摘 要:在陽(yáng)極氧化基礎(chǔ)之上發(fā)展起來(lái)的微弧氧化,其制備方法簡(jiǎn)單,操作方便可控,并且對(duì)環(huán)境的污染極小,近年來(lái)引起了國(guó)內(nèi)外學(xué)者的高度重視,文章介紹了微弧氧化特性、應(yīng)用的領(lǐng)域、技術(shù)特點(diǎn),微弧氧化膜層與其他膜層相比的優(yōu)越性及膜層的適用領(lǐng)域。
關(guān)鍵詞:微弧氧化;特性;微弧氧化膜層;應(yīng)用領(lǐng)域
微弧氧化是在陽(yáng)極氧化的基礎(chǔ)之上發(fā)展起來(lái)的,別名陽(yáng)極火花沉積、微等離子氧化,仍然屬于電化學(xué)的范疇,其處理方法是將試樣(鋁、鈦、鎂等金屬)或這些金屬的合金放置于根據(jù)需求調(diào)配好的電解液中,利用電化學(xué)原理,使試樣表面產(chǎn)生空洞并火花放電,最終制備出成分均勻的微弧氧化膜,整個(gè)實(shí)驗(yàn)過(guò)程是處于高電壓下,通常都是數(shù)百伏以上,而陽(yáng)極氧化的電壓一般在幾十伏以下,而電壓與電流成正比,這就決定了微弧氧化的電流大,往往是數(shù)安以上,實(shí)驗(yàn)過(guò)程不斷有火花放電,在高電壓、高溫度及氧化反應(yīng)的綜合作用下最終在試樣表層形成了孔隙疏松的薄膜。
這門技術(shù)是電化學(xué)脈沖、陽(yáng)極氧化的結(jié)合及升級(jí),由于微弧氧化膜的形成是從底材上進(jìn)行生長(zhǎng),與底材結(jié)合非常緊密,不會(huì)輕易脫落,有數(shù)據(jù)顯示其結(jié)合強(qiáng)度達(dá)到56MPa左右,提高了其使用過(guò)程中的耐磨性及抗腐蝕能力,除此之外,微弧氧化的投入成本低,操作工藝簡(jiǎn)單,實(shí)驗(yàn)設(shè)備的成本也很少,對(duì)工件的形狀要求低,完成周期短,實(shí)驗(yàn)過(guò)程中只需3~5min就可以制得微弧氧化膜,既節(jié)約了時(shí)間又節(jié)省了成本,而制得的表面具有提高材料耐磨強(qiáng)度、耐腐蝕性,并能保持絕緣等一系列優(yōu)點(diǎn)。
如果將微弧氧化應(yīng)用于陶瓷上,那么制備出的陶瓷體內(nèi)部仍然為致密體,表層為多孔狀,如果通過(guò)對(duì)電解液的成分加以調(diào)整,可以增加人體組織中缺少的鈣、磷的元素,這對(duì)于鈦及其合金在生物材料方向的應(yīng)用及前進(jìn)有明顯的助力,由微弧氧化作用材料使得其表層產(chǎn)生空洞,粗糙度增大,而恰恰是這種空洞結(jié)構(gòu)非常有利于骨細(xì)胞生長(zhǎng),促進(jìn)假體鈦基和人體更好的融合在一起,減少了假體的磨損性及由于運(yùn)動(dòng)而產(chǎn)生的脫落,假體的使用時(shí)間延長(zhǎng),現(xiàn)在這門新興的技術(shù)引起了國(guó)內(nèi)外學(xué)者的廣泛關(guān)注[1]。
微弧氧化技術(shù)是在陽(yáng)極氧化及電化學(xué)綜合基礎(chǔ)上的一次升級(jí),是一門新的具有突破性的技術(shù),微弧氧化的電壓高達(dá)上百伏,而電壓和電流成正比,在高電壓下其電流自然也增加,微弧氧化的過(guò)程是處在火花放電區(qū)域,在高電壓的作用下,材料表層空隙膜均勻,比面積低,金屬在電化學(xué)過(guò)程中同時(shí)經(jīng)歷高電壓、大電流,這種綜合作用等同表層材料經(jīng)歷了高溫高壓,所以最終得到的孔隙膜物理化學(xué)性能更加優(yōu)異,在實(shí)驗(yàn)的過(guò)程中,可以肉眼觀察到放電、火花、輝光等現(xiàn)象,試樣表層在經(jīng)歷過(guò)微弧氧化的技術(shù)處理后,其相結(jié)構(gòu)發(fā)生了重大改變。此外,微弧氧化技術(shù)對(duì)材料的形狀要求不高,對(duì)于空心試件甚至形狀不規(guī)則或較為復(fù)雜的試件均可進(jìn)行氧化鍍膜,其原因在于原液離子受到電場(chǎng)力的影響作用從而會(huì)均勻覆蓋于基層表面。
