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        業(yè)界要聞

        2015-05-18 01:18:25
        電子工業(yè)專用設(shè)備 2015年8期
        關(guān)鍵詞:設(shè)備系統(tǒng)

        業(yè)界要聞

        應(yīng)用材料公司推出面向3D設(shè)備的高性能原子層沉積(ALD)技術(shù)

        應(yīng)用材料公司日前宣布推出全新的OlympiaTM原子層沉積(atomic layer deposition,ALD)系統(tǒng)。該系統(tǒng)采用獨(dú)特的模塊化架構(gòu),為先進(jìn)3D內(nèi)存和邏輯芯片制造商帶來了高性能ALD技術(shù)。3D設(shè)備的興起推動(dòng)了對(duì)新型圖形轉(zhuǎn)移薄膜和新共型材料的需求,以及降低材料熱預(yù)算的要求。在這一背景下,ALD技術(shù)得到了迅速發(fā)展。Olympia系統(tǒng)可以在不犧牲ALD沉積性能的前提下,充分滿足所有這些要求,從而解決行業(yè)挑戰(zhàn),并具有極高的工藝靈活性,可精確設(shè)計(jì)并有效沉積各類低溫、高品質(zhì)薄膜材料,適合眾多應(yīng)用領(lǐng)域。

        應(yīng)用材料公司介質(zhì)系統(tǒng)及模塊事業(yè)部副總裁兼總經(jīng)理Mukund Srinivasan博士表示:“Olympia系統(tǒng)對(duì)3D設(shè)備的演進(jìn)而言無疑是一項(xiàng)重大的技術(shù)創(chuàng)新。它克服了芯片制造商在使用傳統(tǒng)ALD技術(shù)時(shí)所面臨的關(guān)鍵技術(shù)瓶頸,如單硅片解決方案的化學(xué)控制性不佳以及反應(yīng)爐加工周期過長(zhǎng)等問題。因此,市場(chǎng)對(duì)Olympia系統(tǒng)的反響十分熱烈,目前該系統(tǒng)已成功安裝于多家客戶的生產(chǎn)線中,支持他們制造出10 nm級(jí)甚至以下的芯片”。

        獨(dú)特的適應(yīng)性模塊化架構(gòu)使Olympia系統(tǒng)可支持靈活、快速的工藝順序,因而能有效控制下一代ALD薄膜所需的復(fù)雜化學(xué)物質(zhì)。此外,模塊化設(shè)計(jì)也實(shí)現(xiàn)了化學(xué)物質(zhì)的完全分離,減少了傳統(tǒng)ALD技術(shù)為提高產(chǎn)量而加入的泵/吹掃工序。憑借這些優(yōu)勢(shì),Olympia系統(tǒng)能帶來比傳統(tǒng)ALD系統(tǒng)更優(yōu)異的解決方案,這也使其擁有了更廣闊的應(yīng)用前景。

        *ALD=原子層沉積

        應(yīng)用材料公司(納斯達(dá)克:AMAT)是半導(dǎo)體、平板顯示器和太陽能光伏行業(yè)材料工程解決方案的全球領(lǐng)導(dǎo)者。我們的技術(shù)使智能手機(jī)、平板電視和太陽能面板等創(chuàng)新產(chǎn)品以更普及、更具價(jià)格優(yōu)勢(shì)的方式惠及全球商界和普通消費(fèi)者。欲知詳情,請(qǐng)?jiān)L問www.appliedmaterials.com。增加智能化、定制化和柔性生產(chǎn)程度;CNC數(shù)控加工、3D打印等新工藝快速進(jìn)入大規(guī)模應(yīng)用;集成電路等涉及信息安全領(lǐng)域?qū)⒓铀賴?guó)產(chǎn)化趨勢(shì)。

        投資要點(diǎn):2015年上半年,全球電子產(chǎn)業(yè)增速有所回落。智能手機(jī)等終端產(chǎn)品步入成熟期,發(fā)展中國(guó)家為主的中低端市場(chǎng)也開始飽和,而可穿戴裝備等新產(chǎn)品雖然增速較高,但絕對(duì)數(shù)量仍處于較低水平,對(duì)產(chǎn)業(yè)拉動(dòng)作用有限。

        新一代智能終端將更加多樣化,制造環(huán)節(jié)需要更加智能化、定制化。智能手表、手環(huán)等新一代產(chǎn)品更加強(qiáng)調(diào)個(gè)性化設(shè)計(jì),對(duì)元器件的定制化要求顯著高于智能手機(jī),生產(chǎn)線的柔性安排和智能化水平將決定企業(yè)的生產(chǎn)效率和盈利能力。

        “制造2025”大戰(zhàn)略為電子產(chǎn)業(yè)升級(jí)指明方向,高技術(shù)附加值的上游產(chǎn)業(yè)鏈將是未來成長(zhǎng)核心領(lǐng)域。在本屆政府大量倡導(dǎo)產(chǎn)業(yè)升級(jí)的背景下,電子產(chǎn)業(yè)有望加速向上游設(shè)計(jì)、設(shè)備和核心材料等高附加值環(huán)節(jié)延伸,同時(shí)并購(gòu)重組、國(guó)內(nèi)和國(guó)際技術(shù)合作將會(huì)更加普遍。

