性和穩(wěn)定性。
[1] 郭東明,康仁科,金洙吉.大尺寸硅片的高效超精密加工技術(shù)[C].中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)2001年年會(huì)論文集.北京:機(jī)械工業(yè)出版社,2002:35~40.
[2] 汪勁松,朱荒.我國(guó)“十五”期間IC制造裝備的發(fā)展戰(zhàn)略研究[J].機(jī)器人技術(shù)與應(yīng)用,2002,(2):5~9.
[3] Zuberek W M.Cluster Tools with Chamber Revisiting-Modeling and Analysis Using Timed Petri Nets[J].IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing,2004,17(3):333~334.
[4] Fusaro D.Teach Your Robots Well[J].Control Design Magazine,2003,21(5):26~29.
[5] Cong M,Yu X,Shen B J,et al.Research on a NovelR-θWafer-Handling Robot[C].Proceedings of the IEEE International Conference on Automation and Logistics.Piscataway,NJ:IEEE,2007:597~602.
[6] 叢明,于旭,徐曉飛.硅片傳輸機(jī)器人的發(fā)展及研究現(xiàn)狀[J].機(jī)器人技術(shù)與應(yīng)用,2007,(4):18~23.
[7] Wang J,Chung H,Wu H.Evaluating the 300mm Wafer-Handling Task in Semico-Nductor Industry[J].International Journal of Industrial Ergonomics,2004,34:459~466.
[8] 鄭小飛.晶圓傳輸機(jī)器人平穩(wěn)精確軌跡控制技術(shù)[D].哈爾濱:哈爾濱工業(yè)大學(xué),2009.
[9] 程將.基于微觀界面粘附機(jī)理的晶圓傳輸機(jī)械手控制方法研究[D].上海:上海工程技術(shù)大學(xué),2016.
[10] 羅阿妮,張家泰,劉賀平.利用ADAMS仿真分析五自由度機(jī)械手[J].計(jì)算機(jī)仿真,2005,22(7):201~203.
KinematicsandDynamicsAnalysisofWaferTransferManipulatorBasedonPositionAdjustment
GONG Yong-jia, SONG Fang
(EngineeringPracticeandTrainingCenter,ShanghaiUniversityofEngineeringScience)
The wafer transfer manipulator platform with position adjustment was established. Through analyzing the degree of freedom, it’s proved that manipulator can satisfy translational and rotational requirements of the wafer transmission; and through kinematic analysis, the kinematics equation of the manipulator was established; through the dynamics analysis based on Lagrange method, the dynamic mathematical model was deduced and its accuracy was verified.
wafer transfer manipulator, position adjustment,wafer,kinematics analysis, dynamics analysis
國(guó)家青年科學(xué)基金項(xiàng)目“基于微結(jié)構(gòu)陣列的高摩擦低粘附晶圓高效傳輸機(jī)理與主動(dòng)控制方法的研究”(51505273)。
龔永佳(1992-),碩士研究生,從事晶圓傳輸機(jī)械手主動(dòng)控制方法的研究,gongyongjia168@163.com。
TH89
A
1000-3932(2017)12-1147-05
2017-07-20,
2017-10-18)
《化工自動(dòng)化及儀表》征稿簡(jiǎn)則
1.專業(yè)范圍
報(bào)道化工、石油化工、冶金、電力、醫(yī)藥、造紙、紡織等行業(yè)過(guò)程控制理論與應(yīng)用、計(jì)算機(jī)技術(shù)及其應(yīng)用、檢測(cè)技術(shù)研究與應(yīng)用、控制裝置設(shè)計(jì)及應(yīng)用、儀器儀表技術(shù)開(kāi)發(fā)與應(yīng)用、企業(yè)技術(shù)改造經(jīng)驗(yàn)等。
2.報(bào)道內(nèi)容
◆綜述與評(píng)論。博采眾覽,兼收并蓄,及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地反映國(guó)內(nèi)外過(guò)程控制技術(shù)、檢測(cè)技術(shù)、計(jì)算機(jī)技術(shù)及儀器儀表技術(shù)的發(fā)展動(dòng)態(tài)、趨勢(shì)和水平。著文要求準(zhǔn)確性和權(quán)威性,信息量大,能夠較全面地闡明命題的過(guò)去、現(xiàn)狀及發(fā)展。
◆過(guò)程控制。報(bào)道現(xiàn)代控制理論的研究與應(yīng)用,新型控制策略及控制技術(shù)的應(yīng)用實(shí)例;先進(jìn)控制系統(tǒng)及控制裝置的現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用;國(guó)家重大科技攻關(guān)項(xiàng)目及成果。
◆檢測(cè)與儀表。報(bào)道國(guó)內(nèi)外先進(jìn)的檢測(cè)技術(shù)、自動(dòng)化儀器儀表技術(shù)的開(kāi)發(fā)與應(yīng)用。
◆研究與應(yīng)用。報(bào)道控制技術(shù)、檢測(cè)技術(shù)、計(jì)算機(jī)技術(shù)、儀器儀表技術(shù)等的研發(fā)及其在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用。
◆技改與創(chuàng)新。報(bào)道技術(shù)改造和技術(shù)成果,系統(tǒng)及儀表的日常檢測(cè)與維修經(jīng)驗(yàn)等,著文要求突出實(shí)用性。
3.投稿要求
◆文稿應(yīng)簡(jiǎn)明扼要,突出重點(diǎn),公式、數(shù)據(jù)準(zhǔn)確。
◆要求E-mail投搞,一律為Word文檔(A4幅面,單倍行距,通欄,五號(hào)字體),不受理復(fù)印稿或傳真稿。
◆每篇文章請(qǐng)附150~200字中、英文摘要,4~6個(gè)中、英文關(guān)鍵詞,作者所在單位的中、英文名稱。
◆若條件允許,每篇文章請(qǐng)附中圖分類號(hào)(分類方法請(qǐng)參考《中國(guó)圖書(shū)館分類法》第四版)。
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4.稿件受理
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