楊練根,余再新,何 浪,王選擇,2
(1.湖北工業(yè)大學(xué) 機(jī)械工程學(xué)院,湖北 武漢 430068;2.天津大學(xué) 精密測(cè)試技術(shù)及儀器國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,天津 300072)
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一種四波長(zhǎng)輪換的表面形貌干涉測(cè)量系統(tǒng)
楊練根1,余再新1,何 浪1,王選擇1,2
(1.湖北工業(yè)大學(xué) 機(jī)械工程學(xué)院,湖北 武漢 430068;2.天津大學(xué) 精密測(cè)試技術(shù)及儀器國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,天津 300072)
針對(duì)相移干涉法測(cè)量表面三維形貌時(shí)深度測(cè)量范圍受波長(zhǎng)限制這一問(wèn)題,提出一種四波長(zhǎng)表面形貌干涉測(cè)量系統(tǒng)。通過(guò)濾波片的輪換,將白光LED光源的光切換出4個(gè)不同波長(zhǎng)的光源,并依次進(jìn)行單波長(zhǎng)干涉。為解決多波長(zhǎng)干涉圖像數(shù)據(jù)處理,采用基于橢圓擬合的算法,在逐幀逐點(diǎn)的相位計(jì)算條件下,運(yùn)用大小尺度相結(jié)合的算法實(shí)現(xiàn)高精度寬范圍的表面形貌測(cè)量。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:在深度測(cè)量范圍擴(kuò)大到約41倍的條件下,測(cè)量經(jīng)中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院采用粗糙度國(guó)家基準(zhǔn)校準(zhǔn)的方波多刻線樣板,得到的表面粗糙度數(shù)據(jù)與校準(zhǔn)數(shù)據(jù)相比,相對(duì)誤差為4.09%。說(shuō)明在一定的深度范圍內(nèi),該系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)表面形貌的高精度測(cè)量。
相移干涉; 表面形貌測(cè)量;四波長(zhǎng);相差;橢圓擬合
基于光學(xué)干涉顯微原理的測(cè)量是一種十分重要的微觀表面形貌測(cè)量方法,具有快速、非接觸、高精度的優(yōu)點(diǎn)[1]。其中基于直接表面顯微干涉的測(cè)量技術(shù)主要包括白光相移干涉、波長(zhǎng)掃描干涉、雙波長(zhǎng)或多波長(zhǎng)干涉等幾種測(cè)量方法。白光相移干涉測(cè)量[2-3]以白光為光源,它通過(guò)相移驅(qū)動(dòng)掃描,逐個(gè)尋找被測(cè)點(diǎn)的零光程差位置,實(shí)現(xiàn)表面形貌的高精度測(cè)量。這種方法的干涉條紋具有較好的對(duì)比度,但零級(jí)條紋位置點(diǎn)的識(shí)別精度[4-5]受到采樣步距和光源頻帶寬度的影響,使之難以達(dá)到很高的測(cè)量精度。波長(zhǎng)掃描干涉[6-7]通過(guò)AOTF連續(xù)改變干涉波長(zhǎng),因此在絕對(duì)光程差不變的情況下改變相對(duì)相位差,實(shí)現(xiàn)了超越2π范圍內(nèi)求相位變化與波長(zhǎng)變化之比(即光程差)。該方法不需要驅(qū)動(dòng)裝置,并且理論上不受測(cè)量范圍限制。雙波長(zhǎng)或多波長(zhǎng)干涉測(cè)量方法的實(shí)質(zhì)[8]是利用雙波長(zhǎng)或多波長(zhǎng)測(cè)量結(jié)果的差異求出干涉級(jí)次,從而得到被測(cè)點(diǎn)的真實(shí)高度。雖然它拓展了深度測(cè)量范圍,但同時(shí)也增大了相位識(shí)別誤差[9],測(cè)量結(jié)果精度較低。目前,基于該方法測(cè)量形貌主要是依據(jù)小數(shù)重合技術(shù)[10],它對(duì)相位的識(shí)別精度要求很高,容易出現(xiàn)干涉級(jí)次判斷的失誤,導(dǎo)致測(cè)量失效。為了在擴(kuò)大深度測(cè)量范圍的同時(shí),保證具有較高的相位識(shí)別精度,本文提出一種基于波長(zhǎng)輪換與相移掃描相結(jié)合的表面形貌測(cè)量系統(tǒng),以白光干涉的特性為基礎(chǔ),利用切換濾光片實(shí)現(xiàn)多波長(zhǎng)的單色光光源照射,采用Mirau相移干涉[11]來(lái)獲得被測(cè)表面的三維形貌。在干涉圖像數(shù)據(jù)處理中采用橢圓擬合的算法,在逐幀逐點(diǎn)的相位計(jì)算條件下,運(yùn)用大小尺度相結(jié)合的算法,實(shí)現(xiàn)表面形貌的高精度測(cè)量。
