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        基于陣元相位調(diào)控的天線罩瞄準(zhǔn)誤差快速優(yōu)化

        2015-03-08 05:30:30萬(wàn)國(guó)賓
        電波科學(xué)學(xué)報(bào) 2015年3期
        關(guān)鍵詞:移相器天線罩先驗(yàn)

        王 威 萬(wàn)國(guó)賓 王 麗 沈 靜,2

        (1.西北工業(yè)大學(xué)電子信息學(xué)院,陜西 西安710129;2.航空電子系統(tǒng)射頻綜合仿真重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,江蘇 無(wú)錫214063)

        引 言

        天線罩是現(xiàn)代飛行器電子系統(tǒng)不可或缺的組成部分.電磁波通過(guò)天線罩時(shí)會(huì)產(chǎn)生波前畸變,致使天線指向的目標(biāo)角位置偏離實(shí)際位置,這個(gè)偏角被稱為瞄準(zhǔn)誤差[1].因?yàn)殛P(guān)系到雷達(dá)的跟蹤精度,在天線罩的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、使用階段,都有相應(yīng)的策略抑制瞄準(zhǔn)誤差.在使用階段(特別針對(duì)導(dǎo)彈天線罩),常用的方法是結(jié)合存儲(chǔ)的瞄準(zhǔn)誤差測(cè)量結(jié)果,用軟件方式通過(guò)飛行控制回路進(jìn)行補(bǔ)償.在生產(chǎn)階段,可以采用局部罩壁修磨技術(shù),通過(guò)修磨槽的尺寸和分布控制瞄準(zhǔn)誤差[2].而最基本的方法,還是在設(shè)計(jì)階段,借助合理的優(yōu)化設(shè)計(jì)讓瞄準(zhǔn)誤差消于無(wú)形.從早期的準(zhǔn)對(duì)稱相位法[1],到Hsu首先使用并得到廣泛響應(yīng)的基于進(jìn)化算法的優(yōu)化方法[3-4],瞄準(zhǔn)誤差優(yōu)化的目標(biāo)大多在于找到最合理的罩壁厚度分布,減少罩壁對(duì)天線指向的影響.同時(shí)也有另一種思路[5],將帶罩相控陣天線看作一個(gè)整體,調(diào)節(jié)天線的輻射特性,同樣能達(dá)到抑制瞄準(zhǔn)誤差的功用,它可以作為罩壁優(yōu)化方法的有益補(bǔ)充.

        當(dāng)前多數(shù)相控陣天線都通過(guò)二進(jìn)制數(shù)字移相器控制其輻射的指向.由于相位量化誤差的存在,移相器的精度直接受制于它的位數(shù),而較高位數(shù)的移相器往往意味著復(fù)雜的結(jié)構(gòu)與高昂的成本,所以需要在有限位數(shù)條件下盡力減小量化誤差.較早提出用于提高量化精度的移位加權(quán)饋相法[6],不適于加罩天線的設(shè)計(jì).而近年得到較多關(guān)注的隨機(jī)饋相法[7],更適用于陣元數(shù)目達(dá)到一定規(guī)模的情況.面對(duì)低成本市場(chǎng)需求,Ciattaglia提出一種相位偏移優(yōu)選技術(shù)[8],能有效提高基于低位移相器的小型陣列指向精度,但其計(jì)算效率尚有一定提升空間.

        此外,在天線罩優(yōu)化中常用的進(jìn)化算法需要計(jì)算大量樣本所對(duì)應(yīng)的輻射特性.因此,對(duì)于樣本適應(yīng)度函數(shù)計(jì)算,任何效率方面的提升均是有意義并且必要的.

        本文將以低位數(shù)字移相器的狀態(tài)調(diào)節(jié)為手段,建立一種天線罩瞄準(zhǔn)誤差優(yōu)化設(shè)計(jì)的快速方法.文中首先分析激勵(lì)優(yōu)化瞄準(zhǔn)誤差問(wèn)題的計(jì)算模型及其連續(xù)粒子群優(yōu)化(Particle Swarm Optimization,PSO)算法實(shí)現(xiàn),在此基礎(chǔ)上建立基于相位偏移優(yōu)選技術(shù)的帶罩天線性能離散PSO優(yōu)化方法;然后提出一種基于先驗(yàn)信息的瞄準(zhǔn)誤差高效優(yōu)化方法,改進(jìn)連續(xù)與離散PSO速度更新公式;之后通過(guò)分析帶罩天線輻射公式,建立用于計(jì)算輻射場(chǎng)的位置關(guān)系矩陣,提高優(yōu)化效率.最后給出了瞄準(zhǔn)誤差優(yōu)化驗(yàn)證算例.

