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        聚纈氨酸修飾電極伏安法測定曲酸*

        2014-12-16 08:01:54馬心英陳美鳳李方珍
        食品與發(fā)酵工業(yè) 2014年1期
        關鍵詞:纈氨酸伏安電位

        馬心英,陳美鳳,李方珍

        (菏澤學院化學化工系,山東菏澤,274015)

        曲酸(kojic acid,麴酸)是大多數(shù)曲霉屬和青霉屬真菌產(chǎn)生的一種常見的弱酸性代謝產(chǎn)物,化學名稱為 5-羥基-2-羥甲基-γ-吡喃酮[1-2],存在于醬油、豆瓣醬、酒類等釀造產(chǎn)物中,有抗菌和多酚氧化酶抑制作用,近年來由于曲酸在食品、化妝品及藥物中的廣泛應用,其安全性成為人們關注的焦點。2005年,日本突然指出曲酸具有致癌性,并宣布禁止將曲酸作為食品添加劑使用[3]。盡管少量的曲酸不會對人體構成威脅[4],但研究表明連續(xù)過度使用曲酸會致癌[5-7],因此建立簡單快速的曲酸測定方法非常有必要。目前,對曲酸的分析方法不多,已經(jīng)報道的主要有分光光度法[8-9]、高效液相色譜法[3]、毛細管電泳法[10]。這幾種方法的操作步驟復雜,檢測時間長,檢測費用高,對儀器要求高。采用電化學法檢測曲酸[11-13]具有操作簡單快速,選擇性好,靈敏度高等優(yōu)點,目前國內(nèi)用電化學方法檢測曲酸報道較少[14-15],特別是化學修飾電極法。電極表面經(jīng)過修飾后,具有某些新功能,有利于提高電極的靈敏度和選擇性、改善電極的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性[16-19]。氨基酸由于其分子結構含有羧基和氨基,作為化學修飾電極材料具有很多獨特的性質(zhì),我們曾經(jīng)用聚纈氨酸修飾電極成功測定去甲腎上腺素[20]。

        本實驗用聚纈氨酸修飾電極測定曲酸,研究了曲酸在修飾電極上的電化學行為,并用于食品中曲酸含量的測定。本修飾電極制備簡單,選擇性好,響應快,穩(wěn)定性好,有較高的靈敏度,有較好的應用前景。

        1 材料與方法

        1.1 儀器和試劑

        CHI660C電化學工作站,上海辰華儀器公司;PHS-3B型酸度計,上海精密科學儀器有限公司;KQ-100型超聲波清洗器,昆山市超聲波儀器廠;電化學實驗用三電極系統(tǒng),聚纈氨酸修飾電極為工作電極,鉑絲電極為對電極,Ag/AgCl電極為參比電極。

        曲酸標準品(中國藥品生物制品檢定所),用水配制成8.00×10-4mol/L溶液,避光保存;

        纈氨酸(天津市光復精細化工研究所),配制成2.50×10-3mol/L溶液;

        Na2HPO4-C6H8O7·H2O,配制成 PBS緩沖溶液;HAc-NaAc配制成ABS緩沖溶液。所用試劑均為分析純,實驗用水均為二次石英重蒸水。

        1.2 聚纈氨酸修飾電極的制備

        將玻碳電極(Φ=3.8 mm)在濕潤的金相砂紙(粒度為2000)上磨光,然后在濕潤的 Al2O3(0.05 μm)上拋光成鏡面,依次用 HNO3(1∶1,V/V)、無水乙醇、二次石英亞沸蒸餾水超聲清洗(1 min/次)。在5.00×10-4mol/L纈氨酸pH 8.0 PBS中,以玻碳電極為工作電極,Ag/AgCl電極為參比電極,鉑絲電極為對電極,在-1.4~2.6 V電位范圍內(nèi),以140 mV/s掃描速率循環(huán)掃描9周,取出用二次蒸餾水淋洗電極表面,即制得聚纈氨酸修飾電極。

        1.3 實驗方法

        在pH5.4 ABS中,加入一定量曲酸,以聚纈氨酸修飾電極為工作電極,Ag/AgCl電極為參比電極,鉑絲電極為對電極,在0.5~1.4 V電位范圍內(nèi),以120 mV/s掃描速率進行循環(huán)掃描,記錄峰電位和峰電流。每次掃描結束后,將電極置于空白底液中循環(huán)掃描至峰消失,用二次蒸餾水沖洗,濾紙吸干后,即可進行下一次測定。