測(cè)量系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示,系統(tǒng)由光源輪換子系統(tǒng)、顯微干涉測(cè)量子系統(tǒng)、圖像采集子系統(tǒng)、PZT驅(qū)動(dòng)子系統(tǒng)、二維工作臺(tái)組成,整體由計(jì)算機(jī)控制。采用LED白光光源,4個(gè)不同波長(zhǎng)的濾光片均勻分布在定制的圓盤上,步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)圓盤轉(zhuǎn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)四波長(zhǎng)輪換;顯微干涉測(cè)量子系統(tǒng)采用Mirau干涉結(jié)構(gòu);圖像采集子系統(tǒng)由高速CCD及圖像采集卡組成;PZT采用開環(huán)控制[12];二維工作臺(tái)采用光柵進(jìn)行位移計(jì)量。
圖1 測(cè)量系統(tǒng)示意圖Fig.1 Diagram of measurement system
測(cè)量時(shí),通過(guò)計(jì)算機(jī)輸出信號(hào)控制步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)放置有4個(gè)濾光片的圓盤轉(zhuǎn)動(dòng),LED白光光源發(fā)出的光經(jīng)準(zhǔn)直鏡準(zhǔn)直后的平行光分別通過(guò)4個(gè)濾光片,切換出4個(gè)不同波長(zhǎng)的光源。同時(shí)計(jì)算機(jī)輸出信號(hào)控制PZT和二維工作臺(tái)驅(qū)動(dòng)被測(cè)工件,完成半個(gè)波長(zhǎng)以上的位移驅(qū)動(dòng),干涉條紋移動(dòng)一個(gè)周期以上,PZT每一次位移都可以獲得一幅干涉圖像,高速CCD同步采集該波長(zhǎng)下的干涉圖。CCD同步采集到的4個(gè)不同波長(zhǎng)下的干涉圖分別存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)中,通過(guò)對(duì)干涉圖進(jìn)行處理,恢復(fù)被測(cè)表面的表面形貌。
測(cè)量時(shí),采用帶寬為5 nm的4個(gè)濾光片。綜合考慮相干長(zhǎng)度受濾光片帶寬限制及干涉條紋級(jí)次的識(shí)別受測(cè)量信噪比的影響因素,選用中心波長(zhǎng)分別為510 nm、520 nm、550 nm、640 nm的4個(gè)濾光片。
步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)安裝有濾光片的圓盤實(shí)現(xiàn)波長(zhǎng)輪換。計(jì)算機(jī)控制PZT及二維工作臺(tái)移動(dòng),PZT每移動(dòng)一次都可以獲得一幅干涉圖,PZT等步距驅(qū)動(dòng)40次,CCD同步采集該波長(zhǎng)下的40幅連續(xù)干涉組圖,最終得到4個(gè)波長(zhǎng)下的160幅分辨率為964 像素×1 292像素的干涉組圖。四波長(zhǎng)干涉圖像的數(shù)據(jù)處理流程如圖2所示。
2.1 獲取灰度均值序列
選取波長(zhǎng)λk(k=1,2,3,4)干涉下的40幅連續(xù)干涉圖像,先提取干涉圖像像素點(diǎn)的灰度值,在此基礎(chǔ)上,應(yīng)用零點(diǎn)位置法取兩組相位相差接近π/2的像素點(diǎn),分別求和與平均,得到兩組灰度均值序列。
圖2 數(shù)據(jù)處理流程圖Fig.2 Flow chart of data processing
2.2 計(jì)算初相位
對(duì)上述灰度均值序列曲線平滑處理后,進(jìn)行橢圓擬合[13]。根據(jù)PZT相移,利用數(shù)學(xué)插值技術(shù),從40幅干涉圖中得到4幅相差π/2的干涉圖。然后利用相移四步法可求得像素點(diǎn)的初相位。