微弧氧化第二大特征是制得的產(chǎn)品表層有空洞,粗糙度高,但基底緊實(shí),這種質(zhì)地粗糙的有空洞的表層非常有利于骨細(xì)胞的生長(zhǎng)與附著,有助于假體與人體骨的融合,從材料體側(cè)面觀察可以將表層膜分三部分,最外層稱為疏松層,疏松層的質(zhì)地較硬,主要是經(jīng)過(guò)電化學(xué)反應(yīng)的沉積物附著而成,直觀表現(xiàn)為孔洞,粗糙度很高,如果產(chǎn)品要求提高產(chǎn)品表面粗糙度,可直接通過(guò)拋光等手法對(duì)疏松層進(jìn)行打磨,或者通過(guò)調(diào)節(jié)電壓參數(shù)來(lái)控制孔洞的大?。恢虚g層為致密層,相對(duì)于疏松層,孔洞尺寸明顯變小,直徑保持在10um以下,成相主要表現(xiàn)為金紅石型二氧化鈦,也有少量的銳鈦礦存在,致密層的硬度較高,耐磨性能好,對(duì)于采用微弧氧化的假體來(lái)說(shuō),致密層可以起到隔離假體與體液的接觸,同時(shí)起到一定的提高疲勞磨損的作用,進(jìn)一步提升了假體壽命;最內(nèi)層是界面層,界面層表現(xiàn)為復(fù)雜相,其成分為金屬與電化學(xué)沉積的混合體,微弧氧化有非常重要的特點(diǎn)是氧化膜層的成分及其性質(zhì)可以通過(guò)調(diào)配電解液來(lái)控制,針對(duì)不同組分不同比例的電解液最終得到的人們所需的氧化膜層,比如制備一些具有修飾功能的膜層,通過(guò)改變電解液成分還能得到一些阻隔溫度層膜、絕緣層膜等,將其應(yīng)用的范圍擴(kuò)展至醫(yī)藥、光催化等領(lǐng)域,比如在人體的鈦合金假體組織的膜層中加入鈣,可提高生物活性,延長(zhǎng)假體壽命[2]。
除此之外,微弧氧化技術(shù)及其膜層具有許多其他膜層無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn),總結(jié)如下:
(1)孔隙率極低,從而微弧氧化膜具有抗腐蝕的性能及較好的絕緣性;
(2)在溫度較高時(shí)會(huì)發(fā)生相變,相變后膜層的硬度、耐磨性提高;
(3)可以改變操作工藝及控制電解液成分設(shè)計(jì)出滿足需求的氧化膜,增加了它的應(yīng)用性能;
(4)膜層直接在基底上生長(zhǎng),對(duì)于形狀復(fù)雜的構(gòu)建仍然適用;
(5)可以通過(guò)氧化時(shí)間來(lái)控制氧化層厚度,通過(guò)調(diào)整電壓或電流來(lái)調(diào)控孔徑的大??;
(6)反應(yīng)速度較快,對(duì)環(huán)境要求極低,在自然常溫下就可以進(jìn)行,操作工藝步驟少,方便批量生產(chǎn);
(7)大多數(shù)金屬材料都可以進(jìn)行微弧氧化;
(8)不會(huì)對(duì)周圍的環(huán)境造成污染。
前文提到利用微弧氧化技術(shù)可以制備出具有不同功效的膜層,其應(yīng)用領(lǐng)域主要表現(xiàn)為以下幾個(gè)方面:制備出的具有耐蝕性能的膜層多用于化學(xué)設(shè)備、建筑、管道等,制備出的具有耐磨性能的膜層多用于機(jī)械領(lǐng)域、發(fā)動(dòng)機(jī)部件等,制備出的具有絕緣功能的膜層多用于儀器儀表等電子領(lǐng)域,還有一些膜層具有特定的功能性適用于光催化、醫(yī)療器材等領(lǐng)域。
參考文獻(xiàn)
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[2]LH Li,YM Kong,HW Kim,et al. Improved biological performance of Ti implants due to surface modification by micro-arc oxidation. Biomaterials. 2004,25(14):2867-2875.
作者簡(jiǎn)介:羅錦潔(1986-),女,漢族,四川儀隴人,單位:重慶三峽學(xué)院機(jī)械工程學(xué)院,碩士,助教,主要研究方向:材料表面改性。