摘 要:激光標(biāo)刻是產(chǎn)品標(biāo)識(shí)的一種重要手段,其特點(diǎn)是在產(chǎn)品上刻上永久性的標(biāo)識(shí)。文章針對(duì)尼龍殼體激光標(biāo)記出現(xiàn)圖形、字跡模糊,不清晰的問(wèn)題,在分析產(chǎn)生問(wèn)題原因的基礎(chǔ)上,通過(guò)對(duì)不同標(biāo)刻方法、不同標(biāo)刻參數(shù)的多次實(shí)驗(yàn)研究,建立了一種適合于尼龍殼體的激光標(biāo)刻工藝,通過(guò)實(shí)際工程應(yīng)用表明:該工藝用于多項(xiàng)尼龍殼體產(chǎn)品生產(chǎn),而且滿(mǎn)足產(chǎn)品標(biāo)識(shí)質(zhì)量要求。
關(guān)鍵詞:激光標(biāo)刻;尼龍材料;標(biāo)刻工藝
前言
激光打標(biāo)機(jī)利用高功率密度的聚焦激光束在不同的物體表面上發(fā)生物理或化學(xué)變化產(chǎn)生的永久性標(biāo)記。對(duì)于需長(zhǎng)期庫(kù)存的產(chǎn)品,原有的銘牌設(shè)計(jì)由于在運(yùn)輸、使用過(guò)程中存在一定的脫落風(fēng)險(xiǎn),因此目前大都采用激光標(biāo)刻來(lái)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品標(biāo)記。我單位采用了楚天公司的CT-DPL激光打標(biāo)機(jī),該機(jī)適合于在金屬和部分非金屬材料(如PVC、聚苯硫醚等)表面標(biāo)記,但隨著產(chǎn)品類(lèi)型的增加,出現(xiàn)了不同材料的產(chǎn)品殼體,特別是部分產(chǎn)品的殼體采用尼龍材料,現(xiàn)有的CT-DPL激光打標(biāo)機(jī)在實(shí)際工程應(yīng)用中逐漸暴露出一些局限性。
1 問(wèn)題
清晰的標(biāo)識(shí)需要激光打標(biāo)的標(biāo)記和基材尼龍殼體間形成鮮明的對(duì)比,因此達(dá)到較高的對(duì)比度更顯得重要。影響激光標(biāo)刻質(zhì)量的主要包括如下因素:
(1)設(shè)備類(lèi)型。由于設(shè)備的精度,光源波長(zhǎng)等直接影響到激光打標(biāo)的效果。
(2)激光標(biāo)刻參數(shù)。主要由于輸出功率、標(biāo)記頻率、速度等因素影響激光打標(biāo)的結(jié)果。
(3)殼體材料。由于材料對(duì)光的反射率,吸收率不同,以及材料的物理和化學(xué)性會(huì)影響激光能量吸收,從而影響到激光打標(biāo)的效果。
目前多個(gè)產(chǎn)品均采用尼龍殼體,該殼體采用注塑工藝生產(chǎn),原料為玻璃纖維增強(qiáng)的尼龍塑料粒料。該原料熔融流動(dòng)性好,具有堅(jiān)韌、耐疲勞、機(jī)械強(qiáng)度較高,但熔程較窄,一般為3℃-4℃,耐熱性不佳。而標(biāo)刻設(shè)備采用的Nd:YAG(釔鋁石榴石晶體)固體激光器,光源波長(zhǎng)為1064nm的半導(dǎo)體激光標(biāo)刻機(jī),激光束照射到材料表層時(shí),有三種不同的形勢(shì)同時(shí)存在,如圖1所示。
圖1 激光照射材料呈現(xiàn)三種形式