        涉及信息安全的集成電路領(lǐng)域?qū)⒓铀賴?guó)產(chǎn)化進(jìn)程?!秶?guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》發(fā)布,將通過產(chǎn)業(yè)基金方式加大對(duì)產(chǎn)業(yè)的支持力度,同時(shí)國(guó)內(nèi)中高端人才相比發(fā)達(dá)國(guó)家仍然具有明顯成本優(yōu)勢(shì),產(chǎn)業(yè)向上游設(shè)計(jì)、制造和裝備延伸的條件成熟。 涉及信息安全的定位芯片、安全芯片、計(jì)算芯片、軍工芯片等細(xì)分領(lǐng)域的國(guó)產(chǎn)化有望快速完成。

        2015年下半年投資策略:維持行業(yè)“同步大市”投資評(píng)級(jí)。

        目前電子行業(yè)估值水平顯著高于歷史平均值,主要基于未來強(qiáng)烈增長(zhǎng)預(yù)期。建議關(guān)注半導(dǎo)體設(shè)備和核心原材料等上游產(chǎn)業(yè)鏈;關(guān)注CNC數(shù)控加工、3D打印等新工藝;關(guān)注政策扶持、國(guó)產(chǎn)化預(yù)期強(qiáng)烈的集成電路產(chǎn)業(yè)鏈。

        IC Insights:2015年功率半導(dǎo)體營(yíng)收將創(chuàng)新高

        功率半導(dǎo)體(Power Transistor)市場(chǎng)將在今年開出紅盤。由于節(jié)能概念風(fēng)行,并快速滲透至汽車、工業(yè)和無線通訊等領(lǐng)域,因而刺激大量功率半導(dǎo)體需求。IC Insights最新報(bào)告指出,功率半導(dǎo)體在過去6年因總體經(jīng)濟(jì)動(dòng)蕩、系統(tǒng)廠庫存調(diào)整幅度較大等因素,銷售額劇烈變化,但今年受惠于嵌入式設(shè)計(jì)需求大爆發(fā),將開始恢復(fù)穩(wěn)定成長(zhǎng),并將以6%的年成長(zhǎng)率,創(chuàng)下140億美元年?duì)I收新紀(jì)錄。

        全球功率半導(dǎo)體銷售額分析

        “02重大專項(xiàng)”之“硅材料設(shè)備應(yīng)用工程”項(xiàng)目通過驗(yàn)收

        2015年6月16日~17日,國(guó)家科技重大專項(xiàng)“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”(簡(jiǎn)稱“02重大專項(xiàng)”)主管部門對(duì)北京有色金屬研究總院牽頭承擔(dān)并由有研半導(dǎo)體材料有限公司實(shí)施的“硅材料設(shè)備應(yīng)用工程”項(xiàng)目進(jìn)行了正式驗(yàn)收。與會(huì)專家一致同意項(xiàng)目及七個(gè)課題通過驗(yàn)收,并評(píng)價(jià)為“優(yōu)秀”分?jǐn)?shù)。

        “硅材料設(shè)備應(yīng)用工程”項(xiàng)目面向90~65 nm極大規(guī)模集成電路用300 mm硅單晶及拋光片制備技術(shù)需求,開發(fā)成功國(guó)產(chǎn)首臺(tái)(套)300 mm硅單晶生長(zhǎng)爐、多線切割機(jī)、精密磨削機(jī)、雙面拋光機(jī)、雙面拋光機(jī)、單面精密拋光機(jī)(CMP)、高溫立式退火爐等裝備,填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)空白。同時(shí)建成300 mm硅材料設(shè)備驗(yàn)證平臺(tái),由下家考核上家,完成生產(chǎn)環(huán)境下的驗(yàn)證,并實(shí)現(xiàn)示范應(yīng)用。項(xiàng)目形成了近百項(xiàng)核心專利,打造了工藝與設(shè)備緊密融合的創(chuàng)新團(tuán)隊(duì),建立了300 mm硅材料設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化平臺(tái),實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體領(lǐng)域的直接銷售和在光電、光伏等泛半導(dǎo)體領(lǐng)域的輻射推廣應(yīng)用,帶動(dòng)了各課題單位的快速發(fā)展。項(xiàng)目的實(shí)施將促進(jìn)我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備的提升,為我國(guó)大直徑硅材料產(chǎn)業(yè)化發(fā)展奠定基礎(chǔ)。

        國(guó)產(chǎn)300 mm集成電路硅單晶制備和硅片加工設(shè)備研制單位

        序號(hào)1 2 3 4 5 6設(shè)備名稱單晶生長(zhǎng)爐多線切割機(jī)精密磨削機(jī)雙面拋光機(jī)單面精密拋光機(jī)(CMP)高溫立式退火爐研制單位浙江晶盛機(jī)電股份有限公司、西安理工晶體科技有限公司中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所無錫機(jī)床股份有限公司蘭州瑞德設(shè)備制造有限公司(現(xiàn)更名:蘇州赫瑞德電子專用設(shè)備科技有限公司)中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司

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