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·病例報(bào)告·
人工耳蝸電極誤入上半規(guī)管一例分析
李紅敏1葉放蕾1王樂1郭麗娟1李玲1
網(wǎng)絡(luò)出版時(shí)間:http://www.cnki.net/kcms/detail/42.1391.R.20160224.1502.002.html
網(wǎng)絡(luò)出版地址:2016-2-2415:02
人工耳蝸植入術(shù)作為重度及極重度感音神經(jīng)性聾患者的最佳聽覺補(bǔ)償方法,已得到廣泛應(yīng)用,但由于耳蝸與鄰近結(jié)構(gòu)解剖細(xì)微,手術(shù)中有可能出現(xiàn)一過性面癱、外耳道及鼓膜損傷、腦脊液“井噴”、硬腦膜損傷、頭皮血腫、電極位置異常等并發(fā)癥,其中,植入電極位置異常會(huì)嚴(yán)重影響術(shù)后患者聽力及言語康復(fù)效果?,F(xiàn)報(bào)道1例人工耳蝸電極誤入上半規(guī)管患者的臨床資料,希望有助于提高耳科醫(yī)師對(duì)人工耳蝸電極植入位置異常的認(rèn)識(shí)及處理能力,以降低人工耳蝸再次手術(shù)發(fā)生率。
1病例資料
患兒,女,3歲,出生時(shí)聽力篩查未通過,當(dāng)?shù)蒯t(yī)院診斷為雙耳極重度感音神經(jīng)性聾,曾佩戴助聽器2年,聽覺及言語能力無明顯改善。入院后對(duì)患者肢體及智力發(fā)育評(píng)估正常,聽性腦干反應(yīng)(ABR)檢測100 dB nHL未引出反應(yīng),畸變產(chǎn)物耳聲發(fā)射(DPOAE)雙耳未通過,鼓室導(dǎo)抗圖雙耳為“A”型。術(shù)前顳骨螺旋CT、頭顱MRI及內(nèi)耳水成像均未見明顯異常。完善術(shù)前常規(guī)檢查,排除手術(shù)禁忌后患兒于全身麻醉下行右側(cè)人工耳蝸植入術(shù),植入耳蝸為美國AB人工耳蝸,型號(hào)為CI-5235。
手術(shù)方式:采用面神經(jīng)隱窩入路,取耳后切口,開放乳突及后鼓室,進(jìn)入面神經(jīng)隱窩,暴露圓窗龕后,常規(guī)磨除圓窗龕上緣部分骨質(zhì)完全暴露圓窗膜,于圓窗前下方骨壁上磨削出一直徑1 mm的小孔,見少量淋巴液溢出,即耳蝸開窗;用推進(jìn)器將刺激電極從該耳蝸開窗處植入全部電極至marker處,筋膜組織填塞骨窗周圍以固定電極;逐層縫合切口,同時(shí)檢測電極阻抗及神經(jīng)反應(yīng)遙測,結(jié)果顯示各電極阻抗參數(shù)正常,神經(jīng)反應(yīng)遙測給予高強(qiáng)度刺激后可引出聽神經(jīng)復(fù)合動(dòng)作電位波形。
術(shù)后患兒神志清晰,監(jiān)測生命體征平穩(wěn),術(shù)后次日即可下地玩耍,精神狀態(tài)良好,無眩暈、惡心、嘔吐、行走不穩(wěn)等異常表現(xiàn)。術(shù)后第6天常規(guī)行耳蝸X片檢查,發(fā)現(xiàn)電極可能誤入上半規(guī)管(圖1),行顳骨CT檢查進(jìn)一步明確電極位置為上半規(guī)管(圖2)?;純涸俅卧谌砺樽硐轮匦路胖秒姌O,術(shù)中于耳后原切口切開皮膚皮下,重新暴露乳突腔,開放面隱窩,緩慢完整取出鼓階內(nèi)的電極,擴(kuò)大原骨窗,一次成功植入全部電極,用少許顳肌筋膜填塞骨窗固定,間斷縫合傷口,同時(shí)檢測電極阻抗,示所有電極阻抗參數(shù)正常,神經(jīng)反應(yīng)遙測示聽神經(jīng)復(fù)合動(dòng)作電位波形分化良好;術(shù)中行耳蝸X線攝片顯示全部電極植入耳蝸內(nèi),無扭曲、打折、位置異常等。術(shù)后患兒無面癱、眩暈等并發(fā)癥,患兒正常出院,術(shù)后一月時(shí)開機(jī)反應(yīng)良好。
圖1首次人工耳蝸植入術(shù)后耳蝸X片顯示電極植入位置異常,疑似誤入上半規(guī)管
圖2首次人工耳蝸植入術(shù)后顳骨CT片證實(shí)電極植入位置為上半規(guī)管
2討論