材料吸收光能并向內(nèi)層傳導(dǎo);不同材料有不同的激光能量吸收率和放射率,導(dǎo)致材料表層發(fā)生不同變化,如碳化、雕刻或起泡,從而留下具有視覺(jué)差異的標(biāo)記。圖2為標(biāo)刻參數(shù)一定的條件下,尼龍殼體材料發(fā)生不同變化,碳化、雕刻或起泡同時(shí)出現(xiàn),因尼龍內(nèi)部材料分布不均所致,使標(biāo)記的字跡不連續(xù)、模糊,較難辨識(shí)。因此對(duì)于熔程范圍較窄的尼龍標(biāo)刻效果不是很好。在顯微鏡下可以看到尼龍殼體燒蝕痕跡放大后是一系列島狀碳化物。
圖2 尼龍殼體打標(biāo)效果
在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中,由于尼龍殼體本身原料有批次性差異,導(dǎo)致其材料吸收率、反射率有一定不同,從而在相同的標(biāo)刻參數(shù)條件下,在不同批次殼體上標(biāo)記難以達(dá)到同一效果。特別當(dāng)尼龍殼體透明度較高時(shí),單獨(dú)對(duì)尼龍殼體(半透明的淺黃色)標(biāo)刻時(shí)字跡尚能分辨,但是產(chǎn)品裝配完成后,因產(chǎn)品殼體內(nèi)部物質(zhì)為黑色,導(dǎo)致與黑色的燒蝕字跡對(duì)比度差,字跡難以分辨,不滿(mǎn)足產(chǎn)品質(zhì)量要求。
除了材料本身因素外,產(chǎn)品有一定的特殊要求,如電池產(chǎn)品是化學(xué)能轉(zhuǎn)變?yōu)殡娔艿囊环N裝置,其反應(yīng)過(guò)程中使電池殼體處于高溫高壓狀態(tài)下,設(shè)計(jì)者必須考慮殼體承受壓力,這就要求標(biāo)記電池殼體深度不能深;同時(shí)還存在標(biāo)刻面積范圍小(32mm×13mm)、內(nèi)容多、字體小等諸多因素,這些因素給最佳標(biāo)記參數(shù)的確定、標(biāo)刻方法的建立帶來(lái)一定的難度。
2 激光標(biāo)刻工藝
2.1 不同標(biāo)刻方法對(duì)比
針對(duì)尼龍外殼標(biāo)記問(wèn)題,采用如下兩種方法進(jìn)行了實(shí)驗(yàn):
用自動(dòng)機(jī)械刻字機(jī)刻標(biāo)牌。
用刻刀在尼龍外殼上刻字,由于尼龍外殼有微小變形,導(dǎo)致尼龍外殼不是同心圓,刻出的字跡有深有淺,甚至有沒(méi)刻出來(lái)的字跡。因刻刀轉(zhuǎn)角限制,字的筆畫(huà)多,也不易刻出。此方法不易控制,實(shí)驗(yàn)失敗,不采用此方法。
改變尼龍外殼及罩標(biāo)刻的顏色。
尼龍材料在激光的燒蝕作用下形成黑色點(diǎn)狀顆粒,導(dǎo)致標(biāo)記的字跡不連續(xù)、模糊,影響后續(xù)工作。采用改變尼龍外殼標(biāo)刻處顏色的工藝,如圖3所示,從而使字跡清晰。
圖3 改變尼龍外殼標(biāo)記處顏色的工藝
此方法解決尼龍外罩平面打標(biāo)的問(wèn)題,但是在某產(chǎn)品中,由于標(biāo)刻處為弧面,字?jǐn)?shù)多,字號(hào)小的特點(diǎn),并且涂有白色的底漆,外觀易磨損,不易于運(yùn)輸、儲(chǔ)存,其效果仍然不理想,如圖4所示。
通過(guò)上述兩種實(shí)驗(yàn)及結(jié)果分析,目前要想在尼龍這類(lèi)非金屬材料上標(biāo)記,完成產(chǎn)品標(biāo)記任務(wù),滿(mǎn)足產(chǎn)品標(biāo)識(shí)質(zhì)量要求,需要在現(xiàn)有CT-DPL激光打標(biāo)機(jī)設(shè)備上改進(jìn)標(biāo)刻參數(shù)及標(biāo)刻方法。
2.2 改進(jìn)激光標(biāo)刻工藝
2.2.1 非金屬材料的標(biāo)刻方法
非金屬材料常用的激光標(biāo)刻方法包括碳化法、雕刻方法和起泡法。