        1 分析方法

        1.1 瞄準(zhǔn)誤差修正原理

        如果將天線罩的材料與結(jié)構(gòu)等參數(shù)表示為Xr,將天線陣列的激勵(lì)參數(shù)表示為Xa,帶罩天線的某一種性能參數(shù)可以表示為

        式中,Θ=[θmin,θmax]與Λ=[fmin,fmax]分別代表天線指向θ與工作頻率f的集合.在天線罩本身參數(shù)Xr已經(jīng)優(yōu)化確定的前提下,為進(jìn)一步提高帶罩天線系統(tǒng)的性能,便可對(duì)Xa進(jìn)行優(yōu)化操作.參考文獻(xiàn)[9]對(duì)天線罩厚度優(yōu)化問(wèn)題的定義,帶罩陣列激勵(lì)優(yōu)化問(wèn)題可以歸納為如下形式

        式中:u(f)與v(θ)為體現(xiàn)不同頻帶與掃描角下電性能參數(shù)要求的權(quán)函數(shù);wm為各個(gè)電性能參數(shù)的權(quán)因子;Da為激勵(lì)矢量Xa的取值空間;Lm與Um表示性能參數(shù)Gm的允許取值上下限.

        為了實(shí)現(xiàn)以瞄準(zhǔn)誤差優(yōu)化為主,兼顧透波率優(yōu)化的目標(biāo),選擇調(diào)節(jié)天線陣激勵(lì)相位,使所需天線罩系統(tǒng)參數(shù)達(dá)到最佳.根據(jù)數(shù)值計(jì)算需要,可將θ限制在若干離散點(diǎn)上.對(duì)于單一頻率優(yōu)化問(wèn)題,可以忽略其影響.于是優(yōu)化問(wèn)題可表示為

        式中:B(Xa,θ)代表天線罩的瞄準(zhǔn)誤差;P(Xa,θ)代表透波率;代表第n陣列單元的相位;表示φn的基準(zhǔn)值;ε表示φn的可調(diào)節(jié)范圍.若陣元間隔為d,波長(zhǎng)為λ可由下式確定

        通過(guò)為式(3)中的權(quán)重因子w1與w2選擇合適的值,即可實(shí)現(xiàn)瞄準(zhǔn)誤差為首要控制參數(shù)的期望.

        1.2 瞄準(zhǔn)誤差修正實(shí)現(xiàn)過(guò)程

        PSO方法的每次迭代過(guò)程中,粒子通過(guò)個(gè)體極值和群體極值更新自身的速度和位置,即

        式中:Vs,n為粒子速度;Xs,n為粒子位置;Ps,n為個(gè)體極值;Pg,n為群體極值;δ為慣性權(quán)重;k為當(dāng)前迭代次數(shù);c1和c2是加速度因子;r1和r2是分布于[0,1]區(qū)間的隨機(jī)數(shù).瞄準(zhǔn)誤差優(yōu)化中用于評(píng)價(jià)粒子的適應(yīng)度函數(shù)為

        粒子X(jué)s表示相位調(diào)節(jié)量ξ=φ-φ0.

        公式(5)、(6)基于相位連續(xù)可調(diào)的假設(shè),而實(shí)際優(yōu)化中相位通常由移相器控制,只能是最小調(diào)節(jié)量φs的整數(shù)倍,所以有必要建立針對(duì)數(shù)字相位的優(yōu)化方法.我們?cè)谙辔粩?shù)字優(yōu)化過(guò)程中采用一種相移優(yōu)選技術(shù)[8].對(duì)各個(gè)陣元相位基準(zhǔn)值加入等量的相移K,K的加入并不改變理論天線指向,但會(huì)影響數(shù)字化后的移相器狀態(tài)值由下式得到

        式中:round表示取整運(yùn)算;mod表示求余運(yùn)算;Γ為移相器位數(shù).通過(guò)選擇合適的K,可以用較低位數(shù)移相器取得符合要求的相位數(shù)字化效果.

