2014年12月24日,工業(yè)和信息化部批準并公布《低化學(xué)處理紫激光光聚合CTP版》(HG/T 4743-2014),該標準適用于以鋁版基為支持體、涂布紫激光光敏層以及保護層而制成的低化學(xué)處理紫激光光聚合CTP版,用于波長為405nm的激光光源的計算機直接制版機的制版,并采用低化學(xué)處理方式(處理液pH值為7.2~9.5)進行顯影加工。該標準將于2015年6月1日起施行。endprint
印刷技術(shù)·數(shù)字印藝2015年2期
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