        2 結果與討論

        2.1 聚纈氨酸修飾電極電化學聚合條件

        電化學聚合條件影響修飾電極的性能,測定不同的底物,聚纈氨酸修飾電極的聚合條件不同。對于曲酸的測定,討論了制備聚纈氨酸修飾電極的聚合底液的pH、聚合高低電位、聚合周數(shù)及掃描速率。實驗結果表明,在5.00×10-4mol/L纈氨酸pH8.0 PBS中,在-1.4~2.6 V電位范圍內(nèi),以140 mV/s掃描速率循環(huán)掃描9周,所制備的修飾電極對曲酸的測定具有最大的電流響應,對曲酸的電化學氧化催化效果最好。圖1為纈氨酸在最佳聚合條件聚合過程的循環(huán)伏安圖。由圖可見,在掃描2周之后,隨掃描周數(shù)的增加,氧化峰電位正移,還原峰電位負移,而峰電流增加,但增加幅度減小,最后氧化峰和還原峰都達到了穩(wěn)定。聚合完成后,可觀察到玻碳電極表面有深藍色膜存在,圖2為聚纈氨酸修飾膜掃描電子顯微鏡圖,表明纈氨酸在電極表面形成了多分子層修飾膜。

        圖1 纈氨酸在玻碳電極表面聚合過程的循環(huán)伏安曲線Fig.1 Cyclic voltammograms for electropolymerization of valine on a GCE surface

        2.2 曲酸在聚纈氨酸修飾電極上的電化學特性

        圖3為曲酸分別在玻碳電極(1)、聚纈氨酸修飾電極(2)上的循環(huán)伏安曲線,由圖3可見:曲酸在裸玻碳電極上的氧化峰電流為:ipa1=4.45 μA,而在聚纈氨酸修飾電極上氧化峰電流為:ipa2=9.45 μA,與裸玻碳電極相比,曲酸在聚纈氨酸修飾電極上的氧化峰電流明顯增大1倍多,說明聚纈氨酸修飾膜對曲酸電化學氧化具有良好的催化作用,有利于曲酸在電極上的電化學氧化。從循環(huán)伏安曲線上未觀察到還原峰,說明曲酸在修飾電極上的電極反應不可逆。

        圖2 聚纈氨酸修飾膜的掃描電子顯微鏡圖Fig.2 SEM image of the surface of the poly(valine)modified electrode

        圖3 曲酸在玻碳電極(1)和聚纈氨酸修飾電極(2)上的循環(huán)伏安曲線Fig.3 Cyclic voltammograms of kojic acid(1.00×10-4mol/L)at(1)the bare electrode and(2)the a poly(valine)modified electrode in pH 5.0 HAc-NaAc

        2.3 測定曲酸的最佳條件

        2.3.1 測定底液pH的影響

        研究了曲酸在 H2SO4、HNO3、NH3·H2O-NH4Cl、KH2PO-Na2HPO4,HAc-NaAc等介質(zhì)中的伏安行為,結果表明,在HAc-NaAc緩沖介質(zhì)中曲酸在修飾電極上的氧化峰電流最大,因此選擇HAc-NaAc緩沖溶液作為測定底液。由于氧化過程涉及到質(zhì)子的參與,因此測定底液pH對電極反應的影響較大。固定其他實驗條件不變,只改變測定底液的pH進行實驗,結果表明pH在3.8~5.4的范圍內(nèi)隨底液pH的升高,曲酸在修飾電極上氧化峰電流逐漸增大,當pH等于5.4時,曲酸氧化峰電流達到最大值,隨后降低(圖4),故本實驗選pH為5.4的ABS為測定底液。實驗結果還表明,曲酸氧化峰電位隨著pH值的升高發(fā)生負移,在pH3.8~5.8之間,其線性回歸方程為Epa=1.27-0.066pH,相關系數(shù) r=0.992 5,斜率為0.066,接近0.059,說明曲酸在氧化過程中涉及質(zhì)子的參與,且質(zhì)子轉移數(shù)等于電子轉移數(shù),其可能的電極反應式為[19]:

        圖4 2.00×10-4mol/L曲酸在聚纈氨酸修飾電極上的隨pH變化的CV曲線Fig.4 Cyclic voltammograms of 2.00×10-4mol/L kojic acid at a poly(valine)modified electrode in HAc-NaAc of various pH

        2.4.2 測定電位的影響

        測定電位范圍對曲酸在修飾電極上的氧化峰電流大小有一定影響。固定測定低電位為0.5 V及其他條件不變,只改變高電位進行實驗,結果表明,當高電位為1.4 V時,曲酸在修飾電極上的響應電流最大;固定測定高電位為1.4 V及其他條件不變,當?shù)碗娢粸?.5 V時,曲酸在修飾電極上的響應電流最大,故本實驗選擇的測定電位范圍為0.5~1.4 V。