        數(shù)字相位優(yōu)化依然采用式(3)定義的優(yōu)化過(guò)程,但矢量Xa包括了相移K與數(shù)字相位ψ,即

        式中,可調(diào)范圍ε′是一個(gè)有限的整數(shù),因?yàn)棣譶只能在有限的臨近狀態(tài)位置上跳變.

        對(duì)于Γ位移相器,陣元相位狀態(tài)ψ可以由一個(gè)?!罭長(zhǎng)度的位數(shù)序列表示,例如當(dāng)Γ為4時(shí),有

        b為0或1.如果相位狀態(tài)ψ在優(yōu)化中作2位偏移,而K作10位離散,那么粒子X(jué)s可表示為

        離散PSO的粒子更新公式為:

        1.3 基于先驗(yàn)信息的高效優(yōu)化

        若Δ(θ)表示天線罩對(duì)天線指向θ造成的偏轉(zhuǎn)角.對(duì)期望指向θ的帶罩天線系統(tǒng)而言,當(dāng)天線指向角為θ-Δ(θ)時(shí),系統(tǒng)瞄準(zhǔn)誤差接近于0.所以使天線指向θ-Δ(θ)的相移ξe接近于優(yōu)化的最終解,并有

        為了在PSO優(yōu)化中更高效準(zhǔn)確地得到最優(yōu)解,可以利用ξe這一已知信息改良現(xiàn)有迭代公式.對(duì)于連續(xù)PSO,可建立近似解Pe=ξe,修改式(5)中的速度公式為

        在改進(jìn)迭代公式(16)中,粒子的位置更新不再僅僅依靠跟蹤個(gè)體極值Ps與群體極值Pg,而且會(huì)參考近似解Pe的位置.Ps、Pg與Pe的影響力由權(quán)重系數(shù)控制.在迭代初期,σ的值較小,將促進(jìn)粒子快速向近似解附近區(qū)域移動(dòng),因?yàn)檫@也是精確解所在的區(qū)域;之后,σ的值會(huì)迅速變大,并趨于1,表明近似解對(duì)算法的干擾作用受到了抑制,有利于精確實(shí)現(xiàn)局部搜索.

        對(duì)于離散PSO,近似解Pe由最優(yōu)相移Ke與最佳移相器狀態(tài)ψe編碼得到.Ke與ψe應(yīng)使天線指向最接近θ-Δ(θ),它們的值可以通過(guò)在K的定義區(qū)間內(nèi)采樣計(jì)算后尋優(yōu)獲得.

        1.4 數(shù)值算法效率提升

        如圖1所示的二維天線—罩系統(tǒng),相控陣天線呈一組平行于z軸的無(wú)限長(zhǎng)線電流激勵(lì)源Ⅰn(n=1,2,…,N),陣元間隔為d.天線罩長(zhǎng)為L(zhǎng),底部直徑為D.罩內(nèi)表面第p(p=1,2,…,P)個(gè)剖分單元處的入射電磁場(chǎng)為:

        圖1 帶罩陣列天線示意圖

        式中:ω是電磁波角頻率;k是自由空間波數(shù);μ0是自由空間導(dǎo)磁率;ρpn為源點(diǎn)與場(chǎng)點(diǎn)的距離;分別為第二類和第一類零階漢克爾函數(shù).通過(guò)傳輸線矩陣法,可以由罩內(nèi)表面入射電磁場(chǎng)求得罩外表面上的等效電流J與等效磁流M,具體過(guò)程見(jiàn)文獻(xiàn)[9].等效電磁流在遠(yuǎn)場(chǎng)點(diǎn)q處的輻射電場(chǎng)用數(shù)值積分可以表示為

        式中:lp為罩外表面剖分區(qū)間長(zhǎng)度;βqp為輻射方向與外表面法向矢量的夾角.

        如果設(shè)

        那么式(17)至(19)可以表示為如下形式:

        因?yàn)榫仃嘩1、W2代表了輻射場(chǎng)與空間位置的關(guān)系,并不受源電流特性的影響,所以能夠預(yù)先計(jì)算以提升求解速度.這使在較短時(shí)間內(nèi)完成大量?jī)?yōu)化工作成為可能.