人工耳蝸植入術(shù)中將電極全部植入耳蝸內(nèi)是手術(shù)的關(guān)鍵,如果手術(shù)后發(fā)現(xiàn)耳蝸電極植入位置異常則必須再次手術(shù)糾正。
電極植入位置異常是指電極植入除耳蝸之外的其他非正常位置,包括前庭、半規(guī)管、內(nèi)聽道及頸內(nèi)動(dòng)脈管等處。隨著人工耳蝸植入術(shù)的廣泛開展,電極植入位置異常的情況時(shí)有發(fā)生,張道行等[1]報(bào)道人工耳蝸植入手術(shù)1 396例,發(fā)生電極植入位置異常3例,占0.21%。國外文獻(xiàn)[2,3]報(bào)道人工耳蝸電極植入位置異常發(fā)生率為0.5%~1%。分析其原因主要有:①內(nèi)耳解剖變異,Tange等[4]報(bào)道過1例因耳蝸底骨化致電極植入前庭;②耳蝸正常解剖標(biāo)志不清,由于國內(nèi)多選用圓窗龕前打孔處將電極植入鼓階的方法,若無圓窗結(jié)構(gòu),例如:圓窗骨化,或圓窗結(jié)構(gòu)狹小,易導(dǎo)致術(shù)中耳蝸開窗位置錯(cuò)誤致電極植入位置異常;余力生等[5]報(bào)道1例行10余次中耳炎手術(shù)后的患者,由于人工耳蝸植入術(shù)中很難定位耳蝸的部位,致使電極植入后半規(guī)管內(nèi),術(shù)后開機(jī)時(shí)患者發(fā)生了嚴(yán)重的眩暈;Sun等[6]報(bào)道行人工耳蝸植入手術(shù)695例,電極誤入上半規(guī)管2例,占0.28%,術(shù)者經(jīng)圓窗膜植入電極,認(rèn)為電極誤入上半規(guī)管的原因?yàn)榛颊邎A窗膜較小,耳蝸鼓階的可視性較差,術(shù)者無法清晰辨認(rèn)電極植入方向,且圓窗膜到前庭較鼓階的距離更近,電極易經(jīng)前庭植入上半規(guī)管。分析文中病例電極植入半規(guī)管的原因可能為:①耳蝸造口術(shù)中骨窗直徑過小,面隱窩開放視野不夠,不能清晰辨認(rèn)耳蝸鼓階結(jié)構(gòu),導(dǎo)致植入電極時(shí)過于盲目;②植入電極的方向有誤,電極方向未指向耳蝸底回的遠(yuǎn)端,而逆行進(jìn)入半規(guī)管;③電極植入時(shí)使用產(chǎn)品自帶推進(jìn)器,與使用電極叉相比更機(jī)械化,電極插入基底膜時(shí)的阻力感覺不明顯,致使電極誤入上半規(guī)管。該例再次手術(shù)時(shí),擴(kuò)大耳蝸開窗,電極植入方向?yàn)橛芍踩肟谥赶蚨伒谆氐倪h(yuǎn)端,全部電極順利植入耳蝸內(nèi)。
Viccaro等[7]報(bào)道1例人工耳蝸植入手術(shù)病例,術(shù)中檢測神經(jīng)反應(yīng)遙測時(shí)給予較強(qiáng)的刺激強(qiáng)度可引出聽神經(jīng)復(fù)合動(dòng)作電位波形,但行耳蝸X平片示電極誤入上半規(guī)管,認(rèn)為電極植入上半規(guī)管所引出的聽神經(jīng)復(fù)合動(dòng)作電位是由高強(qiáng)度電流刺激造成的,與電極植入耳蝸時(shí)產(chǎn)生的反應(yīng)相同。Tange等[4]報(bào)道的人工耳蝸植入病例中,術(shù)中檢測電極阻抗正常,且給予恰當(dāng)刺激能引起神經(jīng)反應(yīng),術(shù)后開機(jī)時(shí)患者發(fā)生一過性眩暈,CT檢查發(fā)現(xiàn)電極植入前庭。可見,雖然術(shù)中行電極阻抗及神經(jīng)反應(yīng)遙測可幫助術(shù)者對(duì)電極植入部位做出初步預(yù)測,但引出神經(jīng)反應(yīng)不能說明電極一定在蝸管內(nèi),因此,不應(yīng)把聽神經(jīng)復(fù)合動(dòng)作電位波形引出與否作為衡量手術(shù)成功的唯一標(biāo)準(zhǔn)。
人工耳蝸植入術(shù)中電生理學(xué)和影像學(xué)檢查起著不同的作用,電極阻抗和神經(jīng)反應(yīng)遙測只能反映電極的完整性和植入電極的工作狀態(tài);影像學(xué)檢查可以直觀地反映電極的位置、插入深度、與蝸軸接觸程度、電極是否彎曲等,因此術(shù)中行影像學(xué)檢查很有必要[8~10],尤其是對(duì)于新近開展人工耳蝸植入項(xiàng)目和電極植入有難度的患者術(shù)中更應(yīng)行影像學(xué)檢查,避免人工耳蝸電極植入位置異常,降低再次手術(shù)的發(fā)生率。
綜上所述,人工耳蝸植入手術(shù)者應(yīng)熟練掌握內(nèi)耳解剖及正確的手術(shù)方式,并將電極阻抗、神經(jīng)反應(yīng)遙測及影像學(xué)檢查結(jié)合起來評(píng)估植入電極的完整性及植入位置的準(zhǔn)確性,尤其當(dāng)患者存在內(nèi)耳解剖結(jié)構(gòu)異常,或術(shù)者對(duì)植入電極位置沒有把握時(shí),術(shù)中應(yīng)行影像學(xué)檢查,進(jìn)一步確認(rèn)電極植入位置是否正常,若植入位置異常應(yīng)及時(shí)予以糾正。
3參考文獻(xiàn)
1張道行,李玉潔. 1 396例人工耳蝸植入圍手術(shù)期并發(fā)癥討論[J].臨床耳鼻咽喉頭頸外科雜志,2010,24:433.
2Kubo T,Matsuura S.Complications of cochlear implant surgery[J].Operative Techniques Otolaryngol,2005,18:154.
3Kim CS.Management of complication in cochlear implantation[J].Acta Otolaryngol,2008,128:408.
4Tange RA,Grolman W,Maat A. Intracochlear misdirected implantation of a cochlear implant[J].Acta Otolaryngol,2006,126:650.
5余力生,陳峰,鄭鴻偉,等.再次人工耳蝸植入術(shù)[J].中華耳鼻咽喉科雜志,2004,39:598.
6Sun JQ, Sun JW, Hou XY,et al.Electrode array misplacement into the superior semicircular canal:as a rare complication of cocolear implantation[J].Internatinal Journal of Pediatric Otorhinolaryngology,2014,78:1537.
7Viccaro M, De Seta E, Covelli E,et al. Another reason for intra-operative imaging during cochlear implantation[J].The Journal of Laryngology,2008,122:e12.
8譚頌華,唐安洲,陳平,等.人工耳蝸植入術(shù)中蝸內(nèi)電極X線拍片的臨床意義[J].臨床耳鼻咽喉頭頸外科雜志,2012,26:598.
9Sorrentino T,Laborde ML,Cochard N,et al.Cochlear reimplantations:technical and surgical failures[J].Acta Otolaryngol,2009,129:380.
10Viccaro M, De Seta E,Balsame G,et al.The importance of intra-operative imaging during cochlear implant surgery[J].Cocolear Implants International,2009,10:198.
(2015-10-08收稿)
(本文編輯李翠娥)
【中圖分類號(hào)】R764.5
【文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼】A
【文章編號(hào)】1006-7299(2016)02-0207-02
DOI:10.3969/j.issn.1006-7299.2016.02.024
1鄭州大學(xué)第一附屬醫(yī)院耳鼻咽喉頭頸外科(鄭州450002)