2.3 計(jì)算遠(yuǎn)近波長(zhǎng)相位差
取干涉場(chǎng)中心為參考零點(diǎn),即設(shè)坐標(biāo)(482,646)為參考零點(diǎn),則此點(diǎn)的絕對(duì)高度和相位均值都為0,各波長(zhǎng)的相位均以此為標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行處理,即
φk(m,n)=φk(m,n)-φk(m0,n0)
(1)
式中:φk(m, n) 表示單個(gè)波k下的像素點(diǎn)的相位。數(shù)據(jù)處理時(shí),取m0=482,n0=646,通過(guò)公式(2)擴(kuò)展,使得φk(m, n)處于(-π,π)中間:
(2)
式中[ ]表示圓整運(yùn)算。
在歸零后的初相位基礎(chǔ)上,分別按下式計(jì)算遠(yuǎn)近波長(zhǎng)相位差:
(3)
圖3為遠(yuǎn)近波長(zhǎng)的相位差及某單個(gè)波長(zhǎng)的初相位,其中近波長(zhǎng)、遠(yuǎn)波長(zhǎng)、較遠(yuǎn)波長(zhǎng)的相位差在進(jìn)行圓整處理后,處于(-π,π)之間。
圖3 相位及相位差Fig.3 Phase and phase difference
2.4 計(jì)算絕對(duì)高度
由干涉理論可推導(dǎo)出表面高度hmn滿足如下公式:
(4)
式中:p1、p2為遠(yuǎn)波長(zhǎng)和較遠(yuǎn)波長(zhǎng)相位差的干涉級(jí)次;q為單波長(zhǎng)相位下的干涉級(jí)次,近波長(zhǎng)相位差的干涉級(jí)次為0。
運(yùn)用等效波長(zhǎng)的思想,即λ12=λ1λ2/|λ1-λ2|,由公式(4)可以推導(dǎo)出不同波長(zhǎng)下像素序列的絕對(duì)高度hmn:
(5)
在同等相位誤差的條件下,等效波長(zhǎng)的相位誤差比單波長(zhǎng)的大,而等效波長(zhǎng)中近波長(zhǎng)的相位誤差又比遠(yuǎn)波長(zhǎng)的大,所以,上式中,第一個(gè)的誤差最大,最后一個(gè)的誤差最小。在實(shí)際運(yùn)用中,可以采用數(shù)據(jù)校正[14]的思想,對(duì)測(cè)量結(jié)果進(jìn)行校正。在公式(5)中,即用第3個(gè)式子的測(cè)量結(jié)果校正第2個(gè)的數(shù)據(jù),再用第2個(gè)的數(shù)據(jù)校正第一個(gè)的數(shù)據(jù),最后用第一個(gè)的數(shù)據(jù)校正第4個(gè)的數(shù)據(jù)。
根據(jù)圖3,首先計(jì)算某一像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)在近波長(zhǎng)的相位差曲線上的相位φ12;其次通過(guò)φ12計(jì)算該點(diǎn)對(duì)應(yīng)的較遠(yuǎn)波長(zhǎng)、遠(yuǎn)波長(zhǎng)相位差下的干涉級(jí)次p1、p2,并得到絕對(duì)相位φf(shuō)ar,φf(shuō)ar1,可得:
(6)
式中:[ ]表示圓整運(yùn)算;k1、k2表示與波長(zhǎng)相關(guān)的常數(shù),圓整運(yùn)算后即得出干涉級(jí)次p1、p2。
然后通過(guò)φf(shuō)ar1計(jì)算該點(diǎn)對(duì)應(yīng)的單波長(zhǎng)下的干涉級(jí)次q,得到單波長(zhǎng)的絕對(duì)相位φsingle:
(7)
用φsingle計(jì)算該點(diǎn)相對(duì)于參考零點(diǎn)的絕對(duì)高度:
(8)
采用一塊方波多刻線表面粗糙度玻璃樣板作被測(cè)表面,對(duì)該測(cè)量系統(tǒng)進(jìn)行精度驗(yàn)證,該多刻線樣板已于2014年9月由中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院根據(jù)國(guó)家粗糙度基準(zhǔn)進(jìn)行過(guò)校準(zhǔn),校準(zhǔn)結(jié)果如下:輪廓算術(shù)平均偏差Ra=1.61μm,輪廓最大高度Rz=3.86μm,測(cè)量過(guò)程中,Ra與 Rz的擴(kuò)展不確定度U95=5%。測(cè)量過(guò)程中使用上述測(cè)量系統(tǒng)與數(shù)據(jù)處理算法,運(yùn)用近波長(zhǎng)的相位差在大尺度范圍內(nèi)識(shí)別測(cè)量結(jié)果,遠(yuǎn)波長(zhǎng)相位差在小尺度內(nèi)進(jìn)一步縮小測(cè)量結(jié)果的誤差[15]的相位差大小尺度結(jié)合思想,最后用單波長(zhǎng)相位計(jì)算最終測(cè)量結(jié)果,獲得被測(cè)表面的高度信息,最終恢復(fù)出的方波多刻線玻璃樣板的三維形貌如圖4所示。