        2 優(yōu)化算例與結(jié)果分析

        優(yōu)化一個(gè)包含線陣的正切卵形天線罩系統(tǒng).等幅線陣單元數(shù)N為16,間距d為0.5λ,頻率為13 GHz.天線罩長(zhǎng)L為24λ,底部直徑D為12λ,罩厚為0.282 3λ,相對(duì)介電常數(shù)為4,損耗正切為0.015.分別用連續(xù)PSO與離散PSO進(jìn)行直接優(yōu)化與基于先驗(yàn)信息的優(yōu)化.適應(yīng)度函數(shù)的權(quán)重因子w1取3,w2取1.帶罩天線系統(tǒng)的掃描角范圍選?。?°,50°],連續(xù)相位優(yōu)化的補(bǔ)償范圍為[-10°,10°].離散相位優(yōu)化中,移相器位數(shù)取4,相位補(bǔ)償位數(shù)取1,這樣相位補(bǔ)償值將為0°或22.5°.相移K的調(diào)節(jié)范圍為[-180°,180°],K在優(yōu)化中做12位離散,取值間隔小于0.1°.

        差方向圖瞄準(zhǔn)誤差的優(yōu)化效果如圖2所示.對(duì)于連續(xù)相位情況,優(yōu)化后系統(tǒng)的瞄準(zhǔn)誤差低于0.001°,對(duì)于4位數(shù)字相位情況,優(yōu)化后瞄準(zhǔn)誤差低于0.03°.

        表1列舉了部分掃描角處的詳細(xì)相位參數(shù).由于4位移相器有16種狀態(tài),數(shù)字相位在這里用十六進(jìn)制數(shù)字表示.12位離散的最優(yōu)相移量Kbest由3位十六進(jìn)制數(shù)字代表.由于Kbest的作用,雖然只進(jìn)行了一位相位補(bǔ)償,優(yōu)化前后陣元的相位狀態(tài)有較大差別.

        表1 差方向圖優(yōu)化前后的部分相位參數(shù)

        圖3比較了不同離散相位優(yōu)化方法得到的瞄準(zhǔn)誤差.不考慮先驗(yàn)信息,直接優(yōu)化后的最大瞄準(zhǔn)誤差為0.056°,與基于先驗(yàn)信息優(yōu)化得到的0.03°相差不大.將相移K固定為0,優(yōu)化后最大瞄準(zhǔn)誤差達(dá)到0.7°.可見(jiàn)通過(guò)優(yōu)化相移K,能顯著降低帶罩天線系統(tǒng)的瞄準(zhǔn)誤差,這也說(shuō)明低位移相器數(shù)字量化誤差對(duì)系統(tǒng)瞄準(zhǔn)誤差的貢獻(xiàn)不容忽視.

        圖4給出了連續(xù)相位優(yōu)化情況下,掃描角15°的優(yōu)化中,最優(yōu)解對(duì)應(yīng)的適應(yīng)度函數(shù)曲線.無(wú)論是否采用先驗(yàn)優(yōu)化方法,PSO的初始粒子群都是隨機(jī)生成的,這里直接優(yōu)化得到了更好的初始最優(yōu)值.之后先驗(yàn)優(yōu)化便迅速收斂,20步迭代即達(dá)到穩(wěn)定;而直接優(yōu)化要到46步迭代才獲得最優(yōu)解.

        15°掃描角時(shí),離散相位系統(tǒng)優(yōu)化前后的輻射方向圖如圖5所示,優(yōu)化并沒(méi)有改變方向圖的分布趨勢(shì),主瓣寬度也未受到影響,遠(yuǎn)離輻射方向處的旁瓣電平略有提高.

        圖2 帶罩天線優(yōu)化前后的差方向圖瞄準(zhǔn)誤差

        圖3 離散相位優(yōu)化中先驗(yàn)信息修正及K的影響

        圖4 先驗(yàn)信息修正對(duì)收斂速度的影響

        圖5 離散優(yōu)化前后15°指向的方向圖比較

        3 結(jié) 論

        本文提出了一種新的天線罩瞄準(zhǔn)誤差快速優(yōu)化技術(shù).基于小規(guī)模陣列與低位數(shù)字移相器,通過(guò)帶有偏移量?jī)?yōu)選技術(shù)的離散PSO方法,調(diào)節(jié)陣元相位補(bǔ)償值,實(shí)現(xiàn)瞄準(zhǔn)誤差的精確優(yōu)化.同時(shí)為提高效率,提出了基于先驗(yàn)信息的快速優(yōu)化方法,以及基于輻射關(guān)系矩陣的數(shù)值計(jì)算加速方法.雖然本文的公式推導(dǎo)與算例分析限于二維情況,但其思想完全適用于三維天線罩的優(yōu)化工作.

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