(1)碳化法。碳化法只在材料的表面下方改變它的顏色;
(2)雕刻方法。材料的表面區(qū)域通過(guò)熔化和蒸發(fā)去除,留下具有凹凸效果的標(biāo)記;
(3)起泡法。將氣體氣泡融入到材料中,使其膨脹并產(chǎn)生浮雕效果。
標(biāo)記效果好壞除了激光光束的質(zhì)量、焦點(diǎn)位置外,還取決于標(biāo)刻參數(shù):
(1)掃描速度。掃描速度越快,集中在一個(gè)點(diǎn)的時(shí)間短,不容易形成熱效應(yīng),不會(huì)形成汽化;
(2)工作電流。由于非金屬材料的導(dǎo)熱性能相對(duì)較差,電流越大,容易形成熱積累;
(3)標(biāo)記頻率。頻率越低,單位點(diǎn)作用時(shí)間短,作用功率高,從而進(jìn)行深度打標(biāo)。這些標(biāo)刻參數(shù)是相互聯(lián)系,又相互制約,只有合理設(shè)置這些參數(shù),才能獲得較好的標(biāo)刻效果。
2.2.2 激光標(biāo)刻工藝的改進(jìn)
基于對(duì)尼龍材料影響因素分析,通過(guò)激光標(biāo)刻方法及參數(shù)調(diào)整,做了大量實(shí)驗(yàn)摸索。試驗(yàn)所用樣件為厚度3mm的尼龍殼體,CT-DPL激光機(jī),輸出功率20W,透視焦距139mm,焦斑直徑0.05mm。
(1)標(biāo)刻方法的選擇。激光標(biāo)刻質(zhì)量由以下幾個(gè)參數(shù)綜合評(píng)定:標(biāo)記對(duì)比度、寬度、深度、微缺陷等。起泡法是呈浮雕效果,由于打標(biāo)圖形面積小、內(nèi)容多、字體小及尼龍內(nèi)部材料分布不均勻等特點(diǎn),此激光標(biāo)刻方法不可行,起泡法的標(biāo)刻效果如圖5所示。
圖4 改變顏色方法的標(biāo)刻效果 圖5 起泡法的標(biāo)刻效果
采用碳化法,燒蝕字跡、圖形呈不連續(xù)點(diǎn)狀結(jié)構(gòu),導(dǎo)致標(biāo)識(shí)不清晰,如圖6所示。
因尼龍殼體透明度高,裝入黑色產(chǎn)品后,呈現(xiàn)淺黑色的外殼與燒蝕字跡對(duì)比度差,字跡圖形模糊。
采用雕刻法,使殼體表面字跡呈凹凸的效果。由于尼龍材料本身或其主成分以外的雜質(zhì)分布不均勻,吸收率、發(fā)射率不同,導(dǎo)致材料內(nèi)部爆裂和碳化,如圖7所示。
圖6 碳化法的標(biāo)刻效果 圖7 雕刻法的標(biāo)刻效果
本試驗(yàn)尋找能量、頻率、速度適中,尼龍材料在激光的作用下,采用雕刻法,生成不均勻黑色燒灼物減少,同時(shí)字跡、圖形呈現(xiàn)凹的效果。
(2)標(biāo)刻參數(shù)的優(yōu)化。標(biāo)刻質(zhì)量、分辨率與激光能量、頻率、掃描速度、材料性質(zhì)等參數(shù)相互聯(lián)系,同時(shí)互相制約。激光工作電流設(shè)置直接關(guān)系到激光輸出能量,在其他參數(shù)不變的條件下,隨著工作電流的逐漸增大,打標(biāo)的寬度隨之增大,深度也相應(yīng)增加,標(biāo)記對(duì)比度越大標(biāo)記越清晰;但電流越大,積聚在尼龍殼體表面的能量越多,更易燒焦表面,圖形明顯變黃,邊界模糊不清,甚至發(fā)生燃燒現(xiàn)象。電流逐漸遞增的標(biāo)刻效果如圖8所示。
圖8 電流逐漸遞增的標(biāo)刻效果
當(dāng)電流較小時(shí),如工作電流在7A的條件下,殼體的標(biāo)刻效果不明顯,視覺(jué)觀察不出來(lái),激光標(biāo)刻效果極差,不同電流條件下的標(biāo)刻效果如圖9所示。
