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一種可去除霧狀釉噴釉機(jī)

本發(fā)明公開了一種可去除霧狀釉噴釉機(jī)，包括底座,底座的上部安裝底座和步進(jìn)電機(jī)，步進(jìn)電機(jī)的輸出軸安裝固定塊，固定塊的一側(cè)下部安裝下連接板，下連接板的上部安裝下夾持工具，固定塊的一側(cè)上部安裝上連接板，上連接板上開設(shè)螺孔，螺孔內(nèi)安裝螺栓，螺栓為蝴蝶螺栓。本發(fā)明提供了一種圓鋸無需將單壁波紋管一切到底的可去除霧狀釉噴釉機(jī)。本發(fā)明的步進(jìn)電機(jī)可以在圓鋸切割單壁波紋管的過程中帶動單壁波紋管緩慢轉(zhuǎn)動，使圓鋸無需深入到單壁波紋管內(nèi)部就可以對單壁波紋管進(jìn)行切割，避免了圓鋸的側(cè)面會與單壁波紋管摩擦，防止了圓鋸損壞單壁波紋管。

專利號：CN104478492A

基于拓印技術(shù)的陶瓷釉面裝飾金屬釉的方法

本發(fā)明公開了一種基于拓印技術(shù)的陶瓷釉面裝飾金屬釉的方法，屬于無機(jī)非金屬材料領(lǐng)域。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案包括以下步驟a、根據(jù)設(shè)計的陶瓷釉層的表面形狀、顏色，制作用于覆蓋素胚不同色塊的拓印件；b、將拓印件覆蓋在素胚對應(yīng)的色塊上；c、采用金屬釉噴涂色塊前，卸下對應(yīng)色塊的拓印件，噴涂完畢后再用拓印件覆蓋已噴涂色塊，繼續(xù)噴涂其他色塊；d、將噴涂完畢后的陶瓷燒制得產(chǎn)品。該方法可節(jié)約步驟，工藝更簡單，能提高噴涂效率。利用拓印方法可節(jié)約裝飾瓷磚的制備工藝，產(chǎn)品圖案更精確，可應(yīng)用于批量生產(chǎn)。

專利號：CN104496563A

一種陶瓷釉真空脫泡攪拌機(jī)

本發(fā)明公開了一種陶瓷釉真空脫泡攪拌機(jī)，包括底座,底座上部一側(cè)安裝固定架、液壓站和支架，支架的上部安裝固定板，固定板的上部安裝容器，容器的一側(cè)安裝抽真空機(jī)，固定架的上部安裝連接板，連接板的下部安裝千斤頂，千斤頂?shù)囊簤焊着c連接板連接，千斤頂?shù)捻敆U連接壓板。本發(fā)明提供了一種高密封性陶瓷釉真空脫泡攪拌機(jī)。本發(fā)明的密封塊與密封板的第二固定槽之間會形成一個環(huán)形溝槽，溝槽與容器的上部配合，可以大大增加密封密封板與容器上部的密封面積，從而大大提高了陶瓷釉真空脫泡攪拌機(jī)的密封性，避免了陶瓷釉真空脫泡攪拌機(jī)在工作過程中出現(xiàn)氣體進(jìn)入的情況，大大提高了真空脫泡攪拌機(jī)的脫泡效率。

專利號：CN104437202A

釉下堆料厚層燒制方法

釉下堆料厚層燒制方法，按照以下階段進(jìn)行燒制：升溫段，將釉下堆料厚層的素坯送入窯爐，在5.0～6.0 h內(nèi)將溫度從0℃緩慢升溫至300℃后，并將溫度由300℃提升至900℃進(jìn)入氧化段；氧化段，在7.0～8.0 h內(nèi)將溫度從900℃緩慢升溫至1100℃，再將溫度提升至1320～1330℃進(jìn)入恒溫段；恒溫段，維持1320～1330℃燒制4.0～5.0 h，立即進(jìn)入冷卻段；冷卻段，開啟窯爐密封門，由小到大逐漸增加，在6.0～7.0 h內(nèi)將溫度降至常溫。該發(fā)明釉下堆料厚層燒制得到的陶瓷，其立體感強(qiáng)，濃淡遠(yuǎn)近分明，凹凸明顯，藝術(shù)觀賞性強(qiáng)，收藏價值高，提高了市場占有率。

專利號：CN104446369A

一種包含保護(hù)釉層的拋釉瓷磚及其制造方法

本發(fā)明一種包含保護(hù)釉層的拋釉瓷磚，其包括瓷磚本體，及覆蓋于所述瓷磚本體表面的保護(hù)釉層，所述保護(hù)釉層自下至上包括塑化膜層、過渡層及熟料熔塊透明釉層，其中，所述塑化膜層是質(zhì)量百分比濃度為1%～10%的丹寧酸水溶液；所述過渡層為漿料比重小于1.20 g/cm3的生料透明釉漿。本發(fā)明另提供一種包含保護(hù)釉層的拋釉瓷磚的制造方法，包括如下步驟;A生胚施底釉的步驟；B在瓷磚本體上打印圖案的步驟；C用螺旋噴釉機(jī)在瓷磚本體表面噴淋漿料以形成保護(hù)釉層的步驟；D煅燒后拋光的步驟。該方法操作簡單、節(jié)省人力、不受產(chǎn)品規(guī)格限制、不影響產(chǎn)品花色并且能夠保證印花圖案清晰。

專利號：CN104478491A