        2.4.3 掃描速度的影響

        改變掃描速度進行實驗,結果表明,氧化峰電流與掃描速度的大小呈線性關系(圖5),其線性回歸方程為:ipa=9.66×10-8v+6.34×10-6,相關系數(shù)為:r=0.999 1;說明曲酸在修飾電極上的電極過程為吸附過程。隨掃描速度的增加,峰電流增加(圖5)在掃描速度為120 mV/s時,峰形最好,故本實驗選用掃描速度為120 mV/s。

        2.5 工作曲線和重現(xiàn)性

        由于曲酸易于與一些金屬離子配位,而且EDTA和Na2SO3溶液的加入對曲酸的電化學響應影響很小,因此在測定底液中加入0.3 mol/L EDTA作為金屬離子的掩蔽劑,加入質(zhì)量分數(shù)為1%的Na2SO3作為抗氧化劑,以防止Fe3+的干擾,并且實驗采用加入EDTA和Na2SO3后的體系做工作曲線。在最佳實驗條件下,用循環(huán)伏安法對不同濃度的曲酸標準溶液進行測定(循環(huán)伏安曲線如圖6)。實驗結果表明,曲酸標準溶液在濃度范圍7.00×10-6~6.50×10-4mol/L內(nèi)與氧化峰電流有良好的線性關系,其線性回歸方程為ipa=3.89×10-6+0.048c,相關系數(shù)為 r=0.998 3,檢出限為8.50×10-7mol/L。

        圖5 不同掃速下2.00×10-4mol/L的曲酸在聚纈氨酸修飾電極上的循環(huán)伏安圖Fig.5 Cyclic voltammograms of 2.00×10-4mol/L kojic acid at a poly(valine)modified electrode

        用聚纈氨酸修飾電極對2.00×10-5mol/L曲酸標準溶液進行測定5次,測得結果的RSD為1.4%,表明該電極對曲酸的測定有較好的重現(xiàn)性。

        圖6 不同濃度的曲酸在聚纈氨酸修飾電極上的循環(huán)伏安曲線Fig.6 Cyclic voltammograms of kojic acid at various concentrations at a poly(valine)modified electrode in pH 5.4 HAc-NaAc.Scan rate:120 mV/s

        2.6 干擾實驗

        在上述實驗條件下,以1.20×10-5mol/L的曲酸作干擾離子實驗。實驗結果表明,在允許相對誤差在±5%范圍內(nèi),100倍于曲酸量的K+、Ca2+、Mg2+、、檸檬酸根、蔗糖,10倍的抗壞血酸不干擾測定。

        2.7 樣品及回收率的測定

        稱取黃豆醬10.20 g,粉碎至糊狀,加水30.00 mL稀釋,攪勻,用真空抽濾泵進行抽濾得抽濾液,所得殘渣洗滌2次,收集濾液轉移至100 mL容量瓶,加入5 mL 0.3 mol/L EDTA溶液,掩蔽金屬離子,加入5 mL質(zhì)量分數(shù)為1.00%Na2SO3溶液,防止Fe3+干擾,用二次蒸餾水定容。取一定量配制好的黃豆醬稀釋液,加入一定量pH5.4ABS緩沖溶液于電解池中,對其進行測定,并進行回收率實驗,所得結果為電解池中曲酸濃度,見表1。計算得該黃豆醬中所含曲酸的質(zhì)量分數(shù)為0.11%。

        取25.00黃酒樣品分別于100.00 mL容量瓶中,分別加入2.00 mL 0.03 mol/L EDTA溶液,2.00 mL 1.00%Na2SO3溶液,再用pH 5.4ABS緩沖溶液稀釋至刻度,取一定量在最佳實驗條件下測定并進行回收率實驗,所得結果為電解池中曲酸濃度。計算得該黃酒中所含曲酸的含量為37.63 mg/kg,結果見表1。

        表1 樣品中曲酸的測定結果Table 1 Determination results of kojic acid in samples(n=6)

        3 實驗結論

        利用電化學方法制備了聚纈氨酸修飾電極,聚合條件影響修飾電極的催化效果。在pH=5.4醋酸鹽緩沖溶液中,聚纈氨酸修飾電極對曲酸電化學氧化具有良好催化作用,利用該修飾電極可準確地測定曲酸的含量。其線性范圍為7.00×10-6~6.50×10-4mol/L,相關系數(shù)為r=0.998 3,檢出限為8.50×10-7mol/L,回收率為96.0% ~99.0%之間,可用于黃豆醬及黃酒中曲酸含量的測定。

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