圖4 方波多刻線三維形貌Fig.4 Area of 3-D topography of glass specimen
取方波樣板的某一橫截面進(jìn)行分析,標(biāo)定的像素尺寸為0.36 μm,評(píng)定長(zhǎng)度為4 mm。在該評(píng)定長(zhǎng)度內(nèi)依次選取0.8 mm的取樣長(zhǎng)度對(duì)該橫截面進(jìn)行5次Ra的評(píng)定,評(píng)定結(jié)果Ra分別為1.673 7 μm,1.664 9 μm,1.675 8 μm,1.675 2 μm,1.667 4 μm,取最大值Ra=1.675 8 μm算得其表面粗糙度測(cè)量結(jié)果的相對(duì)誤差為4.09%。
采用Mirau相移干涉形式搭建的表面形貌的干涉測(cè)量系統(tǒng),在保證相位識(shí)別精度的前提下,理論上實(shí)現(xiàn)了測(cè)量表面形貌的范圍從原來(lái)的半波長(zhǎng)擴(kuò)展到13.26 μm,對(duì)640 nm波長(zhǎng)而言,深度測(cè)量范圍擴(kuò)大到約41倍。測(cè)量過(guò)程中,4個(gè)波長(zhǎng)輪流切換,運(yùn)用相位差大小尺度結(jié)合的思想,從大尺度到小尺度逐步銜接與過(guò)渡,在每個(gè)尺度測(cè)量時(shí)保證其相應(yīng)的識(shí)別精度。由于采用了誤差校正的算法,因此,降低了對(duì)系統(tǒng)抗振和抗干擾的要求。
[1] Wang Haishan, Shi Tielin, Liao Guanglan,et al. Profilometer based on interferometry and micro vision system[J]. Opto-Electronic Engineering,2008,35(7):85-88. 王海珊,史鐵林,廖光蘭,等. 基于干涉顯微原理的表面形貌測(cè)量系統(tǒng)[J] 光電工程,2008, 35(7):85-88.
[2] Wang Shuzhen, Xie Tiebang, Chang Suping. Vertical scanning white light interfering profilometer based on linnik interference microscope[J]. SPIE, 2010,7656:765631-1-6.
[3] Lehmann P. Vertical scanning white-light interference microscopy on curved microstructures [J]. Optics Letters, 2010, 35 (11):1768-1770.
[4] Yang Tianbo,Guo Hong, Li Dacheng. The summary of algorithms for the white light scanning interferometry [J]. Optical Technique,2006,32(1):115-118. 楊天博,郭宏,李達(dá)成.白光掃描干涉測(cè)量算法綜述[J]. 光學(xué)技術(shù), 2006,32(1):115-118.
[5] Li Juan. Research of 3-D surface topography measurement system with white light microscopic interference[D].Wuhan: Huazhong University of Science and Technology,2012. 李娟.白光顯微干涉表面形貌三維測(cè)量系統(tǒng)的研究[D].武漢:華中科技大學(xué),2012.
[6] Jiang Xiang, Wang Kaiwei, Gao Feng,et al. Fast surface measurement using wavelength scanning interferometry with compensation of environmental noise[J]. Applied Optics, 2010, 49 (15):2903-2909.
