武器工業(yè)

含能共晶堆積結(jié)構(gòu)的理論研究

張安幫，曹耀峰，馬宇，等

采用Hirshfeld面、指紋圖的方法，從密度、堆積系數(shù)、分子間相互作用的相對貢獻方面，研究了已報道的六硝基六氮雜異伍茲烷（CL-20）、環(huán)四甲撐四硝胺（HMX）、苯并三呋咱氮氧化物（BTF）及2,4,6-三硝基甲苯（TNT）基含能共晶的堆積結(jié)構(gòu)。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，絕大部分含能共晶的堆積系數(shù)處于兩組分之間。不同含能共晶中的相同含能分子與周圍分子間相互作用的方向和大小不同。CL-20共晶中O…H、O…O作用所占比例之和大于70%，說明它們是晶體穩(wěn)定的主導作用。HMX共晶中O…H作用所占比例大于50%，說明弱氫鍵占主導地位。與CL-20共晶和HMX共晶相比，BTF和TNT共晶中，C…O和C…C作用占較高比例，說明π堆積作用明顯。

含能共晶；堆積系數(shù)；Hirshfeld面；指紋圖

來源出版物：含能材料, 2015, 23(9): 848-857

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