(a)7A (b)8A (c)9A (c)10A
圖9 不同電流條件下的標(biāo)刻效果
頻率是指單位時(shí)間內(nèi),激光出光數(shù)目的多少。相同工作電流下,頻率低對(duì)每個(gè)點(diǎn)作用的時(shí)間長(zhǎng),相應(yīng)的每個(gè)點(diǎn)的標(biāo)刻就會(huì)深,頻率高則被標(biāo)記材料由快速汽化逐漸過(guò)渡為受熱燒灼,標(biāo)記深度減少,但標(biāo)刻線條的連續(xù)性好如圖10所示。
激光標(biāo)刻速度是指單位時(shí)間內(nèi)激光所走的距離,在其他條件相同的條件下,速度越快,激光與材料相互作用的時(shí)間就越短,標(biāo)記表面來(lái)不及充分吸收激光能量,使材料的氣化量減少,從而標(biāo)記深淺度。
針對(duì)尼龍材料的特殊性能,做了大量的標(biāo)刻試驗(yàn),根據(jù)大量效果圖尋找最佳標(biāo)刻參數(shù)。當(dāng)激光工作電流為9A,頻率為0.8KHz,標(biāo)刻速度為25mm/s的條件下,尼龍材料生成不均勻黑色燒灼物減少,同時(shí)字跡呈現(xiàn)凹的效果,其標(biāo)刻效果如圖11所示。
圖11 優(yōu)化標(biāo)刻參數(shù)后的激光標(biāo)刻效果
(3)標(biāo)刻工藝的確定。通過(guò)上述實(shí)驗(yàn)研究,最終確定了合適的標(biāo)刻工藝,包括標(biāo)刻方法、合適的參數(shù)等。基于該工藝,尼龍材料在激光的作用下產(chǎn)生不均勻的大顆粒黑色燒灼物減少,同時(shí)標(biāo)刻痕跡呈現(xiàn)凹型。由于考慮到殼體裝入產(chǎn)品后,內(nèi)部為淺黑色,與標(biāo)記顏色相近,導(dǎo)致字跡不清楚。利用尼龍汽化這一特性,在標(biāo)刻痕跡的凹處涂上白漆,標(biāo)刻字跡、圖形清晰對(duì)比度強(qiáng),但由于尼龍材料中的玻璃纖維分布不均勻的特點(diǎn),在激光的作用下發(fā)生爆裂和碳化,影響標(biāo)識(shí)質(zhì)量。
考慮材料爆裂和碳化呈現(xiàn)黑色,因此決定在標(biāo)刻痕跡的凹處涂上黑漆,并用熱封機(jī)在50℃作用下的對(duì)涂好的黑漆加熱,使黑漆牢固粘接在標(biāo)刻痕跡凹面內(nèi),不易脫落。通過(guò)多次涂黑漆試驗(yàn)發(fā)現(xiàn):這種方法很好地解決了在激光標(biāo)刻過(guò)程中尼龍材料爆裂和碳化現(xiàn)象對(duì)標(biāo)識(shí)質(zhì)量的影響,保證產(chǎn)品外觀合格,且滿(mǎn)足產(chǎn)品標(biāo)識(shí)質(zhì)量要求,最終打標(biāo)效果如圖12所示。
圖12 涂抹黑油漆后的標(biāo)刻效果
3 結(jié)束語(yǔ)
文章針對(duì)實(shí)際工程問(wèn)題,基于現(xiàn)有激光標(biāo)刻設(shè)備,明確了針對(duì)尼龍殼體標(biāo)記的激光標(biāo)刻方法,尋找到合適的標(biāo)刻工藝參數(shù),解決了實(shí)際工作中尼龍殼體激光標(biāo)記出現(xiàn)圖形、字跡模糊,不清晰的問(wèn)題。該標(biāo)刻工藝已用于多項(xiàng)產(chǎn)品生產(chǎn),其均滿(mǎn)足產(chǎn)品的標(biāo)識(shí)質(zhì)量要求。
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