2017年11月2日，更多年輕用戶選擇的拍照手機品牌OPPO，在北京發(fā)布了其國內(nèi)首款全面屏手機R11s。在前一代爆款產(chǎn)品R11的基礎(chǔ)上， R11s在拍照、外觀設(shè)計和系統(tǒng)應(yīng)用等方面進行了全面升級。OPPO首創(chuàng)的智選雙攝、行業(yè)領(lǐng)先的AI智慧美顏、驚艷的星幕屏設(shè)計也都在R11s上得到完美呈現(xiàn)。

有別于傳統(tǒng)的區(qū)分主副攝像頭的雙攝方案，OPPO R11s此次搭載自主研發(fā)的1600萬+2000萬像素智選雙攝。R11s上的兩顆鏡頭均為主攝像頭，同樣強大，均采用f/1.7大光圈。1600萬像素攝像頭解析度高，白天拍人更自然；2000萬像素攝像頭會在暗光下通過像素聚合技術(shù)合成為2.0μm超大像素，暗光拍人更清晰；兩顆鏡頭根據(jù)拍照時的光線智能切換，結(jié)合全新升級的OPPO梯度虛化算法以及拍照優(yōu)選技術(shù)，最終實現(xiàn)拍人更清晰，背景虛化更自然。

除了硬件升級之外，OPPO R11s還搭載了全新的ColorOS 3.2系統(tǒng)，基于AI的智能相冊能夠建立用戶專屬相冊，并且可以更快速地查找自己想要的照片；而獨特的相冊存儲空間優(yōu)化功能則大大降低了海量照片對本地存儲的占用。

為了保證AI應(yīng)用在R11s上的高效運行，OPPO聯(lián)合高通基于驍龍660移動平臺，共同推進了驍龍神經(jīng)處理引擎（Neural Processing Engine）的終端應(yīng)用。在AI應(yīng)用運行時，充分發(fā)揮GPU、DSP的運算能力，大大提升了R11s上AI應(yīng)用運行時的處理速度，并且功耗也得到了大幅度降低。

坐擁三大升級的OPPO R11s依然采用性能強勁、功耗低的高通驍龍660移動平臺，配合3205mAh大電池、VOOC閃充等出色配置，給用戶更加全面的使用體驗。

2017麗水攝影節(jié)

2017麗水攝影節(jié)于2017年11月15日—19日在麗水舉行。本屆主題為“超媒體時代的影像”，展覽呈現(xiàn)方式豐富，有傳統(tǒng)紙質(zhì)、動態(tài)視頻、VR情境、現(xiàn)場裝置、行為藝術(shù)等。2017年攝影節(jié)堅持“學(xué)術(shù)性”“國際性”“群眾性”“品牌性”的策劃理念且成為歷史之最：一個主題、十個大家、一百個學(xué)術(shù)展、一千個平行展、一萬個攝影家和攝影愛好者，整個攝影節(jié)包含15個展區(qū)。

魯明軍獲得CCAA中國當代藝術(shù)獎第六屆評論獎張獻民獲特別獎

2017年11月8日上午，2017年CCAA中國當代藝術(shù)獎第六屆評論獎在中央美術(shù)學(xué)院美術(shù)館頒布 。今年該獎項授予了四川大學(xué)藝術(shù)學(xué)院美術(shù)學(xué)系副教授魯明軍的寫作提案《疆域之眼：當代藝術(shù)的地緣政治與后全球化政治》，旨在探討近三四十年來各地出現(xiàn)的民族分離運動以及政治保守主義的回潮與藝術(shù)實踐之間的多重關(guān)系。與此同時，本屆評論獎還增設(shè)了特別獎，授予北京電影學(xué)院文學(xué)系教授張獻民的《公共影像》，該提案關(guān)注被大眾所觀看的公共領(lǐng)域影像，將當代藝術(shù)批評拓展到視覺文化和媒體文化的領(lǐng)域。

江小白跨界玩嘻哈 發(fā)布明星簽名限量版產(chǎn)品

為彰顯新世代青年個性文化，江小白攜手GAI、Bridge、C-BLOCK、龍膽紫等當紅嘻哈音樂人，開啟“江小白YOLO音樂現(xiàn)場”計劃。從2016年起的國內(nèi)四城巡演，擴大到今年的十城巡演，活動受到嘻哈樂迷的熱捧。為紀念這場嘻哈盛宴，江小白推出了YOLO簽名限量版及YOLO特別版。通過為嘻哈音樂新生力量搭建舞臺，將小眾的藝術(shù)形式推廣到更多的年輕人中間，江小白營造出一個清淡型高粱酒與嘻哈音樂交融的“文化特區(qū)”。

影像舊金山藝術(shù)博覽會

影像舊金山藝術(shù)博覽會將于2018年2月23—25日回歸舊金山灣區(qū)標志性的福特梅森中心。2月22日開幕夜將用于支持舊金山現(xiàn)代美術(shù)館（SFMOMA）攝影項目。

自2017年成立以來，影像舊金山藝術(shù)博覽會通過其精品的規(guī)模和國際的視野定位為西海岸的前沿藝術(shù)盛會。藝博會為參展畫廊在這個具有深厚攝影傳統(tǒng)的城市提供了一個無可比擬的平臺，使其成為收藏和欣賞影像的主要目的地。

畫廊參展申請正在進行中，申請核心版塊的畫廊須具有國際藝術(shù)家作品，并每年至少舉辦四次展覽，畫廊提交個展或群展申請皆可。