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        圖形電鍍?nèi)苠a問(wèn)題改善方法

        2015-08-18 02:38:05韓焱林周海光深圳崇達(dá)多層線路板有限公司廣東深圳518132
        印制電路信息 2015年8期
        關(guān)鍵詞:鍍錫電鍍厚度

        王 佐 韓焱林 周海光(深圳崇達(dá)多層線路板有限公司,廣東 深圳 518132)

        圖形電鍍?nèi)苠a問(wèn)題改善方法

        王 佐韓焱林周海光
        (深圳崇達(dá)多層線路板有限公司,廣東 深圳 518132)

        圖形電鍍又叫二次電鍍,目的是為了為滿足各線路額定的電流負(fù)載,各線路和孔銅銅厚需要達(dá)到一定的厚度。線路鍍銅的目的是將孔銅和線路銅加厚到一定的厚度;而電鍍錫的作用是為了保護(hù)線路蝕刻。當(dāng)圖形電鍍錫不良時(shí),電路板經(jīng)蝕刻從而造成開(kāi)路缺口等報(bào)廢,為能更好的解決因溶錫問(wèn)題造成的報(bào)廢,現(xiàn)從多個(gè)角度分析影響溶錫的因素。

        1 問(wèn)題分析

        PCB圖形電鍍流程是先沉銅,沉銅后板電閃鍍6 μm ~ 10 μm,經(jīng)外層圖形將不需要的部分用干膜蓋住,再經(jīng)圖形電鍍,將所需圖形電鍍到客戶所需銅厚,經(jīng)電鍍錫起到保護(hù)客戶所需要的圖形。

        圖形電鍍工序出現(xiàn)批量外層開(kāi)路缺口和蝕刻過(guò)度等問(wèn)題,針對(duì)此類問(wèn)題跟進(jìn)處理,發(fā)現(xiàn)此類開(kāi)路缺口造成原因?yàn)橥鈱鱼~不抗蝕所致,經(jīng)試驗(yàn)跟進(jìn),發(fā)現(xiàn)電鍍錫不良。錫面未保護(hù)好銅面,蝕刻藥水滲入咬蝕銅面,如圖1所示。

        圖1 圖形電鍍鍍錫不良問(wèn)題

        從圖1可以看出:溶錫不良問(wèn)題為鍍錫層不抗蝕,不能滿足保護(hù)銅面的要求,導(dǎo)致銅面在蝕刻作業(yè)過(guò)程中被咬蝕掉而產(chǎn)生不良。在獨(dú)立的孔環(huán)上,獨(dú)立的PAD上,獨(dú)立的線條位都能看到發(fā)生的不良。

        2 影響因素評(píng)估

        2.1錫缸藥水污染評(píng)估

        跟據(jù)線路密集要求,圖形電鍍鍍錫抗蝕要求控制在5 μm ~ 8 μm,為測(cè)試錫缸是否污染,將正常測(cè)試板控制要求鍍錫,達(dá)到抗蝕,鍍錫完成后的板子做SEM檢查結(jié)晶狀況,如圖2。

        從圖2可以看出:結(jié)晶無(wú)縫隙,無(wú)空洞,保護(hù)存仍嚴(yán)密,說(shuō)明鍍液性能良好,錫缸藥水無(wú)異常,從而排除為錫缸藥水污染導(dǎo)致。

        2.2褪膜藥水對(duì)錫面攻擊評(píng)估

        褪膜的作用是除去銅表面的一層抗鍍干膜,露出銅面以便蝕刻。線路板褪膜過(guò)程中,為驗(yàn)證褪膜液是否對(duì)錫面有攻擊,將正常測(cè)試板控制要求鍍錫、褪膜,完成后的板子做SEM檢查結(jié)晶狀況。過(guò)一次褪膜后,鍍錫層結(jié)晶良好,無(wú)縫隙、無(wú)空洞。過(guò)兩次褪膜后,部分位置出現(xiàn)細(xì)小空洞,說(shuō)明褪膜液對(duì)錫面有一定的攻擊作用。

        圖2 鍍錫后做SEM鍍錫層結(jié)晶良好

        2.3鍍錫參數(shù)評(píng)估

        當(dāng)前鍍錫參數(shù)為1.2 A/dm2×8 min。為確認(rèn)此參數(shù)是否滿足圖電錫抗蝕厚度要求(5 μm ~ 8 μm),用此條件做試板測(cè)量鍍層厚度是否能達(dá)到抗蝕刻能力的要求,具體測(cè)試數(shù)據(jù)如表1所示。