[7] Kuo C C,Kiyoshi T,Akihiro Y,et al. Calibration of wavelength scanning in wavelength scanning interferometer[J]. Journal of the Japan Society for Precision Engineering,2002, 68(3):392-396.
[8] Hata S, Hayashi J, Ishimaru I, et al. Nano-level 3-D measurement system using three wavelength laser light interference[C]. US:IEEE,2008.
[9] Zhou Mingbao. Interference in measuring the surface topography of method to expand the depth measuring range[J]. Optics and Precision Engineering, 1999,7(4):1-8. 周明寶. 干涉法表面形貌測(cè)量使用的拓展深度測(cè)量范圍的方法[J].光學(xué)精密工程,1999,7(4):1-8.
[10]Dobosz M. Influence of laser diode wavelength tunability on the range, resolution and repeatability of interferometric distance measurement[J]. Optics & Laser Technology, 2008, 40:352-359.
[11]Zhang Hongxia, Zhang Yimo, Jing Wencai,et al. Mirau phase-shifting interferometer for microsurface topography measurement[J].Journal of Tianjin University, 2005,38(5):377-380. 張紅霞,張以謨,井文才,等. 檢測(cè)微表面形貌的Mirau相移干涉輪廓儀[J].天津大學(xué)學(xué)報(bào),2005,38(5):377-380.
[12]Guan Xin,Wang Xuanze, Zhai Zhongsheng, et al. A driving step auto-access method for single wavelength microscopic interference [J].SPIE, 2014,9276:0U1-0U6.
[13]Wang Xuanze, Guo Jun, Xie Tiebang. Ellipse fit algorithm and subdivision revision method of precision diffraction grating[J]. Tool Engineering, 2003,37(12):47-49. 王選擇, 郭軍,謝鐵邦. 精密衍射光柵信號(hào)的橢圓擬合與細(xì)分校正算法[J]. 工具技術(shù) 2003,37(12):47-49.
[14]Wang Wei. Multi-wavelength interferometry in the application of the nanometer scale measurement[D].WuHan: Hubei University of Technology, 2006. 汪威.多波長(zhǎng)干涉法在納米尺度測(cè)量中的應(yīng)用[D].武漢:湖北工業(yè)大學(xué),2006.
[15]Yang Liangen, Liu Bingkang, Wang Xuanze, et al. Method for improving precision of interferometric phase-recognization[J].Journal of Applied Optics,2015,36(4):590-595. 楊練根,劉丙康,王選擇,等. 一種提高干涉相位識(shí)別精度的方法[J]. 應(yīng)用光學(xué),2015,36(4):590-595.
Four-wavelength switching interference measurement system for surface topography
Yang Liangen1, Yu Zaixin1, He Lang1, Wang Xuanze1,2
(1. School of Mechanical Engineering, Hubei University of Technology, Wuhan 430068, China; 2.State Key Laboratory of Precision Measuring Technology and Instruments, Tianjin University, Tianjin 300072,China)
Phase-shifting interferometry is an important measurement method for surface topography, but the depth measuring range is limited by the wavelength.A four-wavelength interference measurement system for surface topography was proposed.Through rotating the filters, 4 light sources with different wavelengths were switched out from LED light, and the single wavelength interference was conducted in turn. A data processing method for multiple wavelength interference images was put forward, which used the algorithm of elliptic fitting and the combination of varied scales to achieve wide-range high-precision surface topography measurement on the condition of calculating the phase point-by-point and frame-by-frame. Experimental results show that under the measurement depth expanded to nearly 41 times, the relative measurement error of surface roughness of square wave specimen with multiple grooves is only 4.09%,compared to the data calibrated by China Institute of Metrology. Therefore, the system can realize high-precision measurement for surface topography in a certain range.
phase-shifting interferometry;surface topography measurement;four-wavelength;phase difference; elliptic fitting
1002-2082(2015)06-0847-05
2015-03-25;
2015-07-13
國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(51275157,51275158,51175154)
楊練根(1965-),男,湖南平江人,博士,教授,主要從事精密測(cè)量與儀器和傳感器技術(shù)等方面的研究。
E-mail:yanglg@mail.hbut.edu.cn
TN206;TH
A
10.5768/JAO201536.0601005