張 昕, 溫培剛
(1. 北京機(jī)械工業(yè)自動(dòng)化研究所,北京 100120;2.中國航發(fā)北京航空材料研究院, 北京100095)
AM355是一種廣泛應(yīng)用于發(fā)動(dòng)機(jī)壓氣機(jī)葉片及葉片盤的半奧氏體沉淀硬化鋼。由于壓氣機(jī)工作時(shí)經(jīng)常會(huì)吸入空氣中的固體顆粒造成沖蝕,易使葉片損傷失效,因此通常在葉片表面制備一層陶瓷薄膜對(duì)葉片進(jìn)行保護(hù)。雖然陶瓷材料具有良好的耐磨、耐蝕性能,但普遍存在韌性差、易碎易裂、易剝落的問題。多層膜結(jié)構(gòu)是解決這一問題最有可能的途徑,有研究表明,多層膜結(jié)構(gòu)能獲得比單一膜層結(jié)構(gòu)更優(yōu)越的性能,涂層中大量界面能起到降低應(yīng)力、阻礙位錯(cuò)、鈍化裂紋尖端并阻礙裂紋擴(kuò)展等作用,同時(shí)還可改善膜層與基體的結(jié)合,提高鍍層的韌性和強(qiáng)度[1-2]。
目前,國內(nèi)外已有相關(guān)單位采用多層膜技術(shù)在各類葉片的耐磨、耐蝕防護(hù)方面開展了大量的研究工作,且國外已將該技術(shù)成功應(yīng)用于商業(yè)化產(chǎn)品[3]。針對(duì)葉片表面涂層的研究主要集中在涂層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)(如納米復(fù)合涂層、多層交替周期涂層[4-5])、多元涂層體系的開發(fā)(如三元/四元摻雜涂層[6-7])以及相關(guān)強(qiáng)化機(jī)理[8-9]、表征技術(shù)研究等方面[10],但在膜層交替周期對(duì)多層膜性能的影響研究方面還鮮有報(bào)道。本文在AM355鋼基體上制備了CrNx/TiyCr1-yN復(fù)合多層膜,就膜層交替周期對(duì)其表面硬度和膜層與基體結(jié)合力的影響進(jìn)行了研究。
試驗(yàn)為MEVVA離子束復(fù)合鍍膜設(shè)備(型號(hào)MEVVA-1510 & FAD -90+0)。該設(shè)備具有兩個(gè)陰極真空磁過濾弧源和一個(gè)MEVVA金屬源,具有低能離子注入清洗、離子注入摻雜的能力,可實(shí)現(xiàn)多組元膜層的制備。
試驗(yàn)用基體材料采用AM355鋼。將AM355鋼棒切割成φ20mm×8mm的圓柱型試樣,鍍膜面用碳化硅砂紙按照 300#、600#、1000#、2000#的順序依次打磨,然后用2.5μm金剛石研磨膏拋光。試樣拋光完成后用丙酮和酒精超聲清洗并烘干。
試樣在膜層沉積之前先用8kV MEVVA源低能濺射清洗 3~5min,然后用 25~30kV 的 Cr1+注入到試樣中用以改善膜層與基體的結(jié)合,注入時(shí)間15min,束流為10~15mA。經(jīng)離子注入實(shí)現(xiàn)預(yù)過渡區(qū)后,沉積一層70~100nm厚的Cr過渡層,然后按照試驗(yàn)設(shè)計(jì)將試樣分別停留在左右弧源處實(shí)現(xiàn)CrNx/TiyCr1-yN交替沉積,氮?dú)馔ㄈ肓勘3?5sccm,真空度維持在3.0×10-2~3.5×10-2Pa,負(fù)偏壓-200 V。每一次CrNx/TiyCr1-yN相復(fù)合稱作一個(gè)交替周期,結(jié)合前期試驗(yàn)經(jīng)驗(yàn),將3組試驗(yàn)交替周期分別定為5、13和26,交替膜中CrNx/TiyCr1-yN的沉積時(shí)間比為1∶1,總沉積時(shí)間為270min。3組試樣的總膜厚均控制在3μm左右,以盡量保證測試結(jié)果的可對(duì)比性。
采用Hitachi S4800場發(fā)射掃描電子顯微鏡對(duì)樣品形貌進(jìn)行觀察,采用EDS測試膜層成分。
采用X射線衍射儀測試膜層物相結(jié)構(gòu),X射線管為Cu靶陰極,加速電壓40kV,電流30mA,采用連續(xù)掃描模式,掃描角度為 10°~80°,掃描速度2°/min,取樣間隔0.02°。
采用HXD-1000TMSC型顯微硬度計(jì)對(duì)試樣表面膜層硬度進(jìn)行努式硬度測試,選取至少5個(gè)測試點(diǎn),取平均值作為測量結(jié)果。顯微硬度測試條件為載荷200g,保載時(shí)間10s。
用WS-88自動(dòng)劃痕儀對(duì)試樣表面膜層的結(jié)合力進(jìn)行測試,測試模式為聲發(fā)射模式,測試條件為終止載荷100N,加載速度100N/m,劃痕長度5mm。