        表1 鍍層厚度是否能達(dá)到抗蝕刻能力的要求測(cè)試結(jié)果表

        從測(cè)試結(jié)果可以看出:1.2 A/dm2×8 min電鍍條件下的鍍錫厚度,達(dá)不到要求抗蝕刻能力的標(biāo)準(zhǔn)(標(biāo)準(zhǔn)5 μm ~8 μm),此條件下的平均鍍錫厚度為4.87 μm,最小錫厚度僅3.6 μm,存在不抗蝕刻的隱患。

        2.4鍍錫后水洗pH測(cè)試

        因鍍錫溶液為硫酸和硫酸亞錫組成,鍍錫后需經(jīng)后處理水洗,水洗流量過(guò)小,水洗顯酸性,對(duì)電鍍錫面會(huì)產(chǎn)生攻擊。不同水洗流量pH值測(cè)試如表2。

        從測(cè)試結(jié)果可以看出:當(dāng)水洗溢流量在5 L/min時(shí),第一道水洗和第二道水洗測(cè)量都呈現(xiàn)強(qiáng)酸性,會(huì)清洗不凈會(huì)導(dǎo)致溶錫。當(dāng)水洗溢流量在8 L/min時(shí),第一道水洗呈酸性,但第二道水洗pH值中性,對(duì)板面有良好清洗力。

        3 DOE實(shí)驗(yàn)

        (1)實(shí)驗(yàn)條件。

        ①分析電鍍錫缸四價(jià)錫的含量。

        根據(jù)行業(yè)錫缸管控標(biāo)準(zhǔn)Sn4+≤5 g/L,各條圖電線的錫缸四價(jià)錫都在管控的范圍內(nèi)(分析值4.0 g/L ~ 4.5 g/L),說(shuō)明錫缸未老化,所以不需做沉降及換缸處理。

        ②電鍍錫藥水參數(shù)(表3)。

        表3 電鍍錫缸各藥水參數(shù)表

        表4 水洗流量、電流參數(shù)及褪膜濃度參數(shù)表

        (2)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì):根據(jù)以上實(shí)驗(yàn)條件,設(shè)計(jì)A鍍錫后水洗流量二種、B鍍錫參數(shù)二種、C退膜濃度二種,搭配為8個(gè)實(shí)驗(yàn)組(見(jiàn)表5)。

        (3)實(shí)驗(yàn)流程:選板→圖形電鍍→外層堿性蝕刻→外層AOI→數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)→結(jié)果分析。

        (4)實(shí)驗(yàn)結(jié)果:跟據(jù)以上實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)組別,每組選取24PNL板,以同一圖形進(jìn)行圖形電鍍制作,測(cè)試結(jié)果如下表5所示。

        (5)主效應(yīng)圖:根據(jù)DOE測(cè)試結(jié)果分析,如圖3所示。

        圖3 主效應(yīng)圖

        表5 DOE試驗(yàn)結(jié)果

        由以上結(jié)果可知:改善溶錫結(jié)果最佳參數(shù)為第8組參數(shù)。

        溶錫報(bào)廢率偏高與鍍錫參數(shù)、鍍錫后水洗流量成正比,而褪膜液溶度影響相對(duì)比較小。

        4 改善總結(jié)

        4.1改善措施

        根據(jù)測(cè)試結(jié)果,影響圖形電鍍?nèi)苠a的因素主要為鍍錫參數(shù)、鍍錫后水洗流量,而褪膜液溶度對(duì)錫面也會(huì)影響。為徹底改善圖形電鍍?nèi)苠a問(wèn)題,做出如下調(diào)整:

        (1)電鍍鍍錫參數(shù)由之前生產(chǎn)固定的1.2 A/dm2×8 min,調(diào)整為:①厚徑比≤8,鍍錫參數(shù)1.4 A/dm2×8 min;②厚徑比>8,鍍錫參數(shù)1.2 A/dm2×15 min。

        (2)鍍錫后水洗流量從5 L/min調(diào)整為9 L/min,并要求化驗(yàn)室每3天測(cè)試一次水洗pH值,要求pH測(cè)試結(jié)果大于4.5。

        4.2改善效果

        不良率從改善前14.17%到改善后1.00%,效果顯著(表6)。

        表6 改善前及改善后效果對(duì)比

        王佐,研發(fā)部研發(fā)工程師,主要負(fù)責(zé)背板和高層板及新產(chǎn)品技術(shù)開(kāi)發(fā)工作。

        Research for the improvement of dissolved tin problem in pattern plating

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