圖1為CrNx/TiyCr1-yN的表面形貌,可以看出:膜層表面致密、無孔洞,僅有少量大顆粒和大顆粒脫落留下的凹坑,對(duì)涂層整體性能影響較小。
圖2為CrNx/TiyCr1-yN多層膜的截面形貌,每層CrNx/TiyCr1-yN之間均存在過渡界面,從而阻礙柱狀晶快速生長,避免了在膜層中形成粗大的柱狀晶組織;膜層的交替層非常明顯,隨著交替周期的增加,交替層中CrNx/TiyCr1-yN的厚度比逐漸接近1∶1;膜層生長均勻,交替層在表面微小起伏處的膜厚分布仍能保持一致。3組試樣的總膜厚均控制在了3μm左右。
圖1 多層膜表面SEM形貌Fig.1 SEM micrographs of multilayers
圖2 多層膜截面SEM形貌Fig.2 Cross section SEM micrographs of multilayer
采用FESEM上搭載的EDS能譜測試膜層的成分,結(jié)果顯示CrNx/TiyCr1-yN膜層中各元素的原子比Ti∶Cr∶N≈28∶22∶50,N原子所占比例達(dá)到50%,金屬Ti、Cr總占比達(dá)到50%。因此,從成分判斷該多層膜中主要組成是CrN和含有Cr元素?fù)诫s的Ti-N。
用X射線衍射技術(shù)進(jìn)一步分析了多層膜中的物相,結(jié)果如圖3所示。從測試結(jié)果來看,多層膜的物相主要為TiN、CrN,未觀察到明顯的TiCrN峰。在膜層沉積時(shí)Ti離子和Cr離子共同化合形成TiyCr1-yN所需能量較高,在本試驗(yàn)參數(shù)下,Ti離子和Cr離子均優(yōu)先與N離子形成各自的氮化物。由于TiyCr1-yN的中間反應(yīng)歷程較TiN和CrN更加復(fù)雜,以至在TiyCr1-yN未形成時(shí)便以TiN、CrN的中間反應(yīng)物的形式形成最終物相。
XRD譜圖中最強(qiáng)峰是TiN(111)的衍射峰,3組試樣中該峰分布角度約在36°附近,次強(qiáng)峰是TiN(222)衍射峰,分布角度在77°附近;而CrN(200)衍射峰則分布在43°左右。比較圖譜中各衍射峰位置變化可見,隨著交替周期的增加各物相的衍射峰均逐漸向大角度的方向移動(dòng),由布拉格方程:可知,當(dāng)X射線波長λ不變時(shí),衍射角θ越大(30°<θ<80°),對(duì)應(yīng)的sinθ值越大,則晶面間距d越小,說明隨多層膜交替周期的增加,晶面間距逐漸減小。
觀察77°附近的衍射峰發(fā)現(xiàn),隨著交替周期增加該峰逐漸變寬,說明多層膜界面存在弱晶或非晶趨勢。文獻(xiàn)[11]研究表明,非晶帶主要在薄膜過渡層或過渡層與基體之間的界面處出現(xiàn),隨著周期增加,界面數(shù)增多,使得界面處弱晶或非晶比例增大,從而導(dǎo)致77°附近的衍射峰逐漸變寬。
本試驗(yàn)中3組不同交替周期試樣表面顯微硬度測試結(jié)果見表1。
從測試結(jié)果可看出,隨著多層膜交替周期增加,膜層硬度逐漸降低。本研究中,為了保證膜層結(jié)合力,在CrxN/TiyCr1-yN交替時(shí)都制備有Ti-Cr合金過渡層,過渡層本身的硬度較低。因此,隨著交替周期數(shù)增加,過渡層總沉積時(shí)間延長、所占涂層比重增大,多層膜硬度總體呈現(xiàn)下降的趨勢。
用WS-88自動(dòng)劃痕儀對(duì)多層膜結(jié)合力進(jìn)行測試,3組試樣測試結(jié)果。
從測試結(jié)果可看出,隨著交替周期增加,多層膜的硬度呈現(xiàn)先升高后降低的趨勢。已有研究表明[1-2,5],多層膜結(jié)構(gòu)能夠很好地起到緩解界面處應(yīng)力的作用,因此在周期數(shù)從5增至13的過程中,多層膜結(jié)合力逐漸升高。隨著周期數(shù)進(jìn)一步增加,界面處的弱晶/非晶對(duì)膜層結(jié)合力的影響逐漸增大并占據(jù)主導(dǎo),因此膜層的結(jié)合力在達(dá)到某一峰值后開始下降。
圖3 多層膜物相測試XRD譜圖Fig.3 XRD patterns of multilayer
表1 多層膜顯微硬度(HK)
(1)采用本試驗(yàn)中工藝制備的CrN/TiCrN多層膜均勻致密,結(jié)合良好,膜層主要物相為TiN、CrxN和少量TiyCr。
(2)隨著交替周期數(shù)增加,硬度較低的Ti-Cr過渡區(qū)所占比例增加,多層膜硬度逐漸降低。
(3)隨著交替周期數(shù)增加,多層膜結(jié)合力呈現(xiàn)先升高后緩慢降低的趨勢。
參 考 文 獻(